專利名稱：清洗治具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清洗治具，尤其涉及一種用于清洗光學(xué)元件的清洗治具。
背景技術(shù)：
隨著多媒體技術(shù)的發(fā)展，照相機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、手機(jī)照相鏡頭等電子產(chǎn)品越來越為廣大 消費(fèi)者青睞，在人們對(duì)照相機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、手機(jī)照相鏡頭追求小型化的同時(shí)，對(duì)其拍攝出 的物體的影像質(zhì)量也提出了更高的要求，即希望拍攝物體的影像畫面清晰，而物體的成像質(zhì) 量在很大程度上取決于相機(jī)內(nèi)各光學(xué)元件的優(yōu)劣。
相機(jī)內(nèi)成像模組一般包括透鏡、光學(xué)濾光片及影像感測(cè)器等元件，如電荷耦合器 (Charge Coupled Device,簡稱CCD)，或者補(bǔ)充性氧化金屬半導(dǎo)體(Complementary Metal-Oxide Semiconductor,簡稱CM0S)。在生產(chǎn)透鏡及光學(xué)濾光片等光學(xué)元件過程中，為 達(dá)到較高的表面潔凈度， 一般在這些光學(xué)元件鍍膜前及鍍膜后，都需經(jīng)過清洗過程，目的是 為了去除附著于這些光學(xué)元件表面的臟污、油漬及微粒等。而在清洗過程中，需將這些光學(xué) 元件置于治具中，并以適當(dāng)?shù)娜芤杭案呒兌燃兯M(jìn)行清洗。Ching Yu Chang等人在2006年 SPIE系統(tǒng)、光學(xué)微影技術(shù)第十九次研討會(huì)(Optical Microlithography XIX)上發(fā)表的論文 Development of cleaning process for immersion lithography中揭不了^^禾中透鏡等光學(xué) 元件的清洗方法。
請(qǐng)參閱圖l，現(xiàn)有技術(shù)的一種清洗治具10包括一個(gè)用于承載待清洗的光學(xué)元件120的載盤 IOO及一個(gè)蓋體IIO，載盤100上具有多個(gè)臺(tái)階狀通孔101，臺(tái)階狀通孔101包括一個(gè)容置部 1011及一個(gè)連通部1012，容置部1011的直徑大于連通部1012的直徑，并在兩者銜接處形成一 個(gè)臺(tái)階1013。臺(tái)階1013用于承載光學(xué)元件120，連通部1012在光學(xué)元件120清洗過程中，能夠 讓水流接觸承載于臺(tái)階1013上的光學(xué)元件120，從而對(duì)光學(xué)元件120進(jìn)行清洗。光學(xué)元件120 經(jīng)過清洗之后，應(yīng)使用熱風(fēng)將其烘干。
然而，由于光學(xué)元件120與臺(tái)階1013之間有一定面積的接觸，在烘干時(shí)光學(xué)元件120與臺(tái) 階1013接觸的接觸面1201部分烘干較慢且不易被烘干，因而在接觸面1201上會(huì)產(chǎn)生水痕，影 響了光學(xué)元件120的外觀質(zhì)量及相機(jī)的成像質(zhì)量。另外，所述清洗治具10僅針對(duì)一種尺寸外 徑的光學(xué)元件進(jìn)行清洗，無法節(jié)約清洗治具的材料及加工費(fèi)用，因此無法降低清洗治具的制 造成本。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，提供一種避免水痕的產(chǎn)生且低成本的清洗治具實(shí)為必要。
一種清洗治具，用于清洗元件，其包括 一個(gè)載盤及一個(gè)與所述載盤相配合的蓋體，所 述載盤上開設(shè)有多個(gè)第一通孔，所述第一通孔的內(nèi)壁形成有一個(gè)承載部，所述承載部用于承 載所述元件，所述蓋體上開設(shè)有多個(gè)與所述第一通孔相對(duì)應(yīng)的第二通孔，所述第二通孔與第 一通孔相連通，所述元件的外徑大于所述第二通孔的最小直徑且大于所述第一通孔的最小直 徑，其中，所述承載部的直徑沿遠(yuǎn)離所述蓋體的方向逐漸變小，所述承載部與所述元件之間 為線接觸。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，所述清洗治具的承載部與待清洗的光學(xué)元件之間為線接觸，從而避免 了水痕的產(chǎn)生，因而提高了光學(xué)元件的外觀質(zhì)量及相機(jī)的成像質(zhì)量。另外，所述清洗治具可 以清洗外徑在一定直徑范圍內(nèi)的元件，因而可以節(jié)約所述清洗治具的材料及加工費(fèi)用，降低 了所述清洗治具的制造成本。


圖l為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種清洗治具的剖視圖。
圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例提供的一種清洗治具的剖視圖。
圖3為圖2所示的清洗治具的載盤的俯視圖。
圖4為圖2所示的清洗治具的蓋體的俯視圖。
圖5為圖2所示的清洗治具在清洗一種光學(xué)元件時(shí)的剖視圖。
圖6為圖2所示的清洗治具在清洗另一種較大尺寸外徑的光學(xué)元件時(shí)的剖視圖。
圖7為本發(fā)明第二實(shí)施例提供的一種清洗治具的剖視圖。
圖8為本發(fā)明第三實(shí)施例提供的一種清洗治具的剖視圖。
圖9為本發(fā)明第四實(shí)施例提供的一種清洗治具的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
請(qǐng)參閱圖2，為本發(fā)明第一實(shí)施例提供的一種用于清洗光學(xué)元件220的清洗治具20，其包 括一個(gè)載盤200及一個(gè)蓋體210。
所述載盤200上開設(shè)有多個(gè)第一通孔201 ，所述第一通孔201的內(nèi)壁形成有一個(gè)承載部 202，所述承載部202用于承載所述光學(xué)元件220。所述承載部202包括一個(gè)第一開口2021及一 個(gè)第二開口2022，所述承載部202的直徑沿所述第一開口2021至所述第二開口2022的方向逐 漸變小。所述承載部202可以承載外徑在大于所述第二開口2022的直徑且小于所述第一開口2021的直徑范圍內(nèi)的光學(xué)元件220，所述承載部202與所述光學(xué)元件220之間為線接觸。
所述蓋體210上開設(shè)有多個(gè)與所述第一通孔201相對(duì)應(yīng)的第二通孔211，所述第二通孔 211包括一個(gè)第三開口2111。所述蓋體210與所述載盤200配合時(shí)，所述第二通孔211與第一通 孔201相連通，所述第三開口2111的直徑及所述第二開口2022的直徑均小于所述光學(xué)元件220 的外徑，因此可以限制所述光學(xué)元件220，以防止所述光學(xué)元件220從所述載盤200中脫落。 優(yōu)選地，所述蓋體210上的第二通孔211與所述載盤200上的第一通孔201同軸設(shè)置。
請(qǐng)參閱圖3，所述載盤200上的多個(gè)第一通孔201呈矩陣方式排布。當(dāng)然，所述載盤200上 的多個(gè)第一通孔201也可呈其他方式排布，例如呈蜂窩狀排布。所述蜂窩狀排布中，多個(gè)第 一通孔201呈異行錯(cuò)位排布。
請(qǐng)參閱圖4，對(duì)應(yīng)于所述載盤200上的多個(gè)第一通孔201，相應(yīng)地，所述蓋體210上的多個(gè) 第二通孔211可呈矩陣方式排布，也可呈蜂窩狀排布。
請(qǐng)參閱圖5及圖6，在對(duì)所述光學(xué)元件220進(jìn)行清洗時(shí)，首先將所述光學(xué)元件220置于所述 載盤200的第一通孔201的承載部202上，所述承載部202與光學(xué)元件220之間為線接觸，然后 將所述蓋體210扣合并固定到所述載盤200上。將組裝好的所述清洗治具20整體放入清洗液中 ，采用超聲波震蕩的方法使水流對(duì)光學(xué)元件220進(jìn)行清洗。
所述清洗治具20可以清洗外徑在大于所述第二開口2022的直徑且小于所述第一開口 2021的直徑范圍內(nèi)的光學(xué)元件。圖6中光學(xué)元件230與圖5中光學(xué)元件220相比，其直徑大于光 學(xué)元件220的直徑。
請(qǐng)一起參閱圖3至圖6，本實(shí)施例中，所述蓋體210與載盤200之間的固定方式為螺絲鎖合 方式，通過在所述載盤200的四角及蓋體210的四角分別設(shè)置四個(gè)螺孔204和214，然后通過螺 栓240和螺母250將蓋體210與載盤200固定在一起。當(dāng)然，所述蓋體210與載盤200之間也可以 采用其他方式固定，例如采用夾具將所述蓋體210與載盤200夾在一起從而固定。
本實(shí)施例中，所述載盤200的材料為不銹鋼，所述蓋體210的材料為不銹鋼。當(dāng)然，所述 載盤200及蓋體210的材料也可以為鋁、鋁合金、鈦合金和銅中的一種。
本實(shí)施例的清洗治具20的承載部202與待清洗的光學(xué)元件220之間為線接觸，從而避免了 水痕的產(chǎn)生，因而提高了光學(xué)元件220的外觀質(zhì)量及相機(jī)的成像質(zhì)量。另外，所述清洗治具 20可以清洗外徑在大于所述第二開口2022的直徑且小于所述第一開口2021的直徑范圍內(nèi)的光 學(xué)元件，因而可以節(jié)約所述清洗治具20的材料及加工費(fèi)用，降低了所述清洗治具20的制造成 本。
請(qǐng)參閱圖7，為本發(fā)明第二實(shí)施例提供的一種用于清洗光學(xué)元件320的清洗治具30。所述 清洗治具30與所述第一實(shí)施例提供的清洗治具20的區(qū)別在于所述清洗治具30中，所述蓋體 310上的第二通孔311的直徑沿遠(yuǎn)離所述載盤300的方向逐漸變大，以便于在所述光學(xué)元件 320清洗過程中，水流更容易經(jīng)由所述第二通孔311流入所述第一通孔301對(duì)光學(xué)元件320進(jìn)行 清洗。
請(qǐng)參閱圖8，為本發(fā)明第三實(shí)施例提供的一種用于清洗光學(xué)元件420的清洗治具40。所述 清洗治具40與所述第一實(shí)施例提供的清洗治具20的區(qū)別在于所述載盤400上的所述第一通 孔401進(jìn)一步包括一個(gè)連通部405，所述連通部405與所述承載部402相連通，水流經(jīng)由所述連 通部405流入所述承載部402對(duì)所述元件420進(jìn)行清洗。
請(qǐng)參閱圖9，為本發(fā)明第四實(shí)施例提供的一種用于清洗光學(xué)元件520的清洗治具50。所述 清洗治具50與所述第二實(shí)施例提供的清洗治具30的區(qū)別在于所述載盤500上的所述第一通 孔501進(jìn)一步包括一個(gè)連通部505，所述連通部505與所述承載部502相連通，所述連通部505 的直徑沿遠(yuǎn)離所述連通部505與所述承載部502的連接處的方向逐漸變大，以便于在所述光學(xué) 元件520清洗過程中，水流更容易經(jīng)由所述連通部505流入所述承載部502對(duì)光學(xué)元件520進(jìn)行 清洗。
另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神 所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種清洗治具，用于清洗元件，其包括一個(gè)載盤及一個(gè)與所述載盤相配合的蓋體，所述載盤上開設(shè)有多個(gè)第一通孔，所述第一通孔的內(nèi)壁形成有一個(gè)承載部，所述承載部用于承載所述元件，所述蓋體上開設(shè)有多個(gè)與所述第一通孔相對(duì)應(yīng)的第二通孔，所述第二通孔與第一通孔相連通，所述元件的外徑大于所述第二通孔的最小直徑且大于所述第一通孔的最小直徑，其特征在于，所述承載部的直徑沿遠(yuǎn)離所述蓋體的方向逐漸變小，所述承載部與所述元件之間為線接觸。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種清洗治具，用于清洗元件，其包括一個(gè)載盤及一個(gè)與所述載盤相配合的蓋體，所述載盤上開設(shè)有多個(gè)第一通孔，所述第一通孔的內(nèi)壁形成有一個(gè)承載部，所述承載部用于承載所述元件，所述蓋體上開設(shè)有多個(gè)與所述第一通孔相對(duì)應(yīng)的第二通孔，所述第二通孔與第一通孔相連通，所述元件的外徑大于所述第二通孔的最小直徑且大于所述第一通孔的最小直徑，所述承載部的直徑沿遠(yuǎn)離所述蓋體的方向逐漸變小，所述承載部與所述元件之間為線接觸。
文檔編號(hào)B08B13/00GK101352715SQ20071020118
公開日2009年1月28日 申請(qǐng)日期2007年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月26日
發(fā)明者陳漢邦 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司