專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及在光刻工序中對被處理基板實施洗凈處理的基板處理裝置。
背景技術：
例如在FPD (平面面板顯示器)的制造中，在作為被處理基板的 LCD基板上形成規(guī)定的膜之后，涂布作為處理液的光致抗蝕劑(以下 稱抗蝕劑)形成抗蝕劑膜，與電路圖案相對應曝光抗蝕劑膜，這叫做 顯影處理，所謂的通過光刻工序形成電路圖案。但是，在實施該光刻工序的抗蝕劑涂布顯影處理系統(tǒng)中，作為能 夠有利地與LCD基板的大型化對應的顯影方式，所謂的平流方式受到 重視。該平流方式為在由搬送輥和搬送帶沿水平方向敷設而成的搬送 路徑上搬送LCD基板，同時在搬送中進行顯影、沖洗等、干燥等的一 系列的顯影處理工序?，F(xiàn)有的平流方式為，在搬送路徑上以水平狀態(tài)將LCD基板從上游 端的搬入部搬送至下游端的搬出部，配置在搬送路徑的上方或下方或 者旁邊的多個工具對在搬送路徑上移動中或暫時停止中的基板實施各 階段的工序處理(參照專利文獻l)。例如，在刷洗洗凈單元中，通過沿著搬送路徑配置的刷洗洗凈部、 吹風洗凈部、沖洗處理部、干燥處理部，對在搬送路徑上以水平姿勢 搬送的LCD基板進行去除基板上的異物等的洗凈處理。此時，在刷洗洗凈部中從基板表面擦掉的異物，緊接著通過吹風 洗凈部的空氣吹風處理、沖洗處理部的沖洗液噴淋處理將其從基板上 洗掉。專利文獻h日本特開2003 — 83675號公報 但是，在上述的刷洗洗凈單元中，在刷洗洗凈部中，如圖5所示， 沿著由搬送滾子201敷設而成的搬送路徑202，以例如吹拂器203、第一洗凈噴嘴204、輥刷205、第二洗凈噴嘴206的順序配置。g卩，搬送 到該刷洗洗凈部200的LCD基板G，首先，通過從吹拂器203噴吹的 送風將其吹風洗凈，在從第一洗凈噴嘴204噴吹洗凈水之后，通過輥 刷205擦掉基板G上的異物。然后，將從基板G上擦掉的異物通過從 第二洗凈噴嘴206噴出的洗凈液洗掉。但是，在現(xiàn)有的平流方式中，對水平姿勢的LCD基板G從洗凈噴 嘴噴出洗凈液，如圖6所示，在基板上的噴嘴正下方洗凈液L不流動 停留下來，存在基板上的洗凈液L的厚度過厚的可能性。艮口，存在當基板上的洗凈液L的厚度變厚時，從洗凈噴嘴204、 206噴出的洗凈液L對基板表面的洗凈壓降低，同時新的洗凈液無法到 達基板表面，洗凈能力降低的課題。另外，存在向基板上供給的洗凈液在包含異物的狀態(tài)下殘留在基 板上，在基板干燥處理后異物再附著在基板G上的課題。另外，存在為了防止這樣的異物的再附著，即使使洗凈噴嘴的洗 凈時間、次數(shù)增加，不僅搬送路徑和處理時間增長、生產(chǎn)量降低，而 且成本變高的課題。發(fā)明內容本發(fā)明就是為了解決上述課題而提出的，其目的在于提供一種在 被處理基板的洗凈處理中，不但能夠防止向洗凈處理后的基板再附著 異物，而且能夠有效地進行洗凈處理，同時實現(xiàn)提高生產(chǎn)量和低成本 化的基板處理裝置。為了解決上述課題，本發(fā)明涉及的基板處理裝置，使用洗凈液進行被處理基板的洗凈處理，其特征在于，具有形成以仰面朝上的姿 勢搬送被處理基板的搬送路徑，通過上述搬送路徑沿規(guī)定方向搬送上 述被處理基板的搬送單元；和向在上述搬送路徑上搬送的上述被處理基板的上面供給洗凈液的洗凈噴嘴，其中，上述搬送路徑具有以水平 狀態(tài)搬送上述被處理基板的水平部、和從上述水平部形成規(guī)定角度的 向上傾斜的傾斜部，上述洗凈噴嘴配置在上述傾斜部的上方，洗凈液 的噴出方向為相對于水平方向向下方傾斜規(guī)定角度的方向、并且為上 述搬送路徑的上游方向，向在上述傾斜部上搬送的上述基板的傾斜面噴出洗凈液。另外，優(yōu)選上述搬送路徑通過敷設多個搬送滾子而形成，上述傾 斜部通過使并列設置的上述多個搬送滾子的高度位置沿搬送方向分階 段地增高而形成。通過這樣的構成，在噴嘴正下方滴下的洗凈液能夠立即向基板后 方流動，因此能夠使噴嘴正下方的液體厚度變薄，其結果，能夠防止 從噴嘴噴出滴下的洗凈液的壓力(洗凈壓力)降低，同時能夠使新的 液體可靠地接觸到基板表面。另外，能夠使向基板上供給的洗凈液與異物一起流向基板后方， 因為沒有液體的殘留，所以能夠解決異物的再附著的課題。另外，通過設置傾斜部，能夠提高如上所述的洗凈效率，同時能 夠實現(xiàn)搬送路徑的縮短，因此能夠得到提高生產(chǎn)量、低成本化的效果。另外，上述搬送路徑具有從該搬送路徑的上游側向下游側依次連 續(xù)形成的第一傾斜部和第二傾斜部，在上述第一傾斜部和第二傾斜部 的上方設置有分別向搬送的上述基板的傾斜面噴出洗凈液的第一洗凈 噴嘴和第二洗凈噴嘴，優(yōu)選上述第二傾斜部的頂點相對于上述水平部 的高度尺寸形成為比上述第一傾斜部的頂點的高度尺寸高。根據(jù)這樣的構成，與上游側的第一傾斜部相比，下游側的第二傾 斜部更長，因此從第二洗凈噴嘴向基板上供給的洗凈液能夠猛力有效 地向基板后端流動，能夠使洗凈液不殘留在基板上，進行洗凈處理。另外，優(yōu)選進行控制，使得上述第二洗凈噴嘴噴出的洗凈液的噴 出量比上述第一洗凈噴嘴噴出的洗凈液的噴出量多。另外，根據(jù)這樣的構成，假設從第一洗凈噴嘴供給的洗凈液殘留 在基板上，其后通過從第二洗凈噴嘴供給更多量的洗凈液，能夠將其 全部從基板上洗掉。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，在被處理基板的洗凈處理中，可以得到能夠防止向 洗凈處理后的基板再附著異物，能夠有效地進行洗凈處理，同時能夠 實現(xiàn)提高生產(chǎn)量和低成本化的基板處理裝置。


圖1為能夠適用于本發(fā)明涉及的基板處理裝置的涂布顯影處理系 統(tǒng)的平面圖。圖2為表示圖1的涂布顯影處理系統(tǒng)的基板處理的流程的流程圖。 圖3為表示圖1的涂布顯影處理系統(tǒng)所具有的刷洗洗凈單元的主 要部分的構成的概略截面圖。圖4為模式地表示圖3的刷洗洗凈單元的刷洗洗凈部的構成的圖。 圖5為表示現(xiàn)有的刷洗洗凈部的構成的概略截面圖。 圖6為圖5的刷洗洗凈部的主要部分放大圖。 符號說明10涂布顯影處理系統(tǒng)(基板處理裝置)32搬送路徑36刷洗洗凈單元80隆起部(第一隆起部)80a向上傾斜部(第一傾斜部)81隆起部(第二隆起部)81a向上傾斜部(第二傾斜部)102刷洗洗凈部111搬送滾子(搬送單元)114藥液供給噴嘴(第一洗凈噴嘴)115輥刷116洗凈噴嘴(第二洗凈噴嘴) 130藥液供給單元 131洗凈液供給單元 132控制器G LCD基板(被處理基板)具體實施方式
以下，根據(jù)附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。圖1為能夠適用 于本發(fā)明的基板處理裝置的涂布顯影處理系統(tǒng)的平面圖。該涂布顯影處理系統(tǒng)10設置在凈化室內，例如將LCD用的玻璃 基板設為被處理基板，在LCD制造工藝中進行光刻工序中的洗凈、抗蝕劑涂布、預烘焙、顯影和后烘焙等一系列的處理。在與該系統(tǒng)鄰接 設置的外部曝光裝置12中進行曝光處理。涂布顯影處理系統(tǒng)10在中心部配置有橫長的工藝站(process station) (P/S) 16，在其長度方向(X方向)兩端部配置有盒站(cassette station) (C/S) 14和接口站(interface station) (I/F) 18。盒站(C/S) 14具有為將以多層層疊的方式收容有多個基板G 的盒C進行搬入搬出的通道，能夠在水平方向(Y方向)上并列載置 4個盒C的盒臺20;和將基板G相對于該臺20上的盒C搬入搬出的 搬送機構22。搬送機構22具有能夠保持基板G的單元例如搬送臂22a, 并且能夠在X、 Y、 Z、 0的4個軸上進行動作，能夠與鄰接的工藝站 (P/S) 16側之間進行基板G的交接。按照工藝流程或工序的順序，將工藝站(P/S) 16的各處理部配置 在沿著水平系統(tǒng)的長度方向(X方向)延伸的平行并且反向的一對線 路A、 B上。更詳細地說，以洗凈工藝部24、第一熱處理部26、涂布工藝部28 和第二熱處理部30的順序并且以單列的方式將這些部件配置在從盒站(C/S) 14側到接口站(I/F) 18側的上游部的工藝線路A上。在此， 洗凈工藝部24沿著第一平流搬送路徑32從上游側開始依次設置有準 分子UV照射單元(e-UV) 34和能夠適用于本發(fā)明的刷洗洗凈單元 (SCR) 36。第一熱處理部26沿第一平流搬送路徑32從上游側開始 依次地設置有粘附單元(AD) 40和冷卻單元(COL) 42。涂布工藝部28包括抗蝕劑涂布單元(CT)44和減壓干燥單元(VD) 46，具有用于在第一平流搬送路徑32和抗蝕劑涂布單元(CT) 44之 間，兩單元44、 46之間，以及減壓干燥單元(VD) 46和第二平流搬 送路徑48之間沿工藝線路A的方向傳送基板G的搬送機構(圖中未 示)。第二熱處理部30沿著第二平流搬送路徑48從上游側開始依次地 設置有預烘焙單元(PREBAKE) 50和冷卻單元(COL) 52。另一方面，以顯影單元(DEV) 54、 i射線UV照射單元(i-UV) 56、后烘焙單元(POBAKE) 58、冷卻單元(COL) 60和檢查單元(AP) 62的順序并且以單列的方式將這些部件配置在從接口站(I/F) 18側至 盒站(C/S) 14側的下游部的工藝線路B上。這些單元54、 56、 58、60、 62沿著第三平流搬送路徑64從上游側開始以此順序設置。另外， 后烘焙單元(POBAKE) 58和冷卻單元(COL) 60構成第三熱處理部 59。在兩工藝線路A、 B之間設置有輔助搬送空間66，能夠以一個為 單位水平地載置基板G的往復移動裝置(shuttle) 68能夠通過圖中未 示的驅動機構沿工藝線路方向(X方向)雙方向移動。接口站(I/F) 18具有用于與上述第二和第三平流搬送路徑48、 64 進行基板G的交接的搬送裝置70，和用于與鄰接的曝光裝置12進行 基板G的交接的搬送裝置72，在那些的周圍配置有緩沖臺(BUF) 74、 延伸冷卻臺(EXT'COL) 76和周邊裝置78。在緩沖臺(BUF) 74上安置有定置型的緩沖盒(圖中未示)。延伸 冷卻臺(EXT.COL) 76為具有冷卻功能的基板交接用的臺，在兩搬 送裝置70、 72之間進行基板G交接時使用。周邊裝置78例如為上下 層疊標記器(TITLER)和周邊曝光裝置(EE)的構成即可。各搬送裝 置70、 72具有能夠保持基板G的搬送臂70a、 72a，為了基板G的交 接能夠接近鄰接的各部。圖2表示該涂布顯影處理系統(tǒng)10中的一個基板G的處理過程。首 先，在盒站(C/S) 14中，搬送機構22從臺20上的任一個盒C中取 出一個基板G，并將該取出的基板G以仰面朝上的姿勢(基板的被處 理面朝上)搬入到工藝站(P/S) 16的工藝線路A側的搬入部即第一平 流搬送路徑32的起點(圖2的步驟S1)。這樣，將基板G以仰面朝上的姿勢從第一平流搬送路徑32上搬送 到工藝線路A的下游側。在最初階段的洗凈工藝部24中，通過準分子 UV照射單元(e-UV) 34和刷洗洗凈單元(SCR) 36，對基板G依次 實施紫外線洗凈處理和刷洗洗凈處理(步驟S2、 S3)。在刷洗洗凈單元(SCR) 36中，通過對在平流搬送路徑32上移動 的基板G實施刷洗(brushing)洗凈和吹風(blow)洗凈，從基板表面 除去顆粒狀污垢(異物)，其后，實施沖洗(rinse)處理，最后，利用 吹拂器等使基板G干燥。另外，能夠在本發(fā)明中適當?shù)厥褂迷撍⑾聪磧魡卧?SCR) 36， 因此，在后面對其構成和作用效果進行詳細地闡述。當刷洗洗凈單元(SCR) 36的一系列洗凈處理完成時，則順著第一平流搬送路徑32使基板G原封不動地通過第一熱處理部26。在第一熱處理部26中，將基板G搬入到粘附單元(AD)40中時， 首先，接受加熱的脫水烘焙處理，除去水分。接著，使用蒸氣狀的HMDS 對基板G實施粘附處理，使被處理面疏水化(步驟S4)。在該粘附處 理完成之后，在冷卻單元(COL) 42中將基板G冷卻至規(guī)定的基板溫 度(步驟S5)。此后，從第一平流搬送路徑32的終點(搬出部)，將基 板G搬入到涂布工藝部28內的搬送機構。在涂布工藝部28中，最初基板G在抗蝕劑涂布單元(CT) 44中 使用狹縫噴嘴利用旋涂法對基板上面(被處理面)涂布抗蝕劑液，之 后在下游側相接的減壓干燥單元(VD) 46中接受通過減壓進行的干燥 處理(步驟S6)。之后，通過涂布工藝部28內的搬送機構將基板G傳送到第二平流 搬送路徑48的起點(搬入部)。將基板G在第二平流搬送路徑48上以 仰面朝上的姿勢搬送到工藝線路A的下游側，通過第二熱處理部30。在第二熱處理部30中，最初基板G在預烘焙單元(PREBAKE) 50中接受作為抗蝕劑涂布后的熱處理或曝光前的熱處理的預烘焙(步 驟S7)。通過該預烘焙，蒸發(fā)除去殘留在基板G上的抗蝕劑膜中的溶 劑，增強抗蝕劑膜相對于基板的密合性。然后，在冷卻單元(COL) 52中將基板G冷卻至規(guī)定的基板溫度(步驟S8)。然后，將基板G從 第二平流搬送路徑48的終點(搬出部)引領至接口站(I/F) 18的搬 送裝置70。在接口站(I/F) 18中，將基板G從延伸冷卻臺(EXT'COL) 76搬入到周邊裝置78的周邊曝光裝置(EE),在此處接受用于在顯影時 除去附著在基板G的周邊部上的抗蝕劑的曝光之后，被傳送到相鄰的 曝光裝置12 (步驟S9)。在曝光裝置12中，在基板G上的抗蝕劑上曝光出規(guī)定的電路圖案。 然后，對于完成圖案曝光的基板G，若從曝光裝置12返回到接口站(I/F) 18，則首先將其搬入到周邊裝置78的標記器(TITLER)，在此處將規(guī) 定的信息記錄在基板上的規(guī)定部位上(步驟SIO)。然后，將基板G返回到延伸冷卻臺(EXT'COL) 76。通過搬送裝置70、 72進行接口站(I/F) 18的基板G的搬送和與曝光裝置12的 基板G的交接。最后，將基板G通過搬送裝置70搬入到敷設在工藝 站(P/S) 16的工藝線路B側的第三平流搬送路徑64的起點(搬入部)。 這樣，此次以仰面朝上的姿勢從第三平流搬送路徑64上向工藝線 路B的下游側搬送基板G。在最初的顯影單元(DEV) 54中，基板G 在平流搬送的期間被實施顯影、沖洗、干燥一系列的顯影處理(步驟 Sll)。在顯影單元(DEV) 54中完成一系列顯影處理的基板G原封不動 地通過放置在第三平流搬送路徑64上的下游側附近的i射線照射單元(i-UV) 56，在此接收i射線照射的脫色處理(步驟S12)。然后，基 板G依次通過放置在第三平流搬送路徑64上的第三熱處理部59和檢 查單元(AP) 62。在第三熱處理部59中，基板G最初在后烘焙單元(POBAKE) 58中作為顯影處理后的熱處理，接受后烘焙處理(步驟 S13)。通過該后烘焙來蒸發(fā)除去在基板G上的抗蝕劑膜上殘留的顯影 液和洗凈液，增強抗蝕劑圖案相對于基板的密合性。接著，在冷卻單元(COL) 60中將基板G冷卻至規(guī)定的基板溫度(步驟S14)。在檢查單元(AP) 62中，對基板G上的抗蝕劑圖案進 行非接觸的線寬度檢查和膜質 膜厚檢查等(步驟S15)。然后，在盒站(C/S) 14偵ij，搬送機構22從第三平流搬送路徑64 的終點(搬出部)接收完成涂布顯影處理的全部工序的基板G，并將 接收的基板G收容在任意一個(通常為原來的盒)盒C中(返回到步 驟S1)。在該涂布顯影處理系統(tǒng)10中，如上所述，設置在第一平流搬送路 徑32上的刷洗洗凈單元(SCR) 36能夠適用于本發(fā)明。以下，根據(jù)圖3和圖4，對本發(fā)明的一實施方式的刷洗洗凈單元 (SCR) 36的構成和作用進行詳細地說明。圖3為表示該實施方式的刷洗洗凈單元(SCR) 36的主要部分的 構成的概略截面圖。圖4為模式地表示該刷洗洗凈單元(SCR) 36的 刷洗洗凈部的構成的圖。沿著如圖所示的水平方向(X方向)延伸的平流搬送路徑J2，從 上游側依次設置有搬入部101、刷洗洗凈部102、吹風洗凈部103、沖洗部104、干燥部105和搬出部106。另外，搬送路徑32由敷設多個 搬送滾子111 (搬送單元)而成，通過圖中未示的驅動單元(搬送單元) 使搬送滾子111沿搬送方向旋轉，并平流搬送基板G。首先，對該刷洗洗凈單元(SCR) 36的各處理部的概略構成進行 說明。在搬入部101的頂部上安裝有以直流方式供給清潔空氣的送風過 濾單元(FFU) 112。另外，在刷洗洗凈部102內沿搬送路徑32從上游側依次配置有氣 簾噴嘴113、藥液供給噴嘴114 (第一洗凈噴嘴)、輥刷115和洗凈噴 嘴116 (第二洗凈噴嘴)。另外，配置氣簾噴嘴113，使得向著搬送方向的下游側對通過正下 方的基板G的上面噴出細縫狀的空氣流。另外，其它的刷洗洗凈部102 內的藥液供給噴嘴114、洗凈噴嘴116、搬送滾子lll等的配置、動作 控制等為本發(fā)明的特征涉及的部分，在后面進行闡述。另外，在吹風洗凈部103內設置有在搬送路徑32的上方作為吹風 洗凈用噴嘴例如2流體噴射噴嘴119。在沖洗部104內，在搬送路徑32的上方設置有沖洗噴嘴123。在干燥部105內，在搬送路徑32的上方設置有吹拂器126。另外，也可以使沖洗噴嘴123和吹拂器126夾著搬送路徑32設置 在其左右兩側。另外，也可以在吹風洗凈部103上也設置從搬送路徑 32的下方向基板G的下面(背面)吹出洗凈用的沖洗液的下部沖洗噴 嘴(圖中未示)。另外，在搬出部106的頂部上安裝有以直流方式供給清潔空氣的 送風過濾單元(FFU) 129。另外，在相鄰接的處理部之間，除了平流搬送路徑32以外，分別 設置有隔壁140、 141、 142、 143、 144。另外，在處理液體的處理部102、 103、 104、 105內分別設置有用 于收集從搬送路徑32的下方落下的液體的盤(pan) 117、 120、 124、 127。在各盤的底面上分別設置有排水口，各排水口分別與落下的液體 的回收系統(tǒng)或排液系統(tǒng)的配管118、 122、 125、 128連接。(另外，在位于刷洗洗凈單元(SCR) 36的中心部的吹風洗凈部103內的底部設置有與例如具有排氣泵或排氣風扇的排氣機構(圖中未示) 相通的排氣口 121。接著，對刷洗洗凈部102內的藥液供給噴嘴114、洗凈噴嘴116、搬送滾子lll等的配置、動作控制等進行說明。如圖3、圖4所示，在刷洗洗凈部102內，在搬送路徑32上例如 形成有兩個隆起部80、 81。在這些隆起部80、 81上分別形成沿搬送方 向向上傾斜的向上傾斜部80a (第一傾斜部)、81a (第二傾斜部)，但 在該向上傾斜部80a、 81a上，以階段地增高的方式配置并列敷設的搬 送滾子111的高度位置。艮P，如圖4所示，隆起部80的向上傾斜部80a，以相對于水平軸 H(水平部)傾斜規(guī)定角度ei(優(yōu)選2。 5。)的方式配置搬送滾子llla、 lllb、 lllc，向下傾斜是以搬送滾子lllc為頂點，配置搬送滾子llld、 llle。另外，隆起部81的向上傾斜部81a，以水平軸H上的搬送滾子llle 為起點，以相對于水平軸H傾斜角度ei的方式配置搬送滾子lllf、 lllg，向下傾斜是以搬送滾子lllg為頂點，配置搬送滾子lllh、 llli。另外，藥液供給噴嘴114，配置在隆起部80的向上傾斜部80a的 上方，其噴出方向為相對于水平方向向下方傾斜規(guī)定角度e2 (優(yōu)選35 ° 45。)的方向、并且為搬送路徑32的上游方向。另外，在隆起部80 的向上傾斜部80a上搬送的基板G與噴嘴噴出口之間的距離尺寸hl優(yōu) 選為20 30mm。另外，洗凈噴嘴116，配置在隆起部81的向上傾斜部81a的上方， 其噴出方向為相對于水平方向向下方傾斜規(guī)定角度02(優(yōu)選35° 45°) 的方向、并且為搬送路徑32的上游側方向。另外，在隆起部81的向 上傾斜部81a上搬送的基板G與噴嘴噴出口之間的距離尺寸hl ，與藥 液供給噴嘴114相同，為20 30mm。作為通過輥刷115進行處理之前所涂布的藥液(洗凈液)，例如將 酸或堿系藥液從第一液體供給單元130供給到藥液供給噴嘴114，將藥 液以規(guī)定的噴出壓力噴出到基板G的表面。 j另外，作為沖洗通過刷子擦掉的異物的洗凈液，例如將純水從第 二液體供給單元131供給到洗凈噴嘴116，將藥液以規(guī)定的噴出壓力噴出到基板G的表面。另外，通過作為控制單元的控制器132對第一液體供給單元130 和第二液體供給單元131進行動作控制，對在各自對應的噴嘴的噴出時刻、液體供給量等進行控制。另外，更優(yōu)選位于下游側的隆起部81 (向上傾斜部81a的頂點) 相對于水平軸H的高度尺寸h3構成為比上游側的隆起部80 (向上傾 斜部80a的頂點)相對于水平軸H的高度尺寸h2高。如此，與上游側的向上傾斜部80a相比，下游側的向上傾斜部81a 更長，因此從洗凈噴嘴116供給到基板G上的洗凈液能夠猛力有效地 向基板后端流動，能夠使洗凈液不殘留在基板上，進行洗凈處理。另外，優(yōu)選通過控制器132進行控制，使通過第二液體供給單元 131從洗凈噴嘴116噴出的洗凈液的量比通過第一液體供給單元130從 藥液供給噴嘴114噴出的藥液的量多。如此，即使從藥液供給噴嘴114供給的藥液殘留在基板上，其后 通過從洗凈噴嘴116供給的大量的洗凈液，也能夠將藥液從基板G上 全部洗掉。在這樣構成的刷洗洗凈單元36 (SCR)中，將已實施準分子UV 照射處理的基板G，首先如圖3所示通過搬入部101搬入到刷洗洗凈 部102內。在刷洗洗凈部102中，被搬送的基板G的前端即將到達隆起部80 的向上傾斜部80a之前，開始由藥液供給噴嘴114噴出藥液，在基板 上，從其前端遍及后端供給藥液。在此，如圖4所示，將從藥液供給噴嘴114噴出的藥液滴下到隆 起部80的向上傾斜部80a (朝向搬送路徑的上游側)，因此基板上的藥 液由自重向后方流動。即，通過藥液在基板上溶出的異物與藥液一起 向基板G的后方流下去。另外，因為在基板上滴下的藥液立即向基板后方流動，所以噴嘴 正下方的液體的厚度變薄，其結果，從噴嘴噴出的藥液滴下時的壓力 (洗凈壓力)增高，同時能夠使新的液體可靠地接觸到基板泰面，因 此能夠有效地進行基板洗凈。通過藥液供給噴嘴114進行洗凈之后，將基板G在輥刷115的下方一邊刷洗一邊通過。輥刷115以圖中未示的刷驅動部的旋轉驅動力 沿與搬送方向相對的方向旋轉，擦掉基板表面的異物(灰塵、碎片、 污染物等)。將通過輥刷115擦掉的異物通過緊接其后從洗凈噴嘴116向基板 上噴出供給的洗凈水從基板G上流下。艮口，被搬送的基板G的前端即將到達隆起部81的向上傾斜部81a 之前，開始由洗凈噴嘴116噴出洗凈液，在基板上，從其前端遍及后 端供給藥液。在此，如圖4所示，從洗凈噴嘴116噴出的洗凈液滴下到隆起部 81的向上傾斜部81a (朝向上游側)，基板上的洗凈液由自重向后方流 動。即，通過輥刷115擦掉的異物與洗凈液一起有效地向基板后方流 下去，從基板G除去。另外，因為在基板上滴下的洗凈液立即向基板后方流動，所以噴 嘴正下方的液體的厚度變薄，其結果，從噴嘴噴出的洗凈液滴下時的 壓力(洗凈壓力)增高，所以能夠使新的液體可靠地接觸到基板表面， 能夠有效地進行基板洗凈。另外，在刷洗洗凈部102內從基板G或搬送路徑32的下方落下的 液體被收集到盤117。之后，基板G進入吹風洗凈部103，通過2流體噴射噴嘴119進 行吹風洗凈。該2流體噴射噴嘴119將加壓的洗凈液(例如水)和加 壓的氣體(例如氮氣)的混合流體噴射到基板上，以加壓2流體的非 常強的沖擊力將附著或殘存在基板G的表面的異物除去。在沖洗部104中，沖洗噴嘴123將最終洗凈用的沖洗液供給到在 搬送路徑32上搬送的基板G。供給到基板G上的沖洗液在基板上向基 板后端側流動，其大部分落入沖洗部104內的盤124內。將在沖洗部104中進行過沖洗洗凈的基板G搬入干燥部105，在 此通過吹拂器126進行干燥處理。g卩，吹拂器126沿與搬送方向相反 的方向向基板G吹出高壓氣體流，由此將殘留在基板G上的沖洗液向 基板后方匯集，從基板后端流出(清除完液體)。然后，將在干燥部105中清除完液體的基板G從搬出部106搬出， 其后搬入到粘附單元(AD) 40。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置的實施方式，在進行基板洗凈的刷洗洗凈部102內，隆起部80、 81連接設置在搬送路徑32，以 使洗凈液滴下在各自的向上傾斜部80a、 81a上(朝向上游側)的方式 配置噴嘴。由此，能夠使供給到基板上的洗凈液與異物一起向基板后 方流動，不殘留液體，因此能夠解決異物的再附著的課題。另外，因為在噴嘴正下方滴下的洗凈液立即向基板后方流動，所 以能夠使噴嘴正下方的液體厚度變薄，其結果，能夠防止從噴嘴噴出 并滴下的洗凈液的壓力(洗凈壓力)的降低，能夠有效地進行基板洗 凈。另外，通過設置向上傾斜部80a、 81a，如上所述能夠提高洗凈效 率，同時能夠實現(xiàn)搬送路徑32的縮短，因此能夠得到提高生產(chǎn)量、低 成本化的效果。另外，本發(fā)明的被處理基板并不限定于LCD基板，也可以為平面 面板顯示器用的各種基板、半導體晶片、CD基板、玻璃基板、光掩模、 印制基板等。產(chǎn)業(yè)上的可利用性本發(fā)明能夠適用于對LCD基板等實施洗凈處理的基板處理裝置， 能夠在半導體制造業(yè)界、電子裝置制造業(yè)界等中適當?shù)厥褂谩?br> 權利要求
1.一種基板處理裝置，使用洗凈液進行被處理基板的洗凈處理，其特征在于，具有形成有以仰面朝上的姿勢搬送被處理基板的搬送路徑，由所述搬送路徑沿規(guī)定方向搬送所述被處理基板的搬送單元；和向在所述搬送路徑上搬送的所述被處理基板的上面供給洗凈液的洗凈噴嘴，其中，所述搬送路徑具有以水平狀態(tài)搬送所述被處理基板的水平部、和從所述水平部形成規(guī)定角度的向上傾斜的傾斜部，所述洗凈噴嘴配置在所述傾斜部的上方，洗凈液的噴出方向為相對于水平方向向下方傾斜規(guī)定角度的方向、并且為所述搬送路徑的上游方向，向在所述傾斜部上搬送的所述基板的傾斜面噴出洗凈液。
2. 如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于 所述搬送路徑通過敷設多個搬送滾子而形成，所述傾斜部通過使并列設置的所述多個搬送滾子的高度位置沿搬 送方向分階段地增高而形成。
3. 如權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于 所述搬送路徑具有從該搬送路徑的上游側向下游側依次連續(xù)形成的第一傾斜部和第二傾斜部，在所述第一傾斜部和第二傾斜部的上方分別設置有向搬送的所述 基板的傾斜面噴出洗凈液的第一洗凈噴嘴和第二洗凈噴嘴，所述第二傾斜部的頂點相對于所述水平部的高度尺寸形成為比所 述第一傾斜部的頂點的高度尺寸高。
4. 如權利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于 進行控制，使得所述第二洗凈噴嘴噴出的洗凈液的噴出量比所述第一洗凈噴嘴噴出的洗凈液的噴出量多。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，在被處理基板的洗凈處理中，防止異物向洗凈處理后的基板再附著，有效地進行洗凈處理，同時實現(xiàn)提高生產(chǎn)量和低成本化。在使用洗凈液進行被處理基板的洗凈處理的基板處理裝置中，具有形成有以仰面朝上的姿勢搬送被處理基板的搬送路徑，通過搬送路徑搬送基板的搬送單元；和向搬送的基板的上面供給洗凈液的洗凈噴嘴，其中搬送路徑具有以水平狀態(tài)搬送基板的水平部、和從所述水平部形成規(guī)定角度的向上傾斜的傾斜部，洗凈噴嘴配置在傾斜部的上方，洗凈液的噴出方向為相對于水平方向向下方傾斜規(guī)定角度的方向、并且為搬送路徑的上游方向，向在傾斜部上搬送的基板的傾斜面噴出洗凈液。
文檔編號B08B3/00GK101219427SQ20071015974
公開日2008年7月16日 申請日期2007年12月21日 優(yōu)先權日2006年12月21日
發(fā)明者八尋俊一, 坂井光廣, 小宮洋司, 川內拓男 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社