專利名稱：一種煎烤器的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種煎烤器。
背景技術：
現(xiàn)有市場上的一種煎烤器，請查閱


圖1和圖2，它包括一上烤盤單元IO、 一下烤盤單元20以及一連接該上烤盤單元10和該下烤盤單元20的抬桿單元 30。該上烤盤單元10包括一上基座11和一裝設在該上基座11的上烤盤12; 該下烤盤單元20包括一下基座21和一裝設在該下基座21的下烤盤22。該上 烤盤單元10和該下烤盤單元20之間具有展開狀態(tài)或對面狀態(tài)。請查閱
圖1 和2，該對面狀態(tài)分為間隔距離不等的第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài)。其中 在第二對面狀態(tài)時，該下烤盤單元20的下烤盤22與該上烤盤單元10的上烤 盤12對應靠接；在第一對面狀態(tài)時，該上烤盤單元向后向上運動，因此該下 烤盤單元20的下烤盤22與該上烤盤單元10的上烤盤12之間產生斷差H，如
圖1所示，該斷差將影響煎烤器外觀。
實用新型內容
本實用新型提供一種煎烤器，它克服了背景技術的煎烤器所存在的在第 一對面狀態(tài)時產生斷差的不足。
本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是
一種煎烤器，它包括一上烤盤單元、 一下烤盤單元以及一連接該上烤盤 單元和該下烤盤單元的抬桿單元，該上烤盤單元和該下烤盤單元之間具有展 開狀態(tài)或對面狀態(tài)，而且，該對面狀態(tài)至少分為間隔距離不等的第一對面狀 態(tài)和第二對面狀態(tài)；該上烤盤單元包括一上基座和一裝設在該上基座的上烤盤；該下烤盤單元包括一下基座；該下烤盤單元還配設有
一在第一對面狀態(tài)時能分離地裝設在該下基座、頂周緣對應靠接該上烤
盤的深烤盤；以及
一在第二對面狀態(tài)時能分離地裝設在該下基座、頂周緣對應靠接該上烤
盤的淺烤盤。
本實用新型的一較佳實施例中，該深烤盤深度大于淺烤盤深度，而且， 該深度之差等于該上烤盤在第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài)之間的上下活動距 離。
本實用新型的一較佳實施例中，該深烤盤具有一第一底壁、 一固設在該 第一底壁之上的第一周壁和一第一裝接部，該第一裝接部能分離地裝設在該 下基座；該淺烤盤具有一第二底壁、 一固設在該第二底壁之上的第二周壁和 一第二裝接部，該第二裝接部能分離地裝設在該下基座。
本實用新型的一較佳實施例中，該第一裝接部和該第二裝接部的結構相同。
本實用新型的 一較佳實施例中，該第二周壁由該第二底壁周緣向上延伸 而成。
本實用新型的一較佳實施例中，該第 一周壁的前側邊位于該第 一底壁的 前側邊之后，而且，它們之間形成斷差。
本實用新型的一4^f圭實施例中，該斷差等于該上烤盤在第一對面狀態(tài)和 第二對面狀態(tài)之間的前后活動距離。
本實用新型的 一較佳實施例中，該第 一底壁和該第二底壁的結構相同。
本技術方案與背景技術相比由于該下烤盤單元配設有兩個烤盤，它們 都能分離地裝設在下基座，在第一對面狀態(tài)時裝設深烤盤，在第二對面狀態(tài)時裝設淺烤盤，因此不管是在第一對面狀態(tài)還是在第二對面狀態(tài)，該下烤盤 單元的烤盤都能對應靠接該上烤盤的底周緣，避免出現(xiàn)斷差，整個煎烤器外 觀美觀，便于加熱食物。由于該深度之差等于該上烤盤在第一對面狀態(tài)和第 二對面狀態(tài)之間的上下活動距離，該斷差等于該上烤盤在第一對面狀態(tài)和第 二對面狀態(tài)之間的前后活動距離，因此不管是在第一對面狀態(tài)還是在第二對 面狀態(tài)，該下烤盤單元的烤盤都能對應靠接、貼合該上烤盤的底周緣。由于 該第一裝接部和該第二裝接部的結構相同，該第一底壁和該第二底壁的結構 相同，因此兩烤盤都能分離地裝設下基座。該第一周壁和該第一底壁之間形 成斷差，使得兩烤盤的周壁能對應靠接、貼合該上烤盤的周壁。以下結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。
圖l繪示了背景技術的煎烤器處于第二對面狀態(tài)的立體示意圖。
圖2繪示了背景技術的煎烤器處于第一對面狀態(tài)的立體示意圖。 圖3繪示了一較佳實施例的煎烤器處于第二對面狀態(tài)的立體示意圖。 圖4繪示了 一較佳實施例的煎烤器處于第 一對面狀態(tài)的立體示意圖。 圖5繪示了一較佳實施例的煎烤器的深烤盤的立體示意圖。
具體實施方式
請查閱圖2、圖3和圖4， 一種煎烤器，它包括一上烤盤單元IO、 一下烤 盤單元20以及一連接該上烤盤單元10和該下烤盤單元20的抬桿單元30。該 上烤盤單元10包括一上基座11和一裝設在該上基座11的上烤盤12;該下烤 盤單元20包括一下基座21，另配設有一深烤盤23和一淺烤盤24。
該上烤盤單元10和該下烤盤單元20之間具有展開狀態(tài)或對面狀態(tài)，而 且，該對面狀態(tài)至少分為間隔距離不等的第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài)。請查閱圖5，該深烤盤23具有一第一底壁231、 一固設在該第一底壁231 之上的第一周壁232和一第一裝接部，該第一周壁232的前側邊位于該第一 底壁231的前側邊之后，而且，它們之間形成斷差233，該斷差等于該上烤盤 12在第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài)之間的前后活動距離。
該淺烤盤24具有一第二底壁、 一固設在該第二底壁之上的第二周壁和一 第二裝接部，該第二周壁由該第二底壁周緣向上延伸而成。
該第一底壁和該第二底壁的結構相同，該第一裝接部和該第二裝接部的 結構相同，而且，該第一裝接部、第二裝接部都能分離地裝設在該下基座21。
該深烤盤23深度大于淺烤盤24深度，而且，該深度之差等于該上烤盤 12在第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài)之間的上下活動距離。
當在第一對面狀態(tài)時，該深烤盤23能分離地裝設在該下基座21，該深烤 盤23的第一周壁的頂面和該上烤盤貼合，而且，貼合后該上烤盤與深烤盤23 邊沿平齊，如圖3所示。
當在第二對面狀態(tài)時，該淺烤盤24能分離地裝設在該下基座21，該淺烤 盤24的第二周壁的頂面和該上烤盤貼合，而且，貼合后該上烤盤與淺烤盤24 邊沿平齊，如圖4所示。
以上所述，僅為本實用新型較佳實施例而已，故不能以此限定本實用新 型實施的范圍，即依本實用新型申請專利范圍及說明書內容所作的等效變化 與修飾，皆應仍屬本實用新型專利涵蓋的范圍。
權利要求1. 一種煎烤器，它包括一上烤盤單元、一下烤盤單元以及一連接該上烤盤單元和該下烤盤單元的抬桿單元，該上烤盤單元和該下烤盤單元之間具有展開狀態(tài)或對面狀態(tài)，而且，該對面狀態(tài)至少分為間隔距離不等的第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài)；該上烤盤單元包括一上基座和一裝設在該上基座的上烤盤；該下烤盤單元包括一下基座；其特征是該下烤盤單元還配設有一在第一對面狀態(tài)時能分離地裝設在該下基座、頂周緣對應靠接該上烤盤的深烤盤；以及一在第二對面狀態(tài)時能分離地裝設在該下基座、頂周緣對應靠接該上烤盤的淺烤盤。
2. 根據(jù)權利要求l所述的一種煎烤器，其特征是該深烤盤深度大于淺 烤盤深度，而且，該深度之差等于該上烤盤在第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài) 之間的上下活動距離。
3. 根據(jù)權利要求1或2所述的一種煎烤器，其特征是該深烤盤具有 一第 一底壁、 一 固設在該第 一底壁之上的第 一周壁和一第 一裝接部，該第一裝接部能分離地裝設在該下基座；該淺烤盤具有一第二底壁、 一 固設在該第二底壁之上的第二周壁和一第 二裝接部，該第二裝接部能分離地裝設在該下基座。
4. 根據(jù)權利要求3所述的一種煎烤器，其特征是該第一裝接部和該第 二裝接部的結構相同。
5. 根據(jù)權利要求3所述的一種煎烤器，其特征是該第二周壁由該第二 底壁周緣向上延伸而成。
6. 根據(jù)權利要求3所述的一種煎烤器，其特征是該第一周壁的前側邊 位于該第一底壁的前側邊之后，而且，它們之間形成斷差。
7. 根據(jù)權利要求6所述的一種煎烤器，其特征是該斷差等于該上烤盤 在第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài)之間的前后活動距離。
8. 根據(jù)權利要求3所述的一種煎烤器，其特征是該第一底壁和該第二 底壁的結構相同。
專利摘要本實用新型公開了一種煎烤器，它包括一上烤盤單元、一下烤盤單元以及一抬桿單元，該上烤盤單元和該下烤盤單元之間具有展開狀態(tài)或對面狀態(tài)，而且，該對面狀態(tài)至少分為間隔距離不等的第一對面狀態(tài)和第二對面狀態(tài)。該上烤盤單元包括一上基座和一裝設在該上基座的上烤盤；該下烤盤單元包括一下基座，另配設有一深烤盤和一淺烤盤，該深烤盤在第一對面狀態(tài)時能分離地裝設在該下基座，該深烤盤頂周緣對應靠接該上烤盤；該淺烤盤在第二對面狀態(tài)時能分離地裝設在該下基座，該淺烤盤頂周緣對應靠接該上烤盤。不管是在第一對面狀態(tài)還是在第二對面狀態(tài)，該下烤盤單元的烤盤都能對應靠接該上烤盤的底周緣，避免出現(xiàn)斷差，整個煎烤器外形美觀，便于加熱食物。
文檔編號A47J37/00GK201271160SQ20082014542
公開日2009年7月15日 申請日期2008年8月29日 優(yōu)先權日2008年8月29日
發(fā)明者郭懷湘 申請人:廈門燦坤實業(yè)股份有限公司