專利名稱：錄像機(jī)用無鉛化磁頭芯片清洗劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種無鉛化磁頭芯片加工過程中所使用的清洗劑，尤其是一種 成本低、對環(huán)境無污染、可保證芯片玻璃部分的透明度、提高產(chǎn)品清洗成品率 的錄像機(jī)用無鉛化磁頭芯片清洗劑。
背景技術(shù)：
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錄像機(jī)用磁頭芯片的玻璃部分需要具有充分的透明度，以便磁頭的組裝， 這就需要用合適的清洗劑洗掉芯片切割加工過程中所用的加工液體。以往，錄 像機(jī)磁頭芯片的玻璃部分一直使用含鉛玻璃，清洗時也使用可與加工液體發(fā)生 乳化或皂化反應(yīng)的清洗劑，不但組分復(fù)雜、原材料成本高，而且還含有對環(huán)境 污染的成分，需要進(jìn)行特殊的無害化環(huán)保處理，處理費(fèi)用較高。隨著人們對環(huán) 境保護(hù)的意識越來越強(qiáng)烈，錄像機(jī)磁頭芯片的玻璃部分也隨之改變?yōu)闊o鉛化玻 璃，但是，卻仍然用現(xiàn)有的含鉛磁頭芯片清洗劑清洗無鉛化磁頭芯片，不但依 然存在著上述問題而且還存在著清洗成品率低的問題。因無鉛化玻璃的化學(xué)穩(wěn) 定性不及含鉛玻璃，芯片切割加工用液體會與無鉛化玻璃發(fā)生反應(yīng)，即在玻璃 表面形成一層不透明的反應(yīng)層，而現(xiàn)有的含鉛玻璃用清洗劑無法徹底將該反應(yīng) 層清洗掉，導(dǎo)致芯片清洗的成品率較低，僅為70%左右。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的清洗成品率低、對環(huán)境污染大等問題， 提供一種成本低、對環(huán)境無污染、可保證芯片玻璃部分透明度、提高產(chǎn)品清洗 成品率的錄像機(jī)用無鉛化磁頭芯片清洗劑。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案是 一種錄像機(jī)用無鉛化磁頭芯片清洗劑，其特征 在于是PH值為8~10的無機(jī)堿性水。
所述的無機(jī)堿性水是NaHC03或Na2C03的水溶液。
本發(fā)明組分簡單、原材料成本低，沒有對環(huán)境產(chǎn)生較大污染的成分，因此 就節(jié)省了環(huán)保處理費(fèi)用；使用本發(fā)明在超聲波下清洗芯片，可以反復(fù)腐蝕無鉛 玻璃表面的不透明反應(yīng)層，直至徹底去除，保證了芯片玻璃部分的透明度，可 將產(chǎn)品清洗成品率由70°/。左右提高到95%左右。
具體實施例方式
實施例1:
取蒸餾水及環(huán)境友好型的堿性物質(zhì)，如碳酸鉀、碳酸氫鉀等，配制成PH 值為8~10的環(huán)境友好型堿性水，即制成本發(fā)明的清洗劑。在超聲波下用本發(fā)
明清洗劑將芯片清洗5~10分鐘，之后更換新清洗劑，反復(fù)更換3次以上，然
后用純水洗掉本發(fā)明的清洗劑，最后烘干?？梢员ＷC磁頭芯片玻璃部分的透明
度，清洗成品率達(dá)93%。 實施例2:
取蒸餾水及NaHC03或Na2C03，調(diào)成PH值為8~10的堿性水，即制成本 發(fā)明的清洗劑。在超聲波下用本發(fā)明清洗劑將芯片清洗5~10分鐘，之后更換 新清洗劑，反復(fù)更換3次以上，然后用純水洗掉本發(fā)明的清洗劑，最后烘干。 可以保證磁頭芯片玻璃部分的透明度，清洗成品率達(dá)98%。
權(quán)利要求
1.一種錄像機(jī)用無鉛化磁頭芯片清洗劑，其特征在于是PH值為8～10的環(huán)境友好型堿性水。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的錄像機(jī)用無鉛化磁頭芯片清洗劑，其特征在于所 述的無機(jī)堿性水是NaHC03或Na2C03的水溶液。
全文摘要
本發(fā)明公開一種錄像機(jī)用無鉛化磁頭芯片清洗劑，其特征在于是pH值為8～10的環(huán)境友好型堿性水。組分簡單、原材料成本低，沒有對環(huán)境產(chǎn)生較大污染的成分，因此就節(jié)省了環(huán)保處理費(fèi)用；使用本發(fā)明在超聲波下清洗芯片，可以反復(fù)腐蝕無鉛玻璃表面的不透明反應(yīng)層，直至徹底去除，保證了芯片玻璃部分的透明度，可將產(chǎn)品清洗成品率由70％左右提高到95％左右。
文檔編號C11D7/02GK101343599SQ200810013070
公開日2009年1月14日 申請日期2008年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月3日
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