專利名稱：用于對浸入液體介質(zhì)的工件去毛刺和/或清潔的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于對浸入液體介質(zhì)的工件去毛刺和/或清潔的裝置，該裝置包 括用于產(chǎn)生以高壓加載的液體射束的液體排送裝置。
背景技術(shù)：
這種裝置特別好地適合于對機(jī)械加工的、尤其切削加工的工件去毛刺和/或清 潔。通過對工件施加以高壓加載的液體射束，能夠?qū)⒚毯?或污物與從工件上分離。

發(fā)明內(nèi)容
由此出發(fā)，本發(fā)明基于如下任務(wù)，S卩，提供一種用于對浸入液體介質(zhì)的工件去毛刺 和/或清潔的裝置，該裝置是特別有效率的。按本發(fā)明，該任務(wù)通過按權(quán)利要求1所述的裝置得到解決。按本發(fā)明的裝置能夠提供氣體流，該氣體流相對于液體介質(zhì)至少區(qū)段式地屏蔽液 體射束，從而能夠明顯減少液體射束與液體介質(zhì)之間的摩擦。由此實現(xiàn)的是，液體射束在其 穿過液體介質(zhì)朝工件方向的運動期間不減速或者只是略微地減速。這樣具有的優(yōu)點是，利 用按本發(fā)明的裝置產(chǎn)生的液體射束在打到工件表面時，與在現(xiàn)有技術(shù)公開的裝置的情況相 比具有更高的動能。由此，能夠改善去毛刺和/或清潔作用。對此作為替代地或附加地，能 夠用較低的壓力對液體射束進(jìn)行加載，由此在去毛刺和/或清潔作用相同的情況下，與由 現(xiàn)有技術(shù)公開的裝置相比，減少了按本發(fā)明的裝置的能量消耗。所述液體排送裝置以有利的方式包括噴嘴或者高壓噴嘴。這樣的噴嘴實現(xiàn)了從液 體排送裝置中排出以高壓加載的液體，并且在此形成液體射束。通過相應(yīng)地對噴嘴的幾何 形狀進(jìn)行匹配，能夠產(chǎn)生具有基本上呈圓形的豐滿射束輪廓或者長形的或橢圓形的扁平射 束輪廓的液體射束。為了實現(xiàn)盡可能高的去毛刺作用和/或清潔作用，優(yōu)選的是，所述液體射束的射 束角盡可能地小。所述射束角理解為液體射束的相互對置的外周側(cè)的邊界之間的角度。該 射束角優(yōu)選最大約為25°，尤其最大約為15°。按本發(fā)明的裝置具有的其它優(yōu)點是，借助液體排送裝置的區(qū)域內(nèi)的氣體流能夠防 止從噴嘴中出來的液體直接與液體介質(zhì)發(fā)生接觸以及防止由此引起的對噴嘴的氣穴損害。按本發(fā)明的裝置以較小的能量使用實現(xiàn)了很高的去毛刺作用和/或清潔作用。此 夕卜，按本發(fā)明的裝置能夠低噪音地并且低排放量地對工件進(jìn)行去毛刺和/或清潔。所述氣 體流實現(xiàn)了一方面的以高壓加載的液體射束與另一方面的液體介質(zhì)的聲去耦。此外，借助 氣體流減少了液體射束和液體介質(zhì)之間的相互作用，從而能夠至少在最大程度上阻止液霧 的形成。相應(yīng)地，按本發(fā)明的裝置可以取消外部的抽吸設(shè)備，或者能夠?qū)⑾鄳?yīng)的抽吸設(shè)備構(gòu) 造得很小。工件浸入其中的液體介質(zhì)優(yōu)選是液態(tài)的清潔介質(zhì)，例如水。
為了容納液體介質(zhì)，優(yōu)選設(shè)置了例如呈箱形式的容器，該容器的容器容積可以在 幾升與數(shù)立方米之間。對于為工件去毛刺和/或清潔，不需要將工件完全浸入液體介質(zhì)中； 足夠的是，將液體射束和氣體流輸送給浸入液體介質(zhì)的工件段。以高壓加載的液體優(yōu)選是水和/或油和/或乳劑。優(yōu)選用大于大約100巴的高壓來加載所述液體。尤其對液體加載處于300巴與 2700巴之間的、尤其在500巴與2500巴之間的壓力。為了產(chǎn)生高壓，優(yōu)選設(shè)置高壓泵，借助高壓泵能夠給液體排送裝置輸送以高壓加 載的液體。所述氣體流優(yōu)選是空氣流。這具有這樣的優(yōu)點，即，能夠 無排放地對工件進(jìn)行去毛 刺和/或清潔。所述氣體流包圍液體射束的外周的至少一部分。特別優(yōu)選的是，所述液體射束的 外周完全被氣體流包圍。根據(jù)本發(fā)明的有利的實施方式，能夠以壓力加載所述氣體流。這種壓力加載具有 這樣的優(yōu)點是，防止至少區(qū)段式地包圍液體射束的氣體流套發(fā)生崩潰(Kollabieren)。壓縮 空氣例如能夠用于產(chǎn)生氣體流。特別優(yōu)選的是，能夠用如下壓力加載所述氣體流，該壓力至少相當(dāng)于所述裝置的 環(huán)境壓力與液體介質(zhì)的作用在氣體流高度上的流體靜力學(xué)壓力的總和。例如在環(huán)境壓力為 1巴并且浸入深度為1米時，所述氣體流的壓力至少為大約1.1巴。與液體的高壓加載相 比，用例如最大大約為10巴的很低的壓力加載氣體流就已足夠了。所述裝置以有利的方式包括帶有室的殼體，所述室具有至少一個用于使以高壓 加載的液體進(jìn)入室中的液體_室輸入端；至少一個用于使氣體進(jìn)入室的氣體_室輸入端以 及至少一個用于使以高壓加載的液體和氣體流出去的室輸出端。這種室能夠?qū)⒁愿邏杭虞d 的液體和氣體彼此分開地導(dǎo)入室中并且共同地從室中導(dǎo)出，更確切地說以如下的方式，即， 氣體流至少區(qū)段式地包圍液體射束。所述室優(yōu)選包括恰好一個液體_室輸入端和/或恰好 一個室輸出端。根據(jù)本發(fā)明的有利的實施方式，能夠?qū)⒅辽僖徊糠謿怏w基本上平行于液體射束的 射束軸線地導(dǎo)入室中。由此能夠以簡單的方式產(chǎn)生氣體流套。所述液體_室輸入端和所述至少一個氣體_室輸入端優(yōu)選布置在同一室_界面 上，使得氣體和液體能夠以特別簡單的方式在基本上相互平行的方向上導(dǎo)入室中。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，設(shè)置有多個氣體-室輸入端。這些氣體-室輸入端尤其 圍繞液體_室輸入端地沿著外周方向分布并且優(yōu)選相互間等距地布置。借助多個氣體_室 輸入端能夠?qū)怏w以特別均勻地分布的方式導(dǎo)入室中。根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式設(shè)置為，所述氣體-室輸入端是環(huán)形的并且優(yōu)選與液 體射束的射束軸線同中心地布置。由此，能夠?qū)怏w特別均勻地導(dǎo)入室中。根據(jù)本發(fā)明的另一優(yōu)選的實施方式，能夠?qū)⒅辽僖徊糠謿怏w在相對于液體射束的 射束軸線傾斜的氣體-導(dǎo)入方向上導(dǎo)入室中。這有助于產(chǎn)生套狀的氣體流，所述套狀的氣 體流至少區(qū)段式地包圍液體射束。所述液體-室輸入端和至少一個氣體-室輸入端以有利的方式布置在不同的 室-界面上。這以特別簡單的方式使至少一部分氣體在相對于液體射束的射束軸線傾斜的方向上導(dǎo)入室中。根據(jù)本發(fā)明 的實施方式，氣體進(jìn)入室的進(jìn)入方向垂直于、特別是徑向于液體射束 的射束軸線。這實現(xiàn)了產(chǎn)生在外周側(cè)上閉合的氣體流套。根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式，氣體進(jìn)入室的進(jìn)入方向切向于液體射束的射束軸 線。以這種方式能夠在室的內(nèi)部有助于渦流形成，從而形成包圍液體射束的氣體流套。至少一部分氣體例如能夠在關(guān)于重力方向垂直的方向上、也就是從上方和/或從 下方導(dǎo)入室中。同樣當(dāng)將至少一部分氣體在相對于液體射束的射束軸線傾斜的方向上導(dǎo)入室中 時，也可以設(shè)置多個氣體_室輸入端和/或環(huán)形的氣體_室輸入端。優(yōu)選的是，所述室具有垂直于室縱向軸線取得的室橫截面，該室橫截面朝向室輸 出端逐漸變細(xì)。這實現(xiàn)了在朝室輸出端的方向上這樣輸送所述氣體，即，產(chǎn)生在外周側(cè)閉合 的氣體流套。所述室縱向軸線優(yōu)選在基本上平行于液體射束的射束軸線的方向上延伸。室縱向 軸線和液體射束的射束軸線尤其是相互對準(zhǔn)的。由此能夠完成緊湊的氣體排送裝置。特別優(yōu)選的是，至少一個室-邊界與液體射束的射束軸線同中心地構(gòu)造，從而能 夠產(chǎn)生環(huán)形的氣體流套。所述室尤其基本上呈截錐形。截錐形的外罩面與液體射束的射束軸線之間的角度 優(yōu)選在10°與60°之間。所述殼體優(yōu)選包括用于布置液體排送裝置的第一殼體部件以及界定至少一段室 的并且與第一殼體部件可連接或與第一殼體部件連接的第二殼體部件。這尤其在第一殼體 部件與第二殼體部件以可松解的方式可相互連接或者相互連接時，實現(xiàn)了對室特別簡單的 制造。所述第一殼體部件具有優(yōu)點地包括用于可輸送給液體_室輸入端的液體的輸入端。此外，優(yōu)選至少一個所述殼體部件包括至少一個用于如下氣體的輸入端，所述氣 體能夠輸送給至少一個氣體_室輸入端。此外，本發(fā)明涉及一種用于對工件去毛刺和/或清潔的方法，其中，工件被浸入液 體介質(zhì)中并且經(jīng)受以壓力加載的液體射束。本發(fā)明所基于的另一任務(wù)是，完成一種用于對工件去毛刺和/或清潔的方法，該 方法實現(xiàn)了對工件特別有效率的去毛刺和/或清潔過程。在用于對工件去毛刺和/或清潔的方法中，其中，所述工件被浸入液體介質(zhì)中并 且經(jīng)受以高壓加載的液體射束，所述任務(wù)根據(jù)本發(fā)明以下方式得到解決，即，產(chǎn)生至少區(qū)段 式包圍液體射束的氣體流。按本發(fā)明的方法的特別的構(gòu)造方案和優(yōu)點已經(jīng)部分地在前面在結(jié)合按本發(fā)明的 裝置的特別的構(gòu)造方案和優(yōu)點進(jìn)行了闡釋。因此，下面僅僅還對按本發(fā)明的方法的在開頭 沒有闡釋過的構(gòu)造方案和優(yōu)點進(jìn)行探討。為了對工件進(jìn)行去毛刺和/或清潔，所述室的室輸出端以有利的方式以相對于工 件的有待去毛刺和/或有待清潔的表面相距最大約5cm的間距的方式來定位。該間距尤其 最大約為3cm、優(yōu)選約為1cm。所述間距使得液體射束與至少區(qū)段式包圍液體射束的氣體流一起輸送給有待去毛刺和/或有待清潔的工件，而氣體流套不會崩潰。此外，所述間距使得 液體排送裝置和氣體排送裝置相對于工件運動，而在此不需要遵守最小的位置允差。按本發(fā)明的裝置尤其適合于實施按本發(fā)明的方法。


本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點是對優(yōu)選實施例的下列描述以及圖示表達(dá)的主題。在附 圖中圖1示出依照用于對浸入液體介質(zhì)的工件去毛刺和/或清潔的第一實施方式的裝 置的示意性的剖面；以及圖2示出依照用于對浸入液體介質(zhì)的工件去毛刺和/或清潔的第二實施方式的裝 置的示意性的剖面。
具體實施例方式相同的或者功能等效的元件在所有附圖中以相同的附圖標(biāo)記來標(biāo)示。在圖1中示出的、整體以100標(biāo)示的、用于對工件去毛刺和/或清潔的裝置包括 容器102，該容器102含有液體介質(zhì)104。該液體介質(zhì)104例如是水。所述容器102的以如下方式設(shè)定尺寸，即，有待去毛刺和/或清潔的工件106能夠 至少區(qū)段式地浸入液體介質(zhì)104中。此外，所述容器102用于容納殼體108，該殼體108優(yōu)選是分多個部件的并且特別 是包括第一殼體部件110和第二殼體部件112。所述殼體108用于保持用于產(chǎn)生液體射束116的液體排送裝置114。此外，所述殼 體108用于保持氣體排送裝置118，氣體排送裝置118用來產(chǎn)生至少區(qū)段式包圍液體射束 116的氣體流120。所述裝置100包括用點劃線示出的液體供給裝置122，借助該液體供給裝置122 能夠?qū)⒁愿邏杭虞d的液體輸送給殼體108，以高壓加載的液體特別是指水和/或油和/或 乳劑。所述液體供給裝置122例如包括在附圖中沒有示出的高壓泵以及將液體輸送給殼體 108的液體供給管路。此外，所述裝置100包括用點劃線示出的氣體供給裝置124，借助該氣體供給裝置 124能夠?qū)怏w、尤其是空氣輸送給殼體108。所述氣體供給裝置124例如包括在附圖中 沒有示出的壓縮器或壓縮機(jī)，以及將氣體輸送給殼體108的氣體供給管路。所述第一殼體部件110具有用于以高壓加載的液體的輸入端126，所述液體能夠 通過管路128輸送給噴嘴體130。噴嘴體130包括噴嘴132，噴嘴132具有相對于管路128 的橫截面縮小的噴嘴橫截面。所述第二殼體部件112借助出于概覽起見的原因而沒有示出的連接元件，例如借 助螺栓與第一殼體部件Iio可松解地連接。此外，所述第二殼體部件112借助例如呈0環(huán) 形式構(gòu)造的密封元件133相對于第一殼體部件110液密性地密封。所述第二殼體部件112包括優(yōu)選呈截錐形的室134。該室134包括呈截錐外殼形 式的外周側(cè)的室_界面136。外周側(cè)的室-界面136在基本上平坦的端側(cè)的室-界面138 與室輸出端140之間延伸，該室-界面138由第一殼體部件110的端側(cè)形成。垂直于室縱軸線141取得的室橫截面自端側(cè)的室-界面138起，朝向室輸出端140的方向逐漸變細(xì)。端側(cè)的室_界面138與室輸出端140之間的間距例如大約為2cm。所述第二殼體部件112也 可以稱為“外殼噴嘴”。所述第二殼體部件112具有借助氣體供給裝置124提供的氣體所用的輸入端142。 該輸入端142優(yōu)選具有尺寸標(biāo)準(zhǔn)化的壓縮空氣接口，例如尺寸為R1/4英寸。所述輸入端 142與氣體管路144保持流體有效的連接。氣體管路144在用于空氣進(jìn)入的氣體_室輸入 端146處通入室134中。此外，所述室134具有液體輸入端148，該液體輸入端148通過噴嘴132的輸出端 來形成。前面所述的裝置100以如下方式起作用為了準(zhǔn)備對工件106去毛刺和/或清潔，以液體介質(zhì)104來填充容器102。接著， 將工件106和殼體108浸入液體介質(zhì)104中。為了產(chǎn)生以高壓加載的液體射束116，借助 液體供給裝置122將以高壓加載的液體輸送給殼體108。所述液體通過輸入端126和管路 128到達(dá)噴嘴132和液體-室輸入端148。液體在液體-室輸入端148處從噴嘴132出來 并且形成了液體射束116。液體射束116沿著射束軸線150延伸，并且具有在液體射束116 的相互對置的外周側(cè)邊界之間所測得的射束角度152，該射束角度152例如大約為10°。為了防止液體射束116在其打到工件106的有待去毛刺的和/或有待清潔的表面 154之前由于與液體介質(zhì)104發(fā)生摩擦而引起減速，則產(chǎn)生了至少區(qū)段式包圍液體射束116 的氣體流120。為此，借助氣體供給裝置124將氣體輸送給第二殼體部件112的輸入端142， 并且該氣體通過氣體管路144和氣體-室輸入端146導(dǎo)入室134中。導(dǎo)入室134中的氣體 被以壓力進(jìn)行加載。該壓力優(yōu)選高于在裝置100的環(huán)境156的壓力與在氣體流120的高度 上的流體靜力學(xué)的壓力之和，該流體靜力學(xué)的壓力通過浸入深度158來確定，所述浸入深 度158在氣體流120的水平面與液體介質(zhì)104的表面(“池液位(Badpegel) ”)之間進(jìn)行 測量。所述室輸出端140如此大，使得液體射束116能夠從液體-室輸入端148出發(fā)，通 過室134輸送給室輸出端140，而所述液體射束116不會觸及外周側(cè)的室-界面136。在室 輸出端140的高度上，在液體射束116的外周與外周側(cè)的室-界面136之間保留有環(huán)形縫 隙160，該環(huán)形縫隙160使導(dǎo)入室134中的氣體穿過室輸出端140朝向工件106的方向出 來。由此，產(chǎn)生了在外周側(cè)閉合的套狀的氣體流120，氣體流120防止液體射束116在液體 介質(zhì)104中由摩擦引起的減速。對于特別好的去毛刺和/或清潔作用來說，有利的是，所述殼體108和工件106彼 此相對地以如下方式進(jìn)行定位，使得室輸出端140與工件106的有待去毛刺和/或有待清 潔的表面154之間的間距最大約為3cm，優(yōu)選大約為1cm。一方面所述噴嘴132的或者說液體_室輸入端148的輸出端與另一方面的工件 106的有待清潔的表面154之間的間距例如最大約為10cm，優(yōu)選最大約為5cm，尤其在約 2cm與約3cm之間。氣體導(dǎo)入室142中的過程借助氣體-室輸入端146在氣體-導(dǎo)入方向162上進(jìn)行， 該氣體-導(dǎo)入方向162相對于液體射束116的射束軸線傾斜，尤其垂直于該射束軸線。該 氣體_導(dǎo)入方向162能夠徑向于或者切向于射束軸線150地分布。
可行的是，氣體能夠借助唯一的氣體-室輸入端146導(dǎo)入室134中。對此另選地 可行的是，能夠設(shè)置至少另一氣體_室輸入端164，該至少另一氣體_室輸入端164例如布 置在外周側(cè)的室-界面136的與氣體-室輸入端146相對置的側(cè)上，并且在圖1中用點劃 線示出。在圖2中示出的用于對浸入液體介質(zhì)104的工件106去毛刺和/或清潔的裝置 100的第二實施方式與圖1中示出的第一實施方式的區(qū)別在于，所述第二實施方式具有氣 體-室輸入端202，該氣體-室輸入端202與液體-室輸入端148共同地布置在端側(cè)的室-界 面138上。借助布置在第一殼體部 件110中的氣體管路204對氣體-室輸入端202進(jìn)行饋給。 氣體管路204通過輸入端206與氣體供給裝置124相聯(lián)通。借助所述氣體-室輸入端202能夠?qū)怏w在相對于液體射束116的射束軸線150 至少幾乎平行的方向208上導(dǎo)入室134中。導(dǎo)入室134中的氣體沿著外周側(cè)的室-界面 136流向室輸出端140，并且在那里通過環(huán)形縫隙160從室134中出來并且形成了套狀的氣 體流120。同樣在將氣體與液體射束116的射束軸線150平行地導(dǎo)入室134中時，也可以設(shè) 置單個的氣體_室輸入端202和/或至少另一氣體_室輸入端210，所述至少另一氣體-室 輸入端210在圖2中用點劃線示出。所述氣體_室輸入端202和210例如布置在液體-室 輸入端148的相互對置的側(cè)上，并且優(yōu)選具有距液體_室輸入端148相同的間距。在其余方面，所述裝置100的在圖2中示出的第二實施方式在結(jié)構(gòu)和功能方面與 圖1中示出的第一實施方式一致，就此而言，參引對第一實施方式前面的描述。用于對浸入液體介質(zhì)的工件去毛刺和/或清潔的裝置的另一在附圖中未示出的 實施方式不僅包括至少一個氣體_室輸入端146，還包括至少一個氣體-室輸入端202， 借助氣體_室輸入端146能夠?qū)怏w在相對于朝液體射束116的射束軸線150傾斜的氣 體_導(dǎo)入方向162上導(dǎo)入室134中，借助氣體_室輸入端202能夠?qū)怏w基本上平行于液 體射束116的射束軸線150地導(dǎo)入室134中。
權(quán)利要求
用于對浸入液體介質(zhì)(104)的工件(106)去毛刺和/或清潔的裝置(100)，所述裝置(100)包括用于產(chǎn)生以高壓加載的液體射束(116)的液體排送裝置(114)，其特征在于氣體排送裝置(118)，所述氣體排送裝置(118)用于產(chǎn)生至少區(qū)段式包圍所述液體射束(116)的氣體流(120)。
2.按權(quán)利要求1所述的裝置(100)，其特征在于，所述氣體流(120)能夠被施以壓力。
3.按權(quán)利要求1或2所述的裝置(100)，其特征在于具有室(134)的殼體(108)，所述 室(134)具有至少一個使以高壓加載的液體進(jìn)入所述室(134)中所用的液體-室輸入端 (148)；至少一個使氣體進(jìn)入所述室(134)中所用的氣體-室輸入端(146、164、202、210)； 以及至少一個使以高壓加載的所述液體射束(116)和所述氣體流(120)出來所用的室輸出 端(140)。
4.按權(quán)利要求3所述的裝置(100)，其特征在于，至少一部分所述氣體能夠基本上平行 于所述液體射束(116)的射束軸線(150)地導(dǎo)入所述室(134)中。
5.按權(quán)利要求3或4所述的裝置(100)，其特征在于，至少一部分所述氣體能夠在相對 于所述液體射束(116)的所述射束軸線(150)傾斜的氣體-導(dǎo)入方向(162)上導(dǎo)入所述室 (134)中。
6.按權(quán)利要求3至5中任一項所述的裝置(100)，其特征在于，所述室(134)具有垂直 于室縱向軸線(141)取得的室橫截面，所述室橫截面朝向所述室輸出端(140)逐漸變細(xì)。
7.按權(quán)利要求6所述的裝置(100)，其特征在于，所述室縱向軸線(141)基本上平行于 所述液體射束(116)的所述射束軸線(150)地分布。
8.按權(quán)利要求3至7中任一項所述的裝置(100)，其特征在于，所述殼體(108)包括用 于布置所述液體排送裝置(114)的第一殼體部件(110)以及第二殼體部件(112)，所述第二 殼體部件(112)對至少一段所述室(134)進(jìn)行界定并且與所述第一殼體部件(110)能夠連 接或者與所述第一殼體部件(110)連接。
9.用于對工件(106)進(jìn)行去毛刺和/或清潔的方法，其中，所述工件(106)被浸入液體 介質(zhì)(104)中并且經(jīng)受以高壓加載的液體射束(116)，其特征在于，產(chǎn)生至少區(qū)段式包圍所 述液體射束(116)的氣體流(120)。
10.按權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述氣體流(120)被施以壓力。
11.按權(quán)利要求9或10所述的方法，其特征在于，將所述液體射束(116)與所述氣體流 (120) 一起通過室(134)的室輸出端(140)排送。
12.按權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，至少一部分氣體基本上平行于所述液體 射束(116)的射束軸線(150)地導(dǎo)入所述室(134)中。
13.按權(quán)利要求11或12所述的方法，其特征在于，至少一部分所述氣體在相對于所述 液體射束(116)的所述射束軸線(150)傾斜的氣體-導(dǎo)入方向(162)上導(dǎo)入所述室(134) 中。
14.按權(quán)利要求11至13中任一項所述的方法，其特征在于，所述室(134)具有垂直于 室縱向軸線(141)取得的室橫截面，所述室橫截面朝向所述室輸出端(140)逐漸變細(xì)。
15.按權(quán)利要求11至14中任一項所述的方法，其特征在于，所述室輸出端(140)以相 對于所述工件(106)的有待去毛刺和/或有待清潔的表面(154)相距最大約5cm的間距的 方式定位。
全文摘要
為了完成用于對浸入液體介質(zhì)的工件去毛刺和/或清潔的、特別有效率的裝置，所述裝置包括用于產(chǎn)生以高壓加載的液體射束的液體排送裝置，而提出所述裝置包括如下的氣體排送裝置，所述氣體排送裝置用于產(chǎn)生至少區(qū)段式包圍液體射束的氣體流。
文檔編號B08B3/10GK101970136SQ200980108926
公開日2011年2月9日 申請日期2009年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月14日
發(fā)明者維爾納·卡爾斯 申請人:杜爾艾科克林有限公司