專(zhuān)利名稱(chēng)：用于從待清潔的區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒的清潔裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于從待清潔的區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒的清潔裝置，該裝置包括-殼體，具有將要定位在待清潔的區(qū)域上的開(kāi)口；-可在裝置內(nèi)運(yùn)動(dòng)的部件，用于生成用以從該區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒的氣流。
背景技術(shù)：
一種如在第 一 段中描述的用于釋放和運(yùn)送顆粒的清潔裝置例如 可以從專(zhuān)利申請(qǐng)US 2002/0084218 Al獲知。這一文獻(xiàn)7>開(kāi)了一種利 用圓柱環(huán)狀渦流來(lái)釋放和運(yùn)送灰塵顆粒的改進(jìn)的真空清潔器。氣流 借助葉輪來(lái)建立并且用來(lái)沿著內(nèi)罩或者通過(guò)設(shè)置于葉輪和面向待清 潔區(qū)域的殼體端面之間的內(nèi)管來(lái)釋放和運(yùn)送灰塵顆粒。在具有所述 內(nèi)管的設(shè)置中，已經(jīng)通過(guò)該管釋放和運(yùn)送的顆粒由于氣流的離心作 用而被拋到灰塵收集器的圓形側(cè)壁。隨后經(jīng)由圍繞內(nèi)管的外管朝著 待清潔的區(qū)域遞送空氣。這一 已知裝置的問(wèn)題在于它的功率消耗相對(duì)較高。這主要是由 于壓力差所致，在應(yīng)用時(shí)需要用葉輪產(chǎn)生該壓力差以便沿著內(nèi)罩或 者在內(nèi)管內(nèi)運(yùn)送正在釋放的顆粒。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種需要較少能量來(lái)從待清潔的區(qū)域釋 放和運(yùn)走顆粒的清潔裝置。根據(jù)本發(fā)明，在前一段中提到的目的借助根據(jù)權(quán)利要求1前序 部分所述的 一 種用于從待清潔的區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒的清潔裝置來(lái)
實(shí)現(xiàn)，其中部件包括設(shè)置于殼體內(nèi)的氣流生成表面，所述氣流生成 表面在運(yùn)行狀態(tài)下面向待清潔的區(qū)域并且具有與所述區(qū)域基本上平 行的運(yùn)動(dòng)方向以便造成平行于所述區(qū)域的氣流。通過(guò)運(yùn)動(dòng)的氣流生成表面所產(chǎn)生的氣流將由此在垂直方向上 (即垂直于待清潔的區(qū)域)表現(xiàn)出氣流速度的很大梯度。在這一情 況下，在待清潔的區(qū)域處或者接近待清潔的區(qū)域處的速度將基本上 為零，而在氣流生成表面處存在最大氣流速度。根據(jù)所謂的柏努利(Bernoulli)原理，這一梯度將使顆粒脫離該區(qū)域并且在氣流的方向 上從該區(qū)域運(yùn)走，這將在下文詳細(xì)討論。對(duì)照而言，如在US 2002/0084218 Al中公開(kāi)的裝置建立用以在垂直方向上釋放和運(yùn)送 灰塵顆粒的明顯壓力差，例如在殼體與灰塵收集系統(tǒng)之間的、用于 通過(guò)內(nèi)管進(jìn)行運(yùn)送的壓力差。根據(jù)本發(fā)明，重要的是在運(yùn)行狀態(tài)下在氣流生成表面與其上帶 有顆粒的區(qū)域之間的空間中沒(méi)有或者至少盡可能少地存在清潔裝置 的組件，因?yàn)檫@將不適當(dāng)?shù)厍_需要建立的氣流。在根據(jù)本發(fā)明清潔區(qū)域時(shí)，沒(méi)有必要產(chǎn)生壓力差或者很大的欠 壓，至少不必達(dá)到如已知真空清潔器或者其它已知清潔裝置的典型 壓力差那樣的程度。根據(jù)本發(fā)明，用于釋放和運(yùn)送顆粒的氣流將由 于不存在如過(guò)濾器、集塵袋和長(zhǎng)彎曲管的組件而遇到較少摩擦阻力。 另外不需要用以接觸帶有顆粒的區(qū)域的組件，比如掃刷。本發(fā)明由 此提供一種低能耗的清潔裝置。另外，由于部件或者氣流生成表面 能夠以低速運(yùn)行，所以該裝置所產(chǎn)生的噪聲將很少。如上文所述由 于氣流遇到較少量的摩擦阻力，所以也促進(jìn)了噪聲水平降低。另一 結(jié)果在于該裝置可以實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)單的構(gòu)造，因?yàn)橛糜谶\(yùn)送所釋放的顆 粒的組件例如引向裝置分離室的導(dǎo)管對(duì)于本發(fā)明而言是不需要的。 根據(jù)本發(fā)明，產(chǎn)生對(duì)于從區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒而言具有最優(yōu)效果的 氣流。應(yīng)當(dāng)注意，包括基本上平行于待清潔區(qū)域而旋轉(zhuǎn)的一個(gè)或者多 個(gè)刷子的清潔裝置并不是本發(fā)明的一部分，因?yàn)檫@樣的刷子僅能夠
從待清潔的區(qū)域釋放顆粒，而刷子的旋轉(zhuǎn)動(dòng)作通常不足以從這一 區(qū) 域運(yùn)走顆粒。這意味著這樣的顆粒運(yùn)送不能僅通過(guò)刷子而獲得。旋 轉(zhuǎn)刷子的毛須端部因此不能構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明的氣流生成表面。當(dāng)然 可以將清潔刷子添加到根據(jù)本發(fā)明的裝置，這一點(diǎn)將在下文中具體 地描述。權(quán)利要求1中的特征"所述氣流生成表面(...)具有與所述區(qū)域 基本上平行的運(yùn)動(dòng)方向"表示氣流生成表面的能夠產(chǎn)生與帶有顆粒 的區(qū)域基本上平行地運(yùn)動(dòng)的氣流的任何運(yùn)動(dòng)。由此，氣流生成表面 的略微傾斜運(yùn)動(dòng)也包含于這 一 特征中。根據(jù)該清潔裝置的優(yōu)選實(shí)施例，氣流生成表面可在殼體內(nèi);^走轉(zhuǎn) 以造成與待清潔的區(qū)域平行的旋轉(zhuǎn)氣流。這 一 實(shí)施例為裝置的可運(yùn) 動(dòng)組件提供最簡(jiǎn)單的實(shí)用構(gòu)造。對(duì)照而言，例如輸送帶型的構(gòu)造需 要至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)部件。另外，這一實(shí)施例將允許該裝置的更扁平設(shè) 計(jì)，這有利于進(jìn)入高度有限的空間，例如在家具之下的空間。根據(jù)另一實(shí)施例，氣流生成表面設(shè)置于可旋轉(zhuǎn)盤(pán)上或者設(shè)置于 在運(yùn)行狀態(tài)下朝著待清潔的區(qū)域延伸的轉(zhuǎn)子葉片上。例如與旋轉(zhuǎn)長(zhǎng) 輪輻或者桿對(duì)照而言，旋轉(zhuǎn)盤(pán)將提供使周?chē)諝膺\(yùn)動(dòng)的最大沖擊。 如果使用轉(zhuǎn)子葉片，通過(guò)轉(zhuǎn)子葉片形成氣流生成表面，則發(fā)現(xiàn)接近 帶有顆粒的區(qū)域的空氣速度增加，這造成在釋放的顆粒上施加的動(dòng) 能的增加。另外，觀察到這一動(dòng)能的顯著增加是由在葉片與顆粒之 間的多次撞擊所致。根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選的是設(shè)置顆粒收集器用于收集從該區(qū)域釋放 的顆粒。然而也可以?xún)H需要將顆粒從一個(gè)位置運(yùn)送到另一位置，因 此本發(fā)明的概念不必限于設(shè)置有這種顆粒收集器的裝置。然而，最 有可能的是希望具有收集已經(jīng)釋放和運(yùn)送的顆粒的機(jī)會(huì)，而這一點(diǎn) 將由于提供了顆粒收集器才變得可能。對(duì)于具有顆粒收集器的實(shí)施例，優(yōu)選的是這一顆粒收集器設(shè)置 于殼體內(nèi)，這允許更緊湊的設(shè)計(jì)以及收集顆粒的更簡(jiǎn)單方式。另夕卜， 顆粒只需以這一方式短距離行進(jìn)，這有利于節(jié)能。顆粒收集器優(yōu)選
地包括圍繞氣流生成表面的壁，所述壁在運(yùn)行狀態(tài)下在與氣流生成 表面相同的方向上S走轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)氣流將造成已經(jīng)釋放的顆粒由于離心 力而在向外方向上運(yùn)送。如果這樣的壁圍繞氣流生成表面并且在與 之相同的方向上旋轉(zhuǎn)，則將在該壁處收集和保持這些顆粒。更優(yōu)選 地，此壁是圓形的并且包括凸緣，該凸緣從圓形壁的下邊緣部分朝 著其旋轉(zhuǎn)軸延伸。在停止壁的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)時(shí)，顆粒將不再由壁保持而 將在重力的影響之下掉落。從下邊緣部分延伸的凸緣可以被提供用 來(lái)收集掉落的顆粒，以后能夠從該凸緣去除這些顆粒。另 一優(yōu)選方案在于顆粒收集器包括裝配到氣流生成表面上的 室，該室的底表面背向氣流生成表面，而且提供如下導(dǎo)管，該導(dǎo)管 包括引導(dǎo)裝置并且具有朝著室的開(kāi)口以及朝著氣流生成表面的開(kāi) 口，以便將顆粒傳送到室。釋放的顆粒由于在其上施加的動(dòng)能而經(jīng) 過(guò)導(dǎo)管行進(jìn)，被引導(dǎo)裝置引導(dǎo)并且隨后在室的底壁處被收集。優(yōu)選 的是，導(dǎo)管是環(huán)形的，并且導(dǎo)管朝著氣流生成表面的開(kāi)口是環(huán)形的 且圍繞所述表面，而且導(dǎo)管還包括引導(dǎo)裝置，該引導(dǎo)裝置包括沿著 導(dǎo)管的外壁螺旋延伸的伸長(zhǎng)突出物。在這一情況下，撞擊導(dǎo)管外壁 的旋轉(zhuǎn)顆粒被強(qiáng)制遵循突出物的接觸表面并且經(jīng)過(guò)導(dǎo)管朝著收集室 行進(jìn)。在如前一段中描述的實(shí)施例中優(yōu)選的是，室的底壁包括柔性部 分，并且開(kāi)口設(shè)置于底壁中和氣流生成表面中，而柔性部分允許底 壁從保持位置偏轉(zhuǎn)到釋放位置，在該保持位置，室的底壁朝著用于 收集和保持顆粒的開(kāi)口在向上方向上延伸，而在該釋放位置，室的 底壁朝著用于釋放顆粒的開(kāi)口在向下方向上延伸。這樣的構(gòu)造提供 了一種通過(guò)翻開(kāi)其底壁來(lái)清空收集室的簡(jiǎn)單方法。在偏轉(zhuǎn)到釋放位 置之后，在室中已經(jīng)收集的顆粒將由于重力經(jīng)過(guò)開(kāi)口自動(dòng)地掉落。 當(dāng)已經(jīng)清空室時(shí)，翻回底壁，使得裝置準(zhǔn)備好再次使用。更優(yōu)選地， 柔性部分包括柔性材料的環(huán)，比如橡膠環(huán)。這種構(gòu)造提供用于產(chǎn)生 柔性底壁的簡(jiǎn)單而有效的方法。甚至更優(yōu)選地，在這一情況下設(shè)置 便于從保持位置偏轉(zhuǎn)到釋放位置的操縱裝置。這樣的操縱裝置將便 于致動(dòng)底壁的偏轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，殼體具有圍繞開(kāi)口的周向邊緣，所述邊緣在 運(yùn)行狀態(tài)下接觸待清潔區(qū)域的表面并且基本上閉合殼體的開(kāi)口 ，由 此產(chǎn)生由殼體和待清潔區(qū)域的表面限定的基本上閉合的空間。這一 點(diǎn)主要在軟表面如地毯的情況下是有利的，因?yàn)楫?dāng)殼體在地毯上運(yùn) 動(dòng)時(shí)該邊緣將至少部分地打開(kāi)或者分開(kāi)相鄰的地毯纖維，由此便于 顆粒的釋放。尤其是如果該邊緣是尖銳的則更將會(huì)出現(xiàn)這一效果。 另外，這一實(shí)施例防止空氣從殼體泄漏，硬表面和軟表面都有該效 果。防止這樣的空氣泄漏使得在殼體內(nèi)造成更多有效的氣流。作為如前一革殳中描述的實(shí)施例的^#選實(shí)施例，當(dāng)殼體具有3口下 周向邊緣時(shí)是有利的，該周向邊緣包括沿著該邊緣的周界分布的多 個(gè)擋板，其中各擋板背離該邊緣在向下方向上延伸并且具有用于彈 走氣流所攜帶的顆粒的彈起表面，該彈起表面相對(duì)于該邊緣的周界 傾斜地定位，用于防止顆粒從殼體漏出。彈起表面的定位使得顆粒朝著殼體的內(nèi)部彈回，而不是繼續(xù)它們的向外運(yùn)動(dòng)以及在被收集之前離開(kāi)殼體。這些類(lèi)型的邊緣主要對(duì) 于硬表面如木地板或者混凝土地面是有利的。在這一 情況下?lián)醢鍖?通過(guò)在區(qū)域上運(yùn)動(dòng)而朝著殼體的內(nèi)部引導(dǎo)殼體外的顆粒，同時(shí)將殼 體內(nèi)存在的顆粒保持于內(nèi)部。更優(yōu)選地，利用這樣的周向邊緣，各 彈起表面相對(duì)于與旋轉(zhuǎn)軸平行的垂直方向來(lái)傾斜地定位，以便向上 朝著殼體的內(nèi)部而不是向下朝著待清潔的區(qū)域來(lái)彈起撞擊擋板的顆粒。這一公開(kāi)中的 一些重要術(shù)語(yǔ)在下文中針對(duì)它們的恰當(dāng)解釋來(lái)加 以闡明。"顆粒，，在這一公開(kāi)中是指希望從待清潔的區(qū)域去除的任何類(lèi)型 的顆?；蛘卟糠?，該顆?；蛘卟糠挚梢园ㄝ^小和較大的顆粒、灰 塵顆粒、沙子、細(xì)菌、毛發(fā)、紙片等。它也包括如下顆粒，這些顆 粒包括液體或者氣體如水滴。"向下，，在這一公開(kāi)中是指當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的清潔裝置處于它的運(yùn) 行狀態(tài)下時(shí)指向待清潔的帶有顆粒的區(qū)域的任何方向。"向上，，在這 一 公開(kāi)中是指當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的清潔裝置處于它的運(yùn)行狀態(tài)下時(shí)背離待清潔的帶有顆粒的區(qū)域的任何方向。"向外"在這一公開(kāi)中是指根據(jù)本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)部件遠(yuǎn)離對(duì)應(yīng)旋轉(zhuǎn)軸線的任何方向。


將參照附圖在下文中更具體地說(shuō)明本發(fā)明，在附圖中 圖1是圖示了本發(fā)明原理的示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明第一優(yōu)選實(shí)施例的用于從待清潔的區(qū)域釋放 和運(yùn)走顆粒的清潔裝置的示意剖視圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明另一優(yōu)選實(shí)施例的用于從待清潔的區(qū)域釋放 和運(yùn)走顆粒的清潔裝置的示意剖視圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明的清潔裝置周向邊緣的優(yōu)選實(shí)施例的部分透 視圖。
具體實(shí)施方式
圖1旨在于圖示本發(fā)明的原理。當(dāng)顆粒位于表面上時(shí)，在這一 表面之上產(chǎn)生氣流能夠釋放該顆粒。顆粒釋放的機(jī)理相當(dāng)復(fù)雜。顆 粒水平移位源自于如下事實(shí)由于氣流受顆粒局部地阻止，所以在 顆粒的前方構(gòu)成過(guò)壓。在它后方產(chǎn)生欠壓，從而造成導(dǎo)致顆粒水平 移位的壓力差。作用于顆粒上的垂直定向力源自于柏努利效應(yīng)。氣 流在顆粒的頂部具有某一速度，而這一速度在顆粒的底部基本上為 零。氣流速度的這一差異產(chǎn)生了提升顆粒的壓力差。由此足以提供 氣流以^更釋it和運(yùn)送顆粒。傳統(tǒng)地通過(guò)建立壓力差來(lái)產(chǎn)生氣流。這能夠借助噴嘴或者導(dǎo)管 來(lái)實(shí)現(xiàn)，例如借助轉(zhuǎn)子在導(dǎo)管的一端產(chǎn)生較低壓力，這造成經(jīng)過(guò)導(dǎo) 管或者噴嘴的氣流。根據(jù)本發(fā)明，以交替的方式產(chǎn)生氣流。圖1示出了包含任一種
顆粒(未示出)的區(qū)域1以及可運(yùn)動(dòng)部件4?？蛇\(yùn)動(dòng)部件4具有氣流 生成表面2，該氣流生成表面2面向帶有顆粒的表面。氣流生成表面 2和部件4以某一速度v與帶有顆粒的區(qū)域1基本上平行地運(yùn)動(dòng)。表 面2的這一運(yùn)動(dòng)將造成定向?yàn)榕c相對(duì)區(qū)域1平行并且以空氣速度分 布3為特征的氣流。這一氣流足以從區(qū)域1釋方文和運(yùn)走顆粒而無(wú)需 在區(qū)域1與氣流生成表面2之間的空間中建立任何壓力差。這里唯 一運(yùn)動(dòng)的部分是將要從其中去除顆粒的空間的壁或者表面，此壁或 者表面就如同一個(gè)產(chǎn)生所需氣流的泵那樣起作用?，F(xiàn)在參照示出了本發(fā)明第一優(yōu)選實(shí)施例的圖2,示意性地描繪了 用于釋放和運(yùn)送顆粒的清潔裝置10。該裝置包括具有開(kāi)口 8的殼體 6,該殼體定位于帶有顆粒的區(qū)域1上。優(yōu)選地，殼體6具有基本上 圓形的形狀。該裝置的部件在圖2中僅部分地示出并且包括在殼體6 內(nèi)可繞著軸線18旋轉(zhuǎn)的盤(pán)16。該盤(pán)包括朝著帶有顆粒的區(qū)域l延伸 的轉(zhuǎn)子葉片14。面向帶有顆粒的區(qū)域的盤(pán)16以及葉片的表面一起形 成氣流生成表面12。部件的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)在殼體6內(nèi)造成由氣流生成表 面12產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)氣流，該氣流使得釋放和運(yùn)送位于區(qū)域1上的顆粒。在任一附圖中都未示出的特別優(yōu)選實(shí)施例中，旋轉(zhuǎn)部件包括連 接到軸的轉(zhuǎn)子葉片，而不存在旋轉(zhuǎn)盤(pán)。轉(zhuǎn)子葉片在這一情況下優(yōu)選 地與待清潔的區(qū)域基本上垂直地延伸。提供了包括室22的顆粒收集器，該室的底表面23背向氣流生 成表面12。室的對(duì)應(yīng)底壁與盤(pán)16重合，室22隨盤(pán)一起旋轉(zhuǎn)。取代 將盤(pán)和灰塵收集室的底壁形成為一體，可以以本身已知的方式將一 個(gè)組件裝配到另一組件。另外，可以借助傳動(dòng)系來(lái)互連兩個(gè)組件， 使得室和盤(pán)以不同的速度旋轉(zhuǎn)。環(huán)形導(dǎo)管20設(shè)置于殼體6與室22之間。導(dǎo)管20具有朝著氣流 生成表面的開(kāi)口 21和朝著室22的開(kāi)口 24。朝著氣流生成表面的開(kāi) 口是環(huán)形的并且圍繞所述表面。"環(huán)形導(dǎo)管"在這一情況下表示導(dǎo)管 圍繞氣流生成表面和室。它并不意味著這一導(dǎo)管具有圓形橫截面。 其外壁例如可以具有三角形橫截面。旋轉(zhuǎn)氣流所造成的離心力使顆
粒在向外方向上行進(jìn)并且經(jīng)由開(kāi)口 21進(jìn)入導(dǎo)管20。在導(dǎo)管中布置引 導(dǎo)裝置，該引導(dǎo)裝置包括沿著導(dǎo)管20的外壁25螺旋延伸的伸長(zhǎng)突 出物26。在這里突出物螺旋向上。在進(jìn)入導(dǎo)管之后，顆粒隨后經(jīng)過(guò) 導(dǎo)管行進(jìn)，其中借助伸長(zhǎng)突出物26在向上方向上引導(dǎo)它們直至它們 經(jīng)由開(kāi)口 24進(jìn)入室22。已發(fā)現(xiàn)，氣流施加在顆粒上的動(dòng)能以及轉(zhuǎn)子 葉片的沖擊足以讓它們經(jīng)由導(dǎo)管到達(dá)室。室用以收集顆粒。圖2還示出了開(kāi)口 27設(shè)置于底壁中以及氣流生成表面12中。 優(yōu)選地，開(kāi)口 27 ^殳置于底壁和氣流生成表面12的中央部分中。室 22的底壁16包括允許底壁從保持位置偏轉(zhuǎn)到釋放位置的柔性部分 28,在該保持位置，室的底壁朝著用于收集和保持顆粒的中央開(kāi)口 在向上方向上延伸，而在該釋放位置，室的底壁朝著用于釋放顆粒 的中央開(kāi)口在向下方向上延伸。在釋放位置，收集的顆粒將通過(guò)開(kāi) 口 27從室22掉落。圖2中的虛線指示了在釋放位置的底壁以及轉(zhuǎn) 子葉片。優(yōu)選地，柔性部分包括柔性材料的環(huán)，比如橡膠環(huán)，該環(huán)將提 供偏轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。另外，提供操縱裝置以便于從保持位置和釋放位置的 偏轉(zhuǎn)。這樣的操縱裝置可以包括優(yōu)選地設(shè)置于殼體外部的致動(dòng)旋4丑， 該旋鈕致動(dòng)在室的底壁上施加向下力以便實(shí)現(xiàn)其偏轉(zhuǎn)的桿。可選地， 可以提供背離氣流生成表面在向下方向上延伸的手柄。與如在先前段中提到的底壁的切換運(yùn)動(dòng)有關(guān)的特征也可以應(yīng)用 于其它裝置以及清潔設(shè)備中，因此不限于如權(quán)利要求1所限定的裝 置。事實(shí)上，具有圓形收集室的任何清潔裝置都將從這一構(gòu)造中受 益。驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)部件的軸在圖2中未示出，但是它可以完全地設(shè)置于 殼體中或者延伸通過(guò)其中的開(kāi)口 。在( 一方面)軸與(另一方面) 室、盤(pán)和轉(zhuǎn)子葉片之間的連接能夠借助輪輻構(gòu)造來(lái)實(shí)現(xiàn)，該輪輻在 軸與室之間延伸。最后，圖2示出了擋板29。殼體優(yōu)選地包括沿著其周向邊緣分 布的多個(gè)擋板。下文將具體地說(shuō)明這些擋板。圖2中殼體6的頂壁是直的，但是它可以可選地被布置用以部分地遵循室的輪廓以便獲得更緊湊和圓化的設(shè)計(jì)。現(xiàn)在參照示出了本發(fā)明另一優(yōu)選實(shí)施例的圖3,示意性地描繪了 用于釋放和運(yùn)送顆粒的清潔裝置30。類(lèi)似于圖2中所示實(shí)施例，裝 置30包括殼體32,該殼體具有定位于帶有顆粒的區(qū)域1上的開(kāi)口 34。優(yōu)選地，殼體32具有基本上圓形的形狀。部件36包括盤(pán)38并 且在殼體32內(nèi)可繞著軸線50旋轉(zhuǎn)。該盤(pán)包括朝著帶有顆粒的區(qū)域1 延伸的轉(zhuǎn)子葉片46。然而可選地也可以^又應(yīng)用盤(pán)或者僅應(yīng)用轉(zhuǎn)子葉 片。轉(zhuǎn)子葉片46的表面以及面向帶有顆粒的區(qū)域的盤(pán)的表面一起形 成氣流生成表面40。部件36的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)在殼體32內(nèi)造成旋轉(zhuǎn)氣流， 該旋轉(zhuǎn)氣流由氣流生成表面40產(chǎn)生并且使得釋放和運(yùn)送位于區(qū)域1 上的顆粒。裝置30還包括顆粒收集器，在所示實(shí)施例中該收集器包括圍繞 氣流生成表面并且連接到盤(pán)38的壁42。因此壁42在處于運(yùn)行狀態(tài) 下時(shí)在與氣流生成表面40相同的方向上旋轉(zhuǎn)。顆粒將由于氣流所產(chǎn) 生的離心力而在向外方向上行進(jìn)。當(dāng)顆粒撞擊壁42時(shí)，它們將被收 集和保持在那里，因?yàn)榇吮谝搽S之旋轉(zhuǎn)。優(yōu)選地，壁在與氣流生成 表面相同的方向上旋轉(zhuǎn)，但是也可以在相反的方向上旋轉(zhuǎn)。能夠在圖3中看出圓形壁42包括凸緣44,該凸緣從壁的下端部 分朝著其旋轉(zhuǎn)軸線延伸。當(dāng)壁和氣流生成表面的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)停止時(shí)， 壁所保持的顆粒將在重力的影響之下掉落并且在凸緣44上被收集，以后能夠從該凸緣處去除顆粒。圖3中的殼體32具有圍繞它的開(kāi)口的周向邊緣48,所述邊緣接 觸待清潔的區(qū)域l的表面并且基本上閉合殼體的開(kāi)口 34,由此產(chǎn)生 由殼體和待清潔的區(qū)域限定的基本上閉合的空間。這防止空氣進(jìn)入 殼體，使得殼體內(nèi)的氣流更有效。優(yōu)選地使用尖銳邊緣的殼體，這一點(diǎn)明顯不適用于圖3中所示 的邊緣48。它主要在軟表面如地毯的情況下是有利的，其中當(dāng)殼體 在地趙上運(yùn)動(dòng)時(shí)該邊緣將至少部分地打開(kāi)或者分開(kāi)相鄰的地毯纖
維，由此便于釋放顆粒。圖4是根據(jù)本發(fā)明的裝置的周向邊緣54的優(yōu)選實(shí)施例的部分透 視圖。此邊緣對(duì)應(yīng)于圖2中殼體6的面向帶有顆粒的區(qū)域1的邊緣。 出于清楚考慮，圖4僅示出了邊緣本身。在這一圖中可以看到，多 個(gè)擋板52廣52n沿著邊緣的周界56分布，各擋板從該邊緣向下延伸 并且具有用于彈走氣流所攜帶的顆粒的彈起表面58廣58n。可以看出 彈起表面58r58n相對(duì)于邊緣54的周界56傾斜地定位。它們相對(duì)于 圖4中箭頭A所示的氣流旋轉(zhuǎn)方向來(lái)定位，防止顆粒從殼體漏出。 彈起表面的定位使得顆粒朝著殼體的內(nèi)部彈回，而不是繼續(xù)它們的 向外運(yùn)動(dòng)以及在凈皮收集之前離開(kāi)殼體。圖4也示出了各彈起表面相對(duì)于與旋轉(zhuǎn)軸線(未示出)平行的 垂直方向略微傾斜地來(lái)定位。撞擊擋板的顆粒將由此朝著殼體的內(nèi) 部向上彈起而不是返回到待清潔的區(qū)域。雖然在任何附圖中都未示出，但是優(yōu)選地在室中或者在顆粒在 其中朝著灰塵收集器行進(jìn)的空間中或者在灰塵收集器本身中提供過(guò) 濾器，該過(guò)濾器相對(duì)于旋轉(zhuǎn)收集器和其它旋轉(zhuǎn)部分是固定的。這樣 的過(guò)濾器旨在于阻止較大較重的顆粒進(jìn)入旋轉(zhuǎn)收集器或者旋轉(zhuǎn)室， 否則該旋轉(zhuǎn)收集器或者旋轉(zhuǎn)室在它的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)中會(huì)受到不平衡重量 分布的妨礙。在圖2和圖3中，顆粒收集器直接裝配到旋轉(zhuǎn)部件或者與之重 合。然而可以設(shè)想借助傳動(dòng)系將灰塵收集器連接到旋轉(zhuǎn)部件的旋轉(zhuǎn)軸。雖然在任何附圖中都未示出這一點(diǎn)，但是優(yōu)選的是，在氣流生 成表面與帶有顆粒的區(qū)域之間的中央空間(例如圖2中在中央開(kāi)口 27之下的空間)包括清潔工具。適當(dāng)?shù)那鍧嵐ぞ呖梢岳缡乔鍧崏|、 拋光墊或者旋轉(zhuǎn)刷。這些工具提供額外的清潔功能，其中與它們的 位置有關(guān)的該功能將總是與釋放和運(yùn)送顆粒的主要功能相組合。它 們優(yōu)選地設(shè)計(jì)成可手工拆卸或者更換。圖2和圖3中所示實(shí)施例特別適合于在能夠單手操作的手持清 潔裝置中使用。由于這樣的裝置比現(xiàn)有技術(shù)中的清潔裝置使用更少 的能量，所以它能夠例如裝配有電池運(yùn)行的小型電動(dòng)機(jī)。在這一情 況下基本上所有組件或者至少較大組件能夠容納于對(duì)應(yīng)殼體內(nèi)。優(yōu) 選地，殼體在這一情況下具有基本上圓形的形狀。殼體外徑的典型尺寸在10cm至25cm的范圍中。這樣的清潔設(shè)備的典型重量在200g 到1500g的范圍中。優(yōu)選材料是塑料如聚丙烯(PP)、丙烯腈-丁二 烯-苯乙烯共聚物(ABS)或者聚碳酸酯(PC)。另外優(yōu)選的是，氣流生成表面在形狀上基本上是圓形的并且在 殼體內(nèi)旋轉(zhuǎn)。氣流生成表面優(yōu)選地至少在正常運(yùn)行狀態(tài)之下以基本 上恒定的旋轉(zhuǎn)速度運(yùn)動(dòng)。然而，作為輸送帶型構(gòu)造的一部分的氣流 生成表面也是可能的。如果目的是將顆粒運(yùn)送到兩個(gè)彼此相對(duì)側(cè)， 則即使是在帶有顆粒的區(qū)域上方執(zhí)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)的表面或者板也將起 作用。為了易于操縱，可以?xún)?yōu)選地借助鉸接連接來(lái)將長(zhǎng)手柄連接到殼 體。另外，由此能夠在殼體上施加向下力，這尤其是在沒(méi)有擋板的 實(shí)施例中有利于防止空氣從殼體中泄漏。通常，灰塵收集器將設(shè)置于殼體內(nèi)，正如圖2和圖3中所示的 實(shí)施例中那樣。然而可以在殼體以外設(shè)置灰塵收集器。例如，可以 使用具有開(kāi)口的殼體，這些開(kāi)口與灰塵收集器連通。例如可選地可 以使用在形狀上基本上為圓形并且相互連接成一行的兩個(gè)或者更多 殼體，相應(yīng)氣流彼此連通，而只有中央殼體包括灰塵收集器。雖然上文已經(jīng)描述了優(yōu)選實(shí)施例，但是許多修改對(duì)于本領(lǐng)域技 術(shù)人員而言是不言而喻的。例如，圖2中所示實(shí)施例也可以不構(gòu)造 有擋板29而是構(gòu)造有如圖3中所示的周向邊緣48。這些修改落入如 所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明的范圍內(nèi)。也可以組合已經(jīng)分別圖示和 描述的許多技術(shù)特征，這些組合也落入本發(fā)明的范圍內(nèi)。例如可將 圖3實(shí)施例中的圓形壁42與圖2的收集室22和環(huán)形導(dǎo)管20相組合。
權(quán)利要求
1.一種用于從待清潔的區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒的清潔裝置(10，30)，包括-殼體(6，32)，具有將要定位在待清潔的區(qū)域(1)上的開(kāi)口(8，34)；-可在所述裝置內(nèi)運(yùn)動(dòng)的部件(36)，用于生成用以從所述區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒的氣流；其特征在于所述部件包括設(shè)置于所述殼體(6，32)內(nèi)的氣流生成表面(12，40)，所述氣流生成表面在運(yùn)行狀態(tài)下面向待清潔的所述區(qū)域(1)并且具有與所述區(qū)域基本上平行的運(yùn)動(dòng)方向以便造成平行于所述區(qū)域的氣流。
2. 如權(quán)利要求1所述的清潔裝置(10, 30),其特征在于所述 氣流生成表面(12， 40)可在所述殼體(6， 32)內(nèi)旋轉(zhuǎn)以便造成與 待清潔的所述區(qū)域(1 )平行的旋轉(zhuǎn)氣流。
3. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10， 30),其特征在于所述 氣流生成表面(12, 40)設(shè)置于可旋轉(zhuǎn)盤(pán)(16, 38)上。
4. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10, 30)，其特征在于所述 氣流生成表面(12, 40)設(shè)置于在運(yùn)行狀態(tài)下朝著待清潔的所述區(qū) 域(l)延伸的轉(zhuǎn)子葉片(14, 46)上。
5. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10, 30),其特征在于設(shè)置 有顆粒收集器，用于在所述顆粒從待清潔的所述區(qū)域釋放之后收集 所述顆粒。
6. 如權(quán)利要求5所述的清潔裝置(10， 30)，其特征在于所述 顆粒收集器包括圍繞所述氣流生成表面的壁(42),所述壁在運(yùn)行 狀態(tài)下在與所述氣流生成表面(40)相同的方向上旋轉(zhuǎn)。
7. 如權(quán)利要求6所述的清潔裝置(10， 30),其特征在于所述 壁是圓形的并且包括凸緣(44),所述凸緣從所述壁(42)的下邊 緣位置朝著所述壁的旋轉(zhuǎn)軸延伸。
8. 如權(quán)利要求5所述的清潔裝置(10, 30)，其特征在于所述 顆粒收集器包括裝配到所述氣流生成表面(12)的室(22),所述 室的底表面(23)背向所述氣流生成表面，而且設(shè)置導(dǎo)管(20)， 所述導(dǎo)管包括引導(dǎo)裝置并且具有朝著所述室的開(kāi)口 (24)和朝著所 述氣流生成表面的開(kāi)口 (21)以便將顆粒運(yùn)送到所述室。
9. 如權(quán)利要求8所述的清潔裝置(10， 30)，其特征在于所述 導(dǎo)管(20)是環(huán)形的，并且所述導(dǎo)管朝著所述氣流生成表面的所述 開(kāi)口 (21 )是環(huán)形的且圍繞所述表面，其中所述導(dǎo)管還包括引導(dǎo)裝 置，該引導(dǎo)裝置包括沿著所述導(dǎo)管的外壁(25)螺旋延伸的伸長(zhǎng)突 出物(26 )。
10，如權(quán)利要求8所述的清潔裝置(10, 30)，其特征在于所 述室(22)的底壁(16)包括柔性部分(28)，以及開(kāi)口 (27)設(shè) 置于所述底壁中和所述氣流生成表面(12)中，其中所述柔性部分 允許所述底壁從保持位置偏轉(zhuǎn)到釋放位置，在所述保持位置，所述 室的所述底壁朝著用于收集和保持所述顆粒的開(kāi)口在向上方向上延 伸，而在所述釋放位置，所述室的所述底壁朝著用于釋放所述顆粒 的開(kāi)口在向下方向上延伸。
11. 如權(quán)利要求10所述的清潔裝置(10， 30),其特征在于所 述柔性部分(28)包括柔性材料的環(huán)。
12. 如權(quán)利要求10所述的清潔裝置(10, 30)，其特征在于設(shè) 置有操縱裝置，以便于從所述保持位置偏轉(zhuǎn)到所述釋放位置。
13. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10， 30),其特征在于所 述殼體(32)具有圍繞所述開(kāi)口 (34)的周向邊緣(48)，所述邊 緣在運(yùn)行狀態(tài)下接觸待清潔的所述區(qū)域(1 )的表面并且基本上閉合 所述殼體的開(kāi)口 ，由此產(chǎn)生由所述殼體和待清潔的所述區(qū)域的表面 限定的基本上閉合的空間。
14. 如權(quán)利要求2所述的清潔裝置(10, 30),其特征在于所 述殼體(6)具有周向邊緣，所述周向邊緣包括沿著該邊緣的周界分 布的多個(gè)擋板(29, 52r52n)，其中各擋板背離該邊緣在向下方向 上延伸并且具有用于彈走所述氣流所攜帶的所述顆粒的彈起表面 (58r58n)，所述彈起表面相對(duì)于該邊緣的所述周界(56)來(lái)傾斜 地定位，用于防止顆粒從所述殼體漏出。
15.如權(quán)利要求14所述的清潔裝置(10， 30)，其特征在于各 彈起表面(58r58n)相對(duì)于與所述旋轉(zhuǎn)軸平行的垂直方向來(lái)傾殺牛地 定位，以便朝著所述殼體的內(nèi)部在向上方向上彈起撞擊所述擋板的 顆粒。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于從待清潔的區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒的清潔裝置(10)，包括殼體(6)，具有將要定位在待清潔的區(qū)域(1)上的開(kāi)口(8)；可在裝置內(nèi)運(yùn)動(dòng)的部件，用于生成用以從該區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒的氣流；其中該部件包括設(shè)置于殼體(6)內(nèi)的氣流生成表面(12)，所述氣流生成表面在其運(yùn)行狀態(tài)下面向待清潔的區(qū)域(1)并且具有與所述區(qū)域基本上平行的運(yùn)動(dòng)方向以便造成平行于所述區(qū)域的氣流。根據(jù)本發(fā)明的該裝置需要較少能量用于從待清潔的區(qū)域釋放和運(yùn)走顆粒。
文檔編號(hào)A47L5/22GK101155538SQ200680011133
公開(kāi)日2008年4月2日 申請(qǐng)日期2006年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月1日
發(fā)明者F·R·沃爾霍斯特, F·莫斯, J·H·貝尼迪克塔斯, J·普拉格特, L·J·凱姆普萊 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司