專利名稱：吸嘴清潔冶具及其使用方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種吸嘴清潔冶具及其使用方法，特別是有關(guān)一種利用框架托起以 防止吸嘴在清洗過程中受損的清潔冶具及其使用方法。
背景技術(shù)：
隨著科技發(fā)展，各式各樣的電子信息產(chǎn)品已普遍于日常生活中，例如移動電 話因具備有多元功能以及輕薄的體積，目前已然成為最為普遍的移動通訊裝置。而 且，隨著相關(guān)業(yè)者不斷地擴充移動電話功能，人手一臺的移動電話幾乎已成為一臺 便于移動的計算機，各種以往計算機才可操作的網(wǎng)絡(luò)附加功能，已在多數(shù)的移動電 話中可進行相關(guān)操作。
上述的電子裝置的內(nèi)部皆經(jīng)由精密組件來進行控制與運作。然而，由于這種電 子裝置的體積越來越小，功能相對地也越來越復(fù)雜，使得電子裝置內(nèi)的電路板體積 必須隨的縮小，同時也代表了電路板上的零件密度越來越高，組裝這些組件的難度
亦隨的提升。因此，為解決實際操作上的困境，出現(xiàn)了表面黏著技術(shù)(Source mounted technology, SMT)來實現(xiàn)高密度零件的配置與組裝。
SMT技術(shù)，以錫膏為黏著接口，將表面黏著組件(Surface Mount Device, SMD) 焊在印刷電路板或基板表面。進一步說明，SMT制程是先經(jīng)由送板機將印刷電路板送 入，再由錫膏印刷機在要上零件的部位印刷上錫膏。接著，經(jīng)由輸送帶送入置件機， 置件的基本原理就是以抽真空的方式吸取零件，然后移到要置件的位置，然后把零 件放在錫膏上。隨后，以熱風或紅外線等方式將錫膏加熱到熔點溶化后降溫以完成 零件與電路板間的焊接。最后，把焊接完成的電路板收起來。其中，置件機利用吸 嘴(Nozzle)來執(zhí)行吸取零件的動作，且有高速機、中速機與泛用機等區(qū)別，通常由 高速機搭配小零件、中速機搭配中零件以及泛用機搭配大零件或精準度要求較高的 零件的方式來處理。
必須注意的是，上述的吸嘴的清潔程度會直接導(dǎo)致SMT高速機的制程發(fā)生失誤，例如拋料、掉件或吸不到料等情形，而原因往往都是因為吸嘴的堵塞所造成。因 此， 一般來說工廠每天都會進行吸嘴的清潔，以降低料損。
請參考圖l，其為現(xiàn)有技術(shù)的吸嘴清潔方法示意圖。如圖所示，吸嘴l由反射板 11以及直立于其上的吸管12所組成。其中，吸嘴1還具有接合件13，與所述吸管連通 并設(shè)置于反射板ll的另一面，且與SMT制程的置件機連接。以往工廠清潔吸嘴采用人 工手動的方式以通針2插入吸嘴1的吸管12，以將吸管12中的臟物清除。
然而，現(xiàn)有技術(shù)采用人工手動清潔吸嘴l的方式不僅容易發(fā)生操作疲勞以致?lián)p壞 吸嘴1的狀況，整體效率低也是一個必然的困境。另外，現(xiàn)有方法并無法將吸管12 的管壁內(nèi)的臟物清除千凈，還要額外地付出龐大的耗材費用，例如通針一根80元， 每天損耗約1.3根。
為改善上述人工清潔吸嘴l方法所衍生的諸多問題，后續(xù)發(fā)展出利用超音波清潔 吸嘴1的方法。此一方法直接將吸嘴l放入裝有清洗液的超音波清洗機中，以超音波 震蕩清除吸管12管壁中的臟物。經(jīng)驗證發(fā)現(xiàn)，雖然利用超音波清潔吸嘴l的效果不錯， 但超音波卻會使吸嘴l的反射板ll裂開，且吸嘴l直接浸泡在清洗液中也會造成反射 板11的損耗，導(dǎo)致整個吸嘴都無法使用而報廢。
因此，如何有效地解決在目前清潔吸嘴的過程中所面臨的困難，且兼顧SMT制 程提高生產(chǎn)效率和降低成本等優(yōu)點的前提的下，也是目前業(yè)界亟欲解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容
為克服上述已有技術(shù)的不足，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種吸嘴清潔冶 具及其使用方法，利用框架托起以防止吸嘴在清洗過程中受損。 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案是
一種吸嘴清潔冶具，包含
框架組，包含第一框架以及第二框架，兩框架分別由多個支框條所組成，其中 間形成中空區(qū)域；
密封層，其四周邊緣夾合于第一框架與第二框架間，且其中間區(qū)域透過框架組 的中空區(qū)域露出；
其中，密封層的中間區(qū)域設(shè)有孔洞，可容許吸嘴自所述密封層的第一表面插入而穿出至其第二表面。
框架組為矩形框架，且第一框架設(shè)置于第二框架上方，并具有把手設(shè)置于第一 框架其中一邊的框條上。
第二框架還具有一支架，且支架的端點連接于第二框架，而將中空區(qū)域分隔成 多個區(qū)塊。
第二框架與支架為一次成形的構(gòu)件。
支架為十字形支架。
密封層的區(qū)塊中分別具有間隔排列的多個孔洞。
第一框架也具有支架，且第一框架的支架正對著第二框架的支架。 第一框架的每一框條設(shè)有開孔。
第二框架的每一框條也設(shè)有開孔，其位置對應(yīng)于第一框架的開孔，可透過開孔 以螺絲鎖固兩個框架。
吸嘴由板塊以及直立于其上的吸管組成，當吸管插入密封層的孔洞中時，板塊 平貼于密封層的第一表面。
框架組為金屬框架。
密封層為橡膠。
上述吸嘴清潔冶具的使用方法，包括下列步驟 提供超音波槽； 注入清洗液至超音波槽； 將吸嘴插入密封層的孔洞；
將裝載有吸嘴的清潔冶具浸入超音波槽內(nèi)的清洗液中；以及 清洗吸嘴的管壁。
清洗步驟中所使用的超音波頻率可控制為一定值。將清潔冶具浸入清洗液的步驟中，清洗液的液面低于框架組的上緣。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是
(1)本發(fā)明的吸嘴清潔冶具由框架組以及密封層所組成，且密封層上可設(shè)置多 個孔洞以插置多個吸嘴。由此可知，本發(fā)明的清潔冶具可一次處理多個吸嘴，在提 高工作效率的同時，也減少了人工操作的時間與人力成本。舉一實施例來說明，現(xiàn) 有技術(shù)中以通針清除吸管中的臟物，其清潔一個吸嘴的時間約為2分鐘，但利用本 發(fā)明的清潔冶具的處理時間為24秒/個。
(2)本發(fā)明將清潔冶具浸泡至超音波槽中的清洗液中，并利用超音波震蕩清洗吸 管的管壁，其清潔效果較現(xiàn)有人工清潔的效果佳。而且，本發(fā)明中已利用框架組將 吸嘴托起，并利用密封層避免清洗液沾到吸嘴的反射板，達到減少吸嘴損耗的目的， 同時也減少了通針耗材的使用成本。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)吸嘴清潔方法示意圖2為本發(fā)明實施例的吸嘴清潔冶具的組件爆炸圖3為本發(fā)明實施例的吸嘴清潔冶具的組裝示意圖；以及
圖4為利用本發(fā)明的吸嘴清潔冶具來清洗吸嘴的使用方法示意圖。主要組件符號說明
I 吸嘴
II 反射板
12 吸管
13 接合件
2 通針
3 吸嘴清潔冶具 31 框架組
311 第一框架312 第二框架
311a、 312a 框條
311b、 312b 中空區(qū)域 3111 把手
3112、 3121 支架
3113、 3122 開孔 32 密封層 321 孔洞
4 螺絲
5 超音波槽
6 清洗液
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明的具體實施方式
做進一步詳細的說明，但不應(yīng) 以此限制本發(fā)明的保護范圍。
請參考圖2本發(fā)明實施例的吸嘴清潔冶具的組件爆炸圖。如圖所示，此吸嘴清 潔冶具至少包含框架組31以及密封層32?？蚣芙M31包含第一框架311與第二框架 312,所述兩框架311、 312分別由多支框條311a、 312a所組成，其中間形成一中 空區(qū)域311b、 312b。
而密封層32的四周邊緣夾合于第一框架311與第二框架312間，且其中間區(qū)域 透過框架組31的中空區(qū)域311b、 312b露出，并設(shè)有孔洞321，可容許吸嘴l自密 封層32的第一表面32a插入而穿出至其第二表面32b。在較佳實施例中，密封層 32的材質(zhì)選用橡膠。
其中，框架組31為矩形框架，第一框架311設(shè)置于第二框架312上方，并具有 把手3111設(shè)置于第一框架311其中一邊的框條311a上。值得注意的是，在較佳實
8施例中，第一框架311的相對兩框條311a上均設(shè)置有把手3111 ,提供使用者一較 為便利的握持方式。然而，把手的設(shè)置位置、方式及數(shù)量僅以達到此目的為已足， 并不欲以上述實施例為限。另外，第一框架與第二框架為一體成形的構(gòu)件，且均為 金屬框架。
進一步說明，第二框架312還具有支架3121 ，且支架的端點連接于第二框架312， 而將中空區(qū)域312b分隔成多個區(qū)塊。如圖所示，在較佳實施例中，第二框架312 與支架3121為一次成形的構(gòu)件，且支架3121為十字形支架，而將第二框架312的 中空區(qū)域312b分隔成四個區(qū)塊。然而必須說明的是，設(shè)置支架3121的其中一個用 途用以支撐密封層32的中間區(qū)域，使其不易塌陷而產(chǎn)生縫隙，而使得清洗液滲入， 但其結(jié)構(gòu)形狀及其可能分隔的區(qū)塊數(shù)目并不以的為限。另外，第一框架311也可設(shè) 置有一支架3112，且第一框架的支架的結(jié)構(gòu)形狀及設(shè)置位置對應(yīng)于第二框架312 的支架3121。
請繼續(xù)參考圖2所示，第一框架311的每一框條311a均設(shè)有開孔3113。而第 二框架312的每一框條312a也設(shè)有開孔3122，其位置對應(yīng)于第一框架311的開孔 3113，可透過開孔3113、 3122以螺絲4鎖固所述兩框架311、 312，并將密封層32 夾合于其中，組裝圖3所示。
根據(jù)以上描述，便可清楚了解各組件的結(jié)構(gòu)與相對設(shè)置關(guān)系，而這些組件所構(gòu) 成的清潔冶具3及其使用方法均可進一步參考圖3搭配圖4的示意圖說明如下。
首先，請參考圖3本發(fā)明實施例的吸嘴清潔冶具3的組裝示意圖。圖3根據(jù)圖 2中所介紹的各組件所組裝而成，相關(guān)組件如第一框架311、第二框架312以及密 封層32的細部結(jié)構(gòu)及配置方式均已說明如前文，在此不再贅述。
如圖所示，在較佳實施例中，密封層32中經(jīng)前述的第一框架311的支架3112 所劃分出的多個區(qū)塊，分別具有間隔排列的多個孔洞321，可容納多個吸嘴l插置 于其中。其中，如前所述，吸嘴l由反射板ll以及直立于其上的吸管12而組成， 當吸管12插入密封層32的孔洞321中時，反射板11平貼于密封層32的第一表面 32a。值得注意的是，密封層32的厚度視吸嘴1的吸管12的長度而設(shè)置，可以將 密封層32的厚度設(shè)置為略短于吸管12的長度，而使其露出一截直接浸泡于清洗液 6中，或密封層32的厚度也可剛好等于吸管12的長度。再者，密封層32上的孔洞321的設(shè)置方式與數(shù)目端視使用者的需要而設(shè)置，并不以此為限。
接著，如圖4所示，提供超音波槽5，并注入清洗液6至超音波槽5。接著，將 多個吸嘴1的吸管12插入密封層32的孔洞(未繪示)中，使其自所述密封層的第二 表面32b穿出，再將上述裝載有吸嘴1的清潔冶具3浸入超音波槽5內(nèi)的清洗液6 中。最后，開啟超音波槽5的電源以超音波震蕩的方式清洗吸嘴1的吸管12的管 壁。在較佳實施例中，上述清洗步驟中所使用的超音波頻率可控制為一定值。另外， 必須注意的是當清潔冶具3浸入清洗液6時，清洗液6的液面低于框架組31的上 緣。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并非用來限定本發(fā)明的實施范圍。即凡依 本發(fā)明申請專利范圍的內(nèi)容所作的等效變化與修飾，都應(yīng)為本發(fā)明的技術(shù)范疇。
權(quán)利要求
1.一種吸嘴清潔冶具，其特征在于包含框架組，包含第一框架以及第二框架，所述兩框架分別由多個支框條所組成，其中間形成中空區(qū)域；密封層，其四周邊緣夾合于所述第一框架與所述第二框架間，且其中間區(qū)域透過所述框架組的中空區(qū)域露出；其中，所述密封層的中間區(qū)域設(shè)有至少一孔洞，可容許一吸嘴自所述密封層的第一表面插入而穿出至其第二表面。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述框架組為矩形框架，且 所述第一框架設(shè)置于所述第二框架上方，并具有至少一把手設(shè)置于所述第一框架其 中一邊的所述框條上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述第二框架還具有一支架， 且所述支架的端點連接于所述第二框架，而將所述中空區(qū)域分隔成多個區(qū)塊。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述第二框架與所述支架為 一次成形的構(gòu)件。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述支架為十字形支架。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述密封層的區(qū)塊中分別具 有間隔排列的多個孔洞。
7. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述第一框架也具有一支架， 且所述第一框架的支架正對著所述第二框架的支架。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述第一框架的每一框條設(shè) 有至少一個開孔。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述第二框架的每一框條也 設(shè)有一個開孔，其位置對應(yīng)于所述第一框架的所述開孔，可透過所述開孔以螺絲鎖 固所述兩個框架。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述吸嘴由一板塊以及直立于其上的一吸管組成，當所述吸管插入所述密封層的孔洞中時，所述板塊平貼于所 述密封層的第一表面。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述框架組為金屬框架。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸嘴清潔冶具，其特征在于所述密封層為橡膠。
13. 上述權(quán)利要求1 12所述的吸嘴清潔冶具的使用方法，其特征在于包括下列步 驟提供一超音波槽； 注入清洗液至所述超音波槽； 將所述吸嘴插入所述密封層的孔洞；將裝載有所述吸嘴的清潔冶具浸入所述超音波槽內(nèi)的清洗液中；以及 清洗所述吸嘴的管壁。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的吸嘴清潔冶具的使用方法，其特征在于所述清洗步驟 中所使用的超音波頻率可控制為一定值。
15. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的吸嘴清潔冶具的使用方法，其特征在于將所述清潔冶 具浸入清洗液的步驟中，所述清洗液的液面低于所述框架組的上緣。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種吸嘴清潔冶具，包含框架組，包含第一框架以及第二框架，所述兩框架分別由多個支框條所組成，其中間形成中空區(qū)域；密封層，其四周邊緣夾合于所述第一框架與所述第二框架間，且其中間區(qū)域透過所述框架組的中空區(qū)域露出；其中，所述密封層的中間區(qū)域設(shè)有孔洞，可容許吸嘴自所述密封層的第一表面插入而穿出至其第二表面。本發(fā)明還公開了一種吸嘴清潔冶具的使用方法。利用本發(fā)明的清潔冶具的處理時間大大減少。而且，本發(fā)明中已利用框架組將吸嘴托起，并利用密封層避免清洗液沾到吸嘴的反射板，達到減少吸嘴損耗的目的，同時也減少了通針耗材的使用成本。
文檔編號B08B3/12GK101658849SQ200810042108
公開日2010年3月3日 申請日期2008年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月27日
發(fā)明者周飛舟 申請人:英華達(上海)科技有限公司