專利名稱：滾筒清潔裝置及應(yīng)用此滾筒清潔裝置的涂布機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種滾筒清潔裝置，尤其涉及一種涂布機(jī)的滾筒清潔裝置 及應(yīng)用此滾筒清潔裝置的涂布機(jī)。
背景技術(shù)：
滾筒式涂布機(jī)應(yīng)用的層面非常的廣泛，從傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)至高科技產(chǎn)業(yè)均能夠看 到滾筒式涂布機(jī)的應(yīng)用，例如傳統(tǒng)印刷業(yè)的滾筒式印刷機(jī)以及技術(shù)密集的薄
膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)產(chǎn)業(yè)的光刻膠涂布機(jī)。
以下以薄膜晶體管液晶顯示器產(chǎn)業(yè)為例。鑒于薄膜晶體管液晶顯示器具有 省電、輕薄與低輻射等優(yōu)點(diǎn)，故薄膜晶體管液晶顯示器已經(jīng)成為顯示器產(chǎn)業(yè)的 主流產(chǎn)品。在追求最低成本最高獲利的經(jīng)濟(jì)原則下，薄膜晶體管液晶顯示器有 往大尺寸發(fā)展的趨勢，而為因應(yīng)此一趨勢伴隨而來的玻璃基板光刻膠涂布問 題，光刻膠涂布機(jī)也須加以改進(jìn)調(diào)整。因此，在光刻膠涂布機(jī)的演進(jìn)上，光刻 膠涂布機(jī)由以往適用于小尺寸液晶顯示器的旋轉(zhuǎn)式涂布機(jī)演變成適用于次世 代液晶顯示器的滾筒式光刻膠涂布機(jī)。
在滾筒式光刻膠涂布機(jī)中，用以涂布光刻膠的涂布滾筒于使用一段時(shí)間 后，容易在涂布滾筒表面沾附雜質(zhì)而形成印痕，進(jìn)而造成后續(xù)液晶顯示器玻璃 基板產(chǎn)生光刻膠涂布不均(也即光刻膠涂布膜厚不均)等非預(yù)期的缺陷，故必須 針對(duì)涂布滾筒進(jìn)行清潔的動(dòng)作。請(qǐng)參照?qǐng)Dl，其為一般針對(duì)涂布滾筒表面實(shí)施 清潔動(dòng)作的裝置的示意圖。涂布滾筒10由驅(qū)動(dòng)裝置(未繪示)驅(qū)動(dòng)以繞著涂布 滾筒10的中心12轉(zhuǎn)動(dòng)，配合位于涂布滾筒10 —側(cè)的刮刀板14可清除沾附于 涂布滾筒10表面的雜質(zhì)。經(jīng)過刮刀板14清除雜質(zhì)的涂布滾筒10的表面，隨 即由位于刮刀板14上方的吹氣排管16進(jìn)行第二次清除雜質(zhì)的吹氣步驟。
目前，此一清潔結(jié)構(gòu)并無法有效地將涂布滾筒10表面上沾附的雜質(zhì)清除， 進(jìn)而無法去除涂布滾筒IO上的印痕，故對(duì)接受涂布產(chǎn)品的良率仍有負(fù)面的影 響。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于提供一種滾筒清潔裝置，通過清潔溶 劑的浸泡與清潔滾筒的搭配使用，對(duì)涂布滾筒沾附的雜質(zhì)實(shí)施清除。
本實(shí)用新型的另一目的為提供一種包括前述滾筒清潔裝置的涂布機(jī)，配合 清潔溶劑與清潔滾筒能夠提高涂布機(jī)產(chǎn)品的良率。
根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施例，提供可清潔涂布滾筒的一種滾筒清潔裝置， 至少包括浸泡槽與清潔滾筒。其中浸泡槽容置有清潔溶劑，涂布滾筒可轉(zhuǎn)動(dòng) 且水平置放于浸泡槽上，且涂布滾筒的其中一部分浸泡于浸泡槽中的清潔溶劑 的液面下。清潔滾筒也可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置放于浸泡槽上，且清潔滾筒其中一部分 浸泡于浸泡槽中的清潔溶劑的液面下，而清潔滾筒與涂布滾筒平行接觸。
根據(jù)本實(shí)用新型的另--實(shí)施例，提供一種涂布機(jī)，至少包括涂布裝置與 滾筒清潔裝置。其中涂布裝置至少包括涂布滾筒。而滾筒清潔裝置至少包括 浸泡槽與清潔滾筒。其中浸泡槽容置有清潔溶劑，涂布滾筒可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置放 于浸泡槽上，且涂布滾筒的其中一部分浸泡于浸泡槽中的清潔溶劑的液面下。 清潔滾筒也可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置放于浸泡槽上，且清潔滾筒其中一部分浸泡于浸泡 槽中的清潔溶劑的液面下，而清潔滾筒與涂布滾筒平行接觸。
因此，應(yīng)用本實(shí)用新型的實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)是，可于涂布工藝中提供涂布滾筒 更佳的清潔，進(jìn)而提高涂布滾筒的產(chǎn)品的良率。


本實(shí)用新型可由上述的詳細(xì)說明并輔以所附附圖而獲得較佳的說明。要強(qiáng) 調(diào)的是，根據(jù)工業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)常規(guī)，附圖中的各種特征并未依比例繪示。事實(shí)上， 為清楚說明上述實(shí)施例，可任意地放大或縮小各種特征的尺寸。 圖1為一般針對(duì)涂布滾筒表面實(shí)施清潔動(dòng)作的裝置的示意圖； 圖2為根據(jù)本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例的滾筒清潔裝置的立體示意圖； 圖3為根據(jù)本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例的滾筒清潔裝置的側(cè)面示意圖； 圖4為根據(jù)本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例的滾筒清潔裝置的側(cè)面示意圖； 圖5為根據(jù)本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例的涂布機(jī)的裝置示意圖。 其中，附圖標(biāo)記
10:涂布滾筒12:中心
14:刮刀板16:吹氣排管
20:涂布滾筒21:中心
22:滾筒清潔裝置23:浸泡槽
24:清潔滾筒25:清潔溶劑
26:中心27:干燥滾筒
28:中心29:連動(dòng)機(jī)構(gòu)
50:涂布機(jī)52:涂布裝置
d:水平距離
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參照?qǐng)D2與圖3，其分別繪示根據(jù)本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例的滾筒清 潔裝置的立體示意圖與側(cè)面示意圖。涂布滾筒20為一圓柱狀元件，涂布滾筒 20相對(duì)二側(cè)面的中心21具有支撐軸承(未繪示)，而通過二側(cè)的支撐軸承可將 涂布滾筒20架設(shè)在支撐架上(未繪示)，進(jìn)而使得涂布滾筒20能夠以中心21 為軸心作轉(zhuǎn)動(dòng)。
本實(shí)用新型的滾筒清潔裝置22至少包括浸泡槽23與清潔滾筒24，其中 浸泡槽23中裝有清潔溶劑25。利用滾筒清潔裝置22進(jìn)行涂布滾筒20的清潔 程序時(shí)，清潔滾筒24與涂布滾筒20水平放置在浸泡槽23上方，且清潔滾筒 24與涂布滾筒20的一部分位于清潔溶劑25的液面下，同時(shí)涂布滾筒20與清 潔滾筒24兩滾筒平行接觸，如圖2與圖3所示。而清潔滾筒24也為一圓柱狀 元件，清潔滾筒24同樣可通過相對(duì)二側(cè)面的中心26上的支撐軸承(未繪示) 而架設(shè)于支撐架上(未繪示)，進(jìn)而使得清潔滾筒24能夠繞著中心26所形成的 軸作旋轉(zhuǎn)。
如圖3所示，當(dāng)涂布滾筒20受到驅(qū)動(dòng)而進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，涂布滾筒20的表面 可連續(xù)地通過浸泡槽23中的清潔溶劑25，使得涂布滾筒20在任何時(shí)刻均有 部分表面浸泡于清潔溶劑25中，進(jìn)而利用清潔溶劑25來對(duì)涂布滾筒20的表 面實(shí)施清潔的步驟。
在前述利用清潔溶劑25對(duì)涂布滾筒20作清潔的同時(shí)，清潔滾筒24也受 到驅(qū)動(dòng)，而進(jìn)行與前述涂布滾筒20相似的程序。因此，清潔滾筒24的表面也連續(xù)地通過浸泡槽23中的清潔溶劑25，清潔滾筒24在任何時(shí)刻均有部分表 面浸泡于清潔溶劑25中，離開清潔溶劑25的清潔滾筒24的表面繼續(xù)旋轉(zhuǎn)而 與涂布滾筒20的表面作平行接觸。通過清潔滾筒24與涂布滾筒20的平行接 觸，以及清潔滾筒24表面所沾附的清潔溶劑25，可對(duì)涂布滾筒20的表面進(jìn) 行擦拭作用，進(jìn)一步清除涂布滾筒20的表面殘存的雜質(zhì)。在本實(shí)施例中，可 利用一連動(dòng)機(jī)構(gòu)29，例如皮帶，來進(jìn)行清潔滾筒24的驅(qū)動(dòng)，通過連動(dòng)機(jī)構(gòu)29 將涂布滾筒20的轉(zhuǎn)動(dòng)傳遞至清潔滾筒24，使清潔滾筒24與涂布滾筒20具有 相同的旋轉(zhuǎn)方向，且因?yàn)榍鍧崫L筒24與涂布滾筒20具有相同的旋轉(zhuǎn)方向，所 以在清潔滾筒24與涂布滾筒20的接觸面上，具有方向相反的移動(dòng)，使得擦拭 作用能夠更有效的清除涂布滾筒20的表面上的雜質(zhì)。在其它的實(shí)施例中，可 利用馬達(dá)來驅(qū)動(dòng)清潔滾筒24，而使清潔滾筒24與涂布滾筒20具有相同的旋 轉(zhuǎn)方向，同樣可達(dá)到清潔涂布滾筒20的表面的效果。
請(qǐng)參照?qǐng)D4，本實(shí)用新型的另一實(shí)施例除包括前一實(shí)施例的浸泡槽23與 清潔滾筒24外，還可進(jìn)一步包括干燥滾筒27。干燥滾筒27水平置放于浸泡 槽23之上，其中干燥滾筒27的一部分位于浸泡槽23中的清潔溶劑25的液面 下，且干燥滾筒27與清潔滾筒24平行接觸，而千燥滾筒27相對(duì)二側(cè)的中心 28包含支撐軸承(未繪示)，使得干燥滾筒27可架設(shè)在支撐架上(未繪示)，并 以兩側(cè)的中心28為軸進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。另外，干燥滾筒27與涂布滾筒20分別位于 清潔滾筒24的兩側(cè)。通過干燥滾筒27與清潔滾筒24的接觸，可對(duì)清潔滾筒 24進(jìn)行干燥處理。在一實(shí)施例中，干燥滾筒27與清潔滾筒24間兩平行中心 線的水平距離d，即干燥滾筒27 二側(cè)面的中心28與清潔滾筒24 二側(cè)面的中 心26間的水平距離d，小于干燥滾筒27的半徑與清潔滾筒24的半徑的和， 換言的，即干燥滾筒27可對(duì)清潔滾筒24進(jìn)行擠壓作用，藉以增進(jìn)千燥滾筒 27的干燥作用。
請(qǐng)參照?qǐng)D5，其為根據(jù)本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例的涂布機(jī)的裝置示意 圖。如圖5所示，本實(shí)施例的涂布機(jī)50至少包括涂布裝置52與滾筒清潔裝置 22。請(qǐng)搭配參照?qǐng)Dl、圖2與圖3，其中涂布裝置52至少包括涂布滾筒20， 涂布滾筒20類似于圖1所示的涂布滾筒10，利用涂布滾筒20 二側(cè)的中心21 的支撐軸承將涂布滾筒20架設(shè)于支撐架上，如此可利用以涂布滾筒20 二側(cè)的 中心21為軸的轉(zhuǎn)動(dòng)作用將涂布液涂布于待涂布的元件上。如同先前參照?qǐng)D2
與圖3所作的描述，滾筒清潔裝置22至少包括浸泡槽23與清潔滾筒24。
當(dāng)涂布滾筒20欲進(jìn)行清潔程序時(shí)，將涂布滾筒20移設(shè)至滾筒清潔裝置 22中，并將涂布滾筒20與清潔滾筒24水平設(shè)置于浸泡槽23之上，而使涂布 滾筒20與清潔滾筒24平行接觸，同時(shí)使涂布滾筒20與清潔滾筒的一部分均 位于浸泡槽23內(nèi)所容置的清潔溶劑25的液面下，如圖2與圖3所示。然后， 即可進(jìn)行涂布滾筒20的清潔程序。
本實(shí)用新型所討論的裝置包含有現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)，由于這些現(xiàn)有技術(shù)的結(jié) 構(gòu)和歩驟為此技術(shù)領(lǐng)域所習(xí)知，故只會(huì)以一般程度的細(xì)節(jié)來討論。另外，為了 方便及舉例起見，重復(fù)使用參考符號(hào)于圖標(biāo)中，然而，這樣的重復(fù)并非代表圖 標(biāo)中的特征或步驟的任何必要結(jié)合。
當(dāng)然，本實(shí)用新型還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本實(shí)用新型精神及其 實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本實(shí)用新型做出各種相應(yīng) 的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附的權(quán)利要求 的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1. 一種滾筒清潔裝置，用以清潔一涂布滾筒，其特征在于，該滾筒清潔裝置至少包括一浸泡槽，容置有一清潔溶劑于該浸泡槽中，該涂布滾筒可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置放于該浸泡槽之上，且該涂布滾筒的一部分浸泡于該浸泡槽中的該清潔溶劑的液面下；以及一清潔滾筒，可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置放于該浸泡槽之上，該清潔滾筒的一部分浸泡于該浸泡槽中的該清潔溶劑的液面下，且該清潔滾筒與該涂布滾筒平行接觸。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的滾筒清潔裝置，其特征在于，還至少包括一干燥 滾筒，可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置放于該浸泡槽之上，該干燥滾筒的一部分浸泡于該浸泡 槽中的該清潔溶劑的液面下，且該干燥滾筒與該清潔滾筒平行接觸，該干燥滾 筒與該涂布滾筒分別位于該清潔滾筒的兩側(cè)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的滾筒清潔裝置，其特征在于，該干燥滾筒與該清 潔滾筒的中心線的一水平距離小于該干燥滾筒與該清潔滾筒的半徑和。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的滾筒清潔裝置，其特征在于，該清潔滾筒與該涂 布滾筒具有相同的轉(zhuǎn)動(dòng)方向。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的滾筒清潔裝置，其特征在于，該清潔滾筒與一連 動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，通過該連動(dòng)機(jī)構(gòu)將該涂布滾筒的轉(zhuǎn)動(dòng)傳遞至該清潔滾筒。
6. —種涂布機(jī)，其特征在于，至少包括 一涂布裝置，至少包括一涂布滾筒；以及 一滾筒清潔裝置，至少包括一浸泡槽，容置有一清潔溶劑于該浸泡槽中，該涂布滾筒可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置 放于該浸泡槽之上，且該涂布滾筒的一部分浸泡于該浸泡槽中的該清潔溶劑的 液面下；以及一清潔滾筒，可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置放于該浸泡槽之上，該清潔滾筒的一部分 浸泡于該浸泡槽中的該清潔溶劑的液面下，且該清潔滾筒與該涂布滾筒平行接
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布機(jī)，其特征在于，還至少包括一千燥滾筒，可轉(zhuǎn)動(dòng)且水平置放于該浸泡槽之上，該干燥滾筒的一部分浸泡于該浸泡槽中的 該清潔溶劑的液面下，且該干燥滾筒與該清潔滾筒平行接觸，而該干燥滾筒與 該涂布滾筒分別位于該清潔滾筒的兩側(cè)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂布機(jī)，其特征在于，該干燥滾筒與該清潔滾筒 的中心線的一水平距離小于該干燥滾筒與該清潔滾筒的半徑和。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布機(jī)，其特征在于，該清潔滾筒與該涂布滾筒 具有相同的轉(zhuǎn)動(dòng)方向。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的涂布機(jī)，其特征在于，該清潔滾筒與一連動(dòng)機(jī) 構(gòu)連接，通過該連動(dòng)機(jī)構(gòu)將該涂布滾筒的轉(zhuǎn)動(dòng)傳遞至該清潔滾筒。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種滾筒清潔裝置及應(yīng)用此滾筒清潔裝置的涂布機(jī)。此一滾筒清潔裝置至少包括浸泡槽與清潔滾筒。浸泡槽中容置有清潔溶劑，而清潔滾筒與涂布滾筒平行接觸且兩者均部分浸泡于清潔溶劑液面下。通過旋轉(zhuǎn)作用，涂布滾筒的表面連續(xù)地通過清潔溶劑，進(jìn)行第一道清潔程序，接著在與清潔滾筒平行接觸部分產(chǎn)生擦拭作用，進(jìn)行第二道清潔程序。
文檔編號(hào)B08B7/04GK201076862SQ20072017650
公開日2008年6月25日 申請(qǐng)日期2007年9月10日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月10日
發(fā)明者王建國, 薛金水, 賴銘鑒, 鍾明軒 申請(qǐng)人:東捷科技股份有限公司