專利名稱：半導(dǎo)體元件清洗機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體元件的清洗裝置，尤其涉及一種具有清洗無死角的功效的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)。
背景技術(shù)：
一般濕式的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，最常見的是以噴嘴噴出清洗液，噴洗半導(dǎo)體元件；但由于噴洗的清洗方式，僅能表面清洗半導(dǎo)體元件，對(duì)于具有縫隙的半導(dǎo)體元件，因清洗液難以有效地進(jìn)入縫隙中，無法達(dá)到充分清洗縫隙的效果，亦即存在清洗死角。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的主要技術(shù)問題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，而提供一種半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其具有清洗無死角的功效。
本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其特征在于，是在一機(jī)臺(tái)設(shè)置有一清洗槽，槽內(nèi)底緣設(shè)置一蓄液環(huán)，蓄液環(huán)內(nèi)部連接有通至浸泡液供給槽的注液管，與通至浸泡液回收槽內(nèi)排液管，蓄液環(huán)外部連接有通至浸泡液回收槽的外排液管，槽身外部設(shè)有超音波震動(dòng)器；一轉(zhuǎn)盤，設(shè)置于該清洗槽的蓄液環(huán)內(nèi)部，而由一設(shè)于清洗槽外部的動(dòng)力源予以驅(qū)動(dòng)；一清洗旋臂，相對(duì)該轉(zhuǎn)盤設(shè)置于該清洗槽內(nèi)部，而布設(shè)有比該轉(zhuǎn)盤半徑長的噴嘴列，該噴嘴列連接有噴流液供給管及干燥氣供給管。
前述的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其中清洗旋臂設(shè)成可往復(fù)旋轉(zhuǎn)90度，另包括加設(shè)連接有噴洗液供給管的二流體噴嘴列。
前述的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其中清洗槽外緣包覆有加熱毯。
前述的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其中清洗槽槽頂設(shè)有靜電消除劑噴嘴。
前述的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其中清洗槽槽身設(shè)有排氣孔。
本實(shí)用新型的有益效果是，其具有清洗無死角的功效。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。


圖1是本實(shí)用新型的組合結(jié)構(gòu)主視圖圖2是本實(shí)用新型的組合結(jié)構(gòu)俯視圖圖中標(biāo)號(hào)說明10機(jī)臺(tái)27靜電消除劑噴嘴11浸泡液供給槽28排氣孔12浸泡液回收槽30轉(zhuǎn)盤20清洗槽 31動(dòng)力源21蓄液環(huán) 40清洗旋臂22注液管 41噴嘴列23內(nèi)排液管42噴洗液供給管24外排液管43干燥氣供給管25超音波震動(dòng)器44噴洗液供給管26加熱毯 45二流體噴嘴列具體實(shí)施方式
首先，請(qǐng)參閱
圖1、圖2所示，本實(shí)用新型是在一機(jī)臺(tái)10設(shè)置有一清洗槽20，槽內(nèi)底緣設(shè)置一蓄液環(huán)21，蓄液環(huán)21內(nèi)部連接有通至浸泡液供給槽11的注液管22，與通至浸泡液回收槽12的內(nèi)排液管23，且在蓄液環(huán)21外部連接有通至浸泡液回收槽12的外排液管24，又在槽身外部設(shè)有超音波震動(dòng)器25；此外，槽外緣包覆有加熱毯26，槽頂則設(shè)有靜電消除劑噴嘴27，槽身設(shè)有排氣孔28；一轉(zhuǎn)盤30，設(shè)置于該清洗槽20的蓄液環(huán)21內(nèi)部，而由一設(shè)于清洗槽20外部的動(dòng)力源31驅(qū)動(dòng)；一清洗旋臂40，相對(duì)該轉(zhuǎn)盤設(shè)置于該清洗槽20內(nèi)部，而布設(shè)有比該轉(zhuǎn)盤30半徑長的噴嘴列41，且令該噴嘴列41連接有噴洗液供給管42及干燥氣供給管43。
又，該清洗旋臂40設(shè)成可往復(fù)旋轉(zhuǎn)90度，但不限定于此，其可加設(shè)連接有噴洗液供給管44的二流體噴嘴列45，以提升噴洗的清洗效果；然而，前述的二流體噴嘴是利用壓縮空氣高速流動(dòng)的原理，使噴出的液體更為微?；膰娮臁?br> 基于上述結(jié)構(gòu)，本實(shí)用新型是先在清洗槽20的蓄液環(huán)21，借助通至浸泡液供給槽11的注液管22注入浸泡液，且由超音波震動(dòng)器25使清洗槽20槽身震動(dòng)，而對(duì)放置于轉(zhuǎn)盤30的半導(dǎo)體元件，產(chǎn)生浸泡清洗加超音波清洗的效果；其中，浸泡清洗加超音波清洗的過程中，溢出蓄液環(huán)21的浸泡液，是由外排液管24流至浸泡液回收槽12；而浸泡清洗加超音波清洗的程序結(jié)束時(shí)，蓄液環(huán)21內(nèi)部所蓄積的浸泡液，則由內(nèi)排液管23流至浸泡液回收槽12。
接著，清洗旋臂40的噴嘴列41，先是噴出噴洗液噴洗放置于轉(zhuǎn)盤30的半導(dǎo)體元件，產(chǎn)生噴洗的清洗效果；然后，噴嘴列41停止噴出噴洗液的噴洗程序，改為噴出干燥氣，進(jìn)行最終的干燥程序。而進(jìn)行干燥程序之前，可由加設(shè)的二流體噴嘴列45，以更微?；瘒娤匆海嵘龂娤吹那逑葱Ч?。
因此，本實(shí)用新型在常見的噴洗方式外，融入浸泡及震動(dòng)清洗，而具有清洗無死角的功效。
以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
綜上所述，本實(shí)用新型在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、使用實(shí)用性及成本效益上，完全符合產(chǎn)業(yè)發(fā)展所需，且所揭示的結(jié)構(gòu)亦是具有前所未有的創(chuàng)新構(gòu)造，具有新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性，符合有關(guān)新型專利要件的規(guī)定，故依法提起申請(qǐng)。
權(quán)利要求1.一種半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其特征在于，是在一機(jī)臺(tái)設(shè)置有一清洗槽，槽內(nèi)底緣設(shè)置一蓄液環(huán)，蓄液環(huán)內(nèi)部連接有通至浸泡液供給槽的注液管，與通至浸泡液回收槽內(nèi)排液管，蓄液環(huán)外部連接有通至浸泡液回收槽的外排液管，槽身外部設(shè)有超音波震動(dòng)器；一轉(zhuǎn)盤，設(shè)置于該清洗槽的蓄液環(huán)內(nèi)部，而由一設(shè)于清洗槽外部的動(dòng)力源予以驅(qū)動(dòng)；一清洗旋臂，相對(duì)該轉(zhuǎn)盤設(shè)置于該清洗槽內(nèi)部，而布設(shè)有比該轉(zhuǎn)盤半徑長的噴嘴列，該噴嘴列連接有噴流液供給管及干燥氣供給管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其特征在于所述清洗旋臂設(shè)成可往復(fù)旋轉(zhuǎn)90度，另包括加設(shè)連接有噴洗液供給管的二流體噴嘴列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其特征在于所述清洗槽外緣包覆有加熱毯。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其特征在于所述清洗槽槽頂設(shè)有靜電消除劑噴嘴。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，其特征在于所述清洗槽槽身設(shè)有排氣孔。
專利摘要一種半導(dǎo)體元件清洗機(jī)，是在一機(jī)臺(tái)設(shè)置有一清洗槽，槽內(nèi)底緣設(shè)置一蓄液環(huán)，蓄液環(huán)內(nèi)部連接有通至浸泡液供給槽的注液管，與通至浸泡液回收槽內(nèi)排液管，蓄液環(huán)外部連接有通至浸泡液回收槽的外排液管，槽身外部設(shè)有超音波震動(dòng)器；一轉(zhuǎn)盤，設(shè)置于該清洗槽的蓄液環(huán)內(nèi)部，而由一設(shè)于清洗槽外部的動(dòng)力源予以驅(qū)動(dòng)；一清洗旋臂，相對(duì)該轉(zhuǎn)盤設(shè)置于該清洗槽內(nèi)部，而布設(shè)有比該轉(zhuǎn)盤半徑長的噴嘴列，該噴嘴列連接有噴流液供給管及干燥氣供給管。本實(shí)用新型具有清洗無死角的功效。
文檔編號(hào)B08B3/12GK2889529SQ20052013105
公開日2007年4月18日 申請(qǐng)日期2005年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月31日
發(fā)明者吳永清 申請(qǐng)人:吳永清