專利名稱：拉西環(huán)的清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域的可用于清洗拉西環(huán)的清洗裝置。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體產(chǎn)品的制程繁雜多樣，且制程中所使用的化學(xué)物質(zhì)種類相當繁多。 為了避免有毒的廢氣排放到空氣中，在廢氣排放之前，必須先采用廢氣處理系
統(tǒng)如洗滌塔對廢氣進行處理。無論是位于機臺端的本地洗滌塔(local scrubber) 還是處于廠務(wù)端的中央洗滌塔(center scrubber),大部分采用的是填充式的濕式 洗滌塔。
在濕式洗滌塔中，承載填充物的部件是拉西環(huán)。使用一段時間后，拉西環(huán) 上會堆積很多污垢，如果不及時處理的話，就會影響廢氣處理的質(zhì)量與效率。 因此，需要定期清洗拉西環(huán)。目前沒有專門用于清洗拉西環(huán)的裝置，僅是將一 堆拉西環(huán)放在清洗槽中用高壓水柱沖洗。這種清洗方式不容易將拉西環(huán)清洗干 凈，而且?guī)讉€拉西環(huán)就會使整個清洗槽內(nèi)的水變得混濁，從而浪費大量的水。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明解決的技術(shù)問題在于提供一種高效率的拉西環(huán)的清洗裝置。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種拉西環(huán)的清洗裝置。所述清洗裝 置包括相隔設(shè)置的用于放置拉西環(huán)的清洗槽以及對清洗產(chǎn)生的廢水進行過濾的 過濾器；所述清洗槽的深度小于清洗裝置的深度，且清洗槽上設(shè)有數(shù)個小于拉 西環(huán)的漏孔。
進一步地，所述清洗裝置還包括位于清洗槽和過濾器之間的溢出板，所述 溢出板的高度低于清洗槽；所述溢出板擋住順清洗槽流下的沉淀物，所述過濾 器對溢過所述溢出板的廢水進行過濾。
進一步地，所述清洗槽上的數(shù)個漏孔均設(shè)置在清洗槽的底壁上。 進一步地，所述過濾器呈板狀，可拆卸地豎直安裝在所述清洗裝置內(nèi)。所述過濾器包括平行相隔設(shè)置的第一過濾器和第二過濾器，第一過濾器靠近清洗
槽，且高度低于第二過濾器；第二過濾器上的過濾網(wǎng)比第一過濾器上的過濾網(wǎng) 細。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的清洗裝置不僅可以有效地將拉西環(huán)上堆積 的污垢清洗干凈，而且可以對廢水進行過濾，^吏得清洗產(chǎn)生的廢水可以進行重 復(fù)利用，進而節(jié)約水資源。


圖l是本發(fā)明實施例拉西環(huán)的清洗裝置的立體示意圖。 圖2是本發(fā)明實施例拉西環(huán)的清洗裝置的截面示意圖。
具體實施例方式
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明拉西環(huán)的清洗裝置的較佳實施例作詳細描述，以期 進一步理解發(fā)明的技術(shù)方案、目的以及有益效果等。
圖1為本實施例的拉西環(huán)的清洗裝置的立體示意圖。請結(jié)合圖2,該清洗裝 置由前、后、左、右及底壁圍繞而成，呈長方體狀。該清洗裝置的右側(cè)設(shè)有清 洗槽l,深度大致是整個清洗裝置的一半，用于放置需要清洗的拉西環(huán)8。該清 洗槽1由豎直放置的止擋板12、水平放置的底壁10以及清洗裝置的部分右壁和 后壁圍繞形成。所述底壁10上具有若干個漏孔11,漏孔ll的形狀可以是圓形， 也可以是方形等其他形狀，只要小于拉西環(huán)8避免拉西環(huán)8掉出清洗槽1就可 以使用。所述清洗槽1和溢出板2可以釆用聚氯乙烯(PVC)或者聚丙烯(PP) 材料制成。該清洗裝置還設(shè)有豎直放置的溢出板2，其高度低于底壁IO的位置， 所述止擋板12向下延伸超過溢出板2。位于溢出板2左側(cè)依次安裝有第一過濾 器3、第二過濾器4以及作為廢水抽取部件的水泵5。水泵5通過管道6將廢水 排到廢水處理系統(tǒng)，其中管道6上還設(shè)有第三個過濾器即透明過濾器7。所述溢 出板2、第一過濾器3及第二過濾器4相互平行，且均呈板狀，從清洗裝置的前 壁延伸至后壁。另外，第二過濾器4的高度與清洗裝置的深度相同，以方便對 所有廢水進行過濾。第一過濾器3高度低于第二過濾器4，第一過濾器3的過濾 網(wǎng)的濾網(wǎng)較粗，而第二過濾器4的過濾網(wǎng)較細。第一過濾器3及第二過濾器4 可以采用尼龍或者不銹鋼材料制成。清洗拉西環(huán)時，首先將需要清洗的拉西環(huán)8放入清洗槽1內(nèi)，工作人員利 用0.8兆帕(Mpa)的高壓水槍對拉西環(huán)8進行沖洗。沖洗后的水通過底壁10 上的漏孔ll漏出，在溢出板2和底壁10阻隔的區(qū)域里，廢水中質(zhì)量較重的雜 質(zhì)沉淀下來，實現(xiàn)第一次過濾。廢水溢過溢出板2，由第一過濾器3和第二過濾 器4對廢水中的雜質(zhì)進一步過濾。最后，安裝在管道6上的透明過濾器7對微 小雜質(zhì)進一步過濾。圖2中箭頭的方向就是廢水流動的方向。使用本發(fā)明的清 洗裝置不僅可以實現(xiàn)對拉西環(huán)的有效清洗，而且通過對廢水的多重過濾，可以 對廢水進行重復(fù)利用，大大節(jié)省了水資源。
所述底壁10、溢出板2、第一過濾器3及第二過濾器4均是可拆除地安裝 在清洗裝置上的，這樣可以在使用一段時間后，方便更換損壞的部件。
上述描述，僅是對本發(fā)明較佳實施例的具體描述，并非對本發(fā)明的任何限 定。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)上述揭示內(nèi)容進行簡單修改、 添加、變換，但均屬于權(quán)利要求書中保護的內(nèi)容。
權(quán)利要求
1.一種拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置包括相隔設(shè)置的用于放置拉西環(huán)的清洗槽以及對清洗產(chǎn)生的廢水進行過濾的過濾器；所述清洗槽的深度小于清洗裝置的深度，且清洗槽上設(shè)有數(shù)個小于拉西環(huán)的漏孔。
2. 如權(quán)利要求1所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括 位于清洗槽和過濾器之間的溢出板，所述溢出板的高度低于清洗槽；所述溢出 板擋住順清洗槽流下的沉淀物，所述過濾器對溢過所述溢出板的廢水進行過濾。
3. 如權(quán)利要求1所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽上的數(shù)個 漏孔均設(shè)置在清洗槽的底壁上。
4. 如權(quán)利要求1所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述過濾器呈板狀， 可拆卸地豎直安裝在所述清洗裝置內(nèi)。
5. 如權(quán)利要求1所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述過濾器包括平行 相隔設(shè)置的第 一過濾器和第二過濾器。
6. 如權(quán)利要求5所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述第一過濾器靠近 清洗槽，且高度低于第二過濾器。
7. 如權(quán)利要求5所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述第一過濾器靠近 清洗槽，且第二過濾器上的過濾網(wǎng)比第一過濾器上的過濾網(wǎng)細。
8. 如權(quán)利要求1所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括 將過濾后的廢水抽出清洗裝置的廢7JC^取部件。
9. 如權(quán)利要求8所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述廢7jC抽取部件通 過管道將廢水排入廢水處理系統(tǒng)；所述管道上安裝有對廢水進一步過濾的另一 過濾器。
10. 如權(quán)利要求9所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述另一過濾器為透 明過濾器。
11. 如權(quán)利要求1所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括 向清洗槽注水的水J險。
12. 如權(quán)利要求11所述的拉西環(huán)的清洗裝置，其特征在于，所述水槍的水注入 壓強是0.8兆帕。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種拉西環(huán)的清洗裝置?，F(xiàn)有沒有專門用于拉西環(huán)的清洗裝置。本發(fā)明提供的清洗裝置包括相隔設(shè)置的用于放置拉西環(huán)的清洗槽以及對清洗產(chǎn)生的廢水進行過濾的過濾器；所述清洗槽的深度小于清洗裝置的深度，且清洗槽上設(shè)有數(shù)個小于拉西環(huán)的漏孔。本發(fā)明的清洗裝置還包括位于清洗槽和過濾器之間的溢出板，所述溢出板的高度低于清洗槽；所述溢出板擋住流出清洗槽的廢水，將沉淀的雜質(zhì)阻擋住。所述過濾器對溢過所述溢出板的廢水進行過濾。本發(fā)明提供的清洗裝置不僅可以配合高壓水槍有效地將拉西環(huán)上堆積的污垢清洗干凈，而且可以對廢水進行過濾，使得清洗產(chǎn)生的廢水可以進行重復(fù)利用，進而節(jié)約水資源。
文檔編號B08B3/02GK101590475SQ200810038389
公開日2009年12月2日 申請日期2008年5月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月30日
發(fā)明者周金鋒, 敖擁軍 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司