專利名稱：親水性片材及基材表面的超親水化方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是涉及一種對水具有高潤濕性的親水性片材。具體而言，涉及一種能夠 通過水洗而容易地去除附著的污垢或異物的防污片材、或者能夠防止由水滴附著所引起 的霧氣的防霧片材等親水性片材。另外，本發(fā)明涉及一種基材表面的超親水化方法。詳細而言，涉及一種對任意 基材的表面賦予對水的高潤濕性的方法。根據(jù)本發(fā)明的方法，能夠通過水洗而容易地去 除基材表面附著的污垢或異物，并且，能夠防止由水滴附著所引起的基材表面的霧氣。本發(fā)明的親水性片材能夠優(yōu)選使用本發(fā)明的基材表面的超親水化方法而獲得。
背景技術(shù)：
近年來，由于大氣污染、黃砂飛來、花粉飛散等，對在屋外使用的構(gòu)件的污垢 附著成為嚴重問題。另一方面，作為石化能源的代替品，太陽電池技術(shù)得到普及，另外，為了充分 獲取太陽光，較理想的是大量使用玻璃的房屋，因此最近屋外的玻璃板的利用急劇增 力口。這樣的玻璃板由于要求可靠地獲取太陽光，另外，外觀上污垢也容易變得顯眼，因 此必須進行定期的清潔作業(yè)。然而，這樣的玻璃板大多設(shè)置于高處狹處，難以頻繁地進 行清潔作業(yè)。因此，正在謀求一種在屋外使用、且能夠簡便地去除污垢的構(gòu)件(例如參 照專利文獻1)。另一方面，對污垢對在屋內(nèi)使用的構(gòu)件的附著，使用者的要求也逐年變得嚴 格。在屋內(nèi)使用的構(gòu)件中，尤其在以浴室、廚房、洗手間為代表的廚衛(wèi)設(shè)施中使用 的構(gòu)件中，非特定多數(shù)的人(皮膚)直接接觸的機會較多。因此，從外觀上以及從衛(wèi)生 上的觀點考慮，水垢、水霉、肥皂殘渣等污垢的附著均成為問題。另外，以前在道路標識、顯示面板、廚衛(wèi)設(shè)施中使用的鏡子等，由于水滴附著 而產(chǎn)生霧氣，引起視野下降等問題。專利文獻1 日本特開2002-52667號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的課題在于提供一種親水性片材，其對水具有高潤濕性，能夠通過水洗 而容易地去除附著的污垢或異物，另外，能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。另外，本發(fā)明的課題在于提供一種用于獲得上述親水性片材的適合的基材表面 的超親水化方法，即對任意基材的表面賦予對水的高潤濕性的方法。本發(fā)明的親水性片材在支持體的表面具備以從該表面的仰角低于90度的方式突 出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，該集合層的表面的水接觸角為10度以下。優(yōu)選實施方式中，在上述支持體的單面具備以從該表面的仰角低于90度的方式 突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，該集合層的表面的水接觸角為10度以下，在上述支持體的另一單面上形成有粘合劑層。

優(yōu)選實施方式中，上述集合層為防污層。優(yōu)選實施方式中，上述集合層為防霧層。本發(fā)明的基材表面的超親水化方法是使基材的表面超親水化的方法，其利用斜 向蒸鍍法在該基材的表面上形成以從該表面的仰角低于90度的方式突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的集合層。優(yōu)選實施方式中，上述斜向蒸鍍法使用真空蒸鍍裝置。優(yōu)選實施方式中，上述真空蒸鍍裝置內(nèi)的極限真空度為IXKT3tOrr以下。優(yōu)選實施方式中，上述真空蒸鍍裝置內(nèi)的蒸鍍材料的蒸鍍利用電子束的加熱、 氣化而進行。優(yōu)選實施方式中，上述斜向蒸鍍法使蒸鍍材料蒸鍍于由輥送出的上述基材上而 進行。優(yōu)選實施方式中，上述斜向蒸鍍法通過在蒸鍍源與上述基材之間設(shè)置局部遮蔽 板而使蒸鍍材料斜向蒸鍍于該基材上。優(yōu)選實施方式中，上述集合層的厚度為IOnm以上。優(yōu)選實施方式中，上述基材的表面的每單位面積的上述傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的根數(shù) 為IX IO8根/cm2以上。優(yōu)選實施方式中，上述集合層的表面的水接觸角為10度以下。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種親水性片材，其對水具有高潤濕性，能夠通過水洗 而容易地去除附著的污垢或異物，另外，能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。如上所述的效果能夠通過如下方式而實現(xiàn)在支持體的表面具備以從該表面的 仰角低于90度的方式突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，使該集合層的表面的水接觸角為 10度以下，使該傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層作為高親水性層而發(fā)揮功能。另外，根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)θ我饣牡谋砻尜x予對水的高潤濕性。根據(jù)本發(fā) 明，能夠通過水洗而容易地去除基材表面附著的污垢或異物，另外，能夠防止由水滴附 著所引起的基材表面的霧氣。如上所述的效果能夠通過如下方式而實現(xiàn)利用斜向蒸鍍法，在基材的表面上 形成以從該表面的仰角低于90度的方式突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層。S卩，通過在支持體或基材的表面具備以從該表面的仰角低于90度的方式突出的 傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，基于分形理論(Fractal Theory)，能夠?qū)υ摷蠈拥谋砻尜x予 高潤濕性。這里，分形理論是指使表面超親水化的理論，即利用表面的微細凹凸使親水效 果進一步增強的理論。如果在表面形成微細的凹凸結(jié)構(gòu)(分形結(jié)構(gòu))，則會吸附空氣中的 水分而在凹部形成微小的水膜，因此表面的親水性整體增強。因此，即使在如此的表面 上附著異物或污垢，該異物或污垢也不會與表面完全粘合，而保持浮起的狀態(tài)。并且， 在該狀態(tài)下通過澆水(水洗)，水會滲透至表面與異物或污垢的界面，能夠簡便地去除污 垢。在自然界中，該分形理論的防污效果作為蝸牛殼的防污功能而為人所知。另外，一般而言，在水接觸角為10度以下時，稱為超親水性，水滴并非成為平坦貼附的形狀而制成水膜，而是流動下落。因此，此時，水滴并不附著，能夠?qū)崿F(xiàn)防霧 效果。


圖1是本 發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件的優(yōu)選實施 方式的概略剖面圖。圖2是本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件的優(yōu)選實施 方式的概略剖面圖。圖3是本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件的優(yōu)選實施 方式的概略剖面圖，是說明仰角α的概略剖面圖。圖4是本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱 狀結(jié)構(gòu)體的優(yōu)選實施方式的概略剖面圖。圖5是本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱 狀結(jié)構(gòu)體的優(yōu)選實施方式的概略剖面圖。圖6是斜向蒸鍍法中使用的裝置的優(yōu)選實施方式的概略剖面圖。圖7是實施例1中獲得的親水性片材的剖面SEM照片。圖8是實施例2中獲得的親水性片材的剖面SEM照片。圖9是防霧性評價的照片圖。符號說明10支持體或基材20集合層30傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體40粘合劑層50遮蔽板60蒸鍍源70蒸鍍輥100親水性片材200親水性片材
具體實施例方式圖1、圖2是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式即親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的優(yōu) 選實施方式即親水性構(gòu)件的概略剖面圖。在圖1為親水性片材的概略剖面圖時，圖1中所示的親水性片材100具有支持體 10，和傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20。傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20可以設(shè)置于支持 體10的單面，也可以設(shè)置于兩面。另外，傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20可以設(shè)置于設(shè) 有其的支持體10的表面的整個面上，也可以僅設(shè)置于支持體10的表面的一部分上。在圖1為親水性構(gòu)件的概略剖面圖時，圖1中所示的親水性構(gòu)件100具有基材 10，和傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20。傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20可以設(shè)置于基材 10的單面，也可以設(shè)置于兩面。另外，傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20可以設(shè)置于設(shè)有其的基材10的表面的整個面上，也可以僅設(shè)置于基材10的表面的一部分上。在圖2為親水 性片材的概略剖面圖時，圖2中所示的親水性片材200在支持體 10的單面具有傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20，且在支持體10的另一單面具有粘合劑層 40。粘合劑層40可以設(shè)置于支持體10的單面的整個面上，也可以僅設(shè)置于支持體10的 單面的一部分上。傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20可以設(shè)置于設(shè)有其的支持體10的表面 的整個面上，也可以僅設(shè)置于支持體10的表面的一部分上。在圖2為親水性片材的概略剖面圖時，圖2中所示的親水性片材200在基材10的 單面具有傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20，且在基材10的另一單面具有粘合劑層40。粘 合劑層40可以設(shè)置于基材10的單面的整個面上，也可以僅設(shè)置于基材10的單面的一部 分上。傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30的集合層20可以設(shè)置于設(shè)有其的基材10的表面的整個面上， 也可以僅設(shè)置于基材10的表面的一部分上。如圖1、圖2所示，本發(fā)明的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層20為多個傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體 30的集合層。傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層20可以發(fā)揮防污層或防霧層的作用。本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件通過具備傾斜柱狀 結(jié)構(gòu)體的集合層，能夠表面形成無數(shù)微細的凹凸結(jié)構(gòu)，形成對水表現(xiàn)出高潤濕性、尤其 是對防止污垢或防止霧氣有效的親水性片材或親水性構(gòu)件。如圖3所示，傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30在支持體或基材10的表面以從該表面的仰角α 小于90度的方式突出。仰角α優(yōu)選為10 85度，更優(yōu)選為20 80度，進而優(yōu)選為 30 70度。通過使仰角α小于90度，本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的 親水性構(gòu)件對水具有高潤濕性，能夠通過水洗而容易地去除附著的污垢或異物，另外， 能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體30可以如圖4所示，以仰角α從支持體10或基材的表面實質(zhì) 上筆直地突出，也可以如圖5所示，形成以初始仰角α從支持體或基材10的表面的突出 后彎曲的形狀。傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體具有柱狀結(jié)構(gòu)。作為柱狀結(jié)構(gòu)，不僅包括嚴格的柱狀的結(jié)構(gòu)， 也包括大致為柱狀的結(jié)構(gòu)。例如優(yōu)選列舉圓柱狀結(jié)構(gòu)、多邊形柱狀結(jié)構(gòu)、錐狀結(jié)構(gòu)、纖 維狀結(jié)構(gòu)等。另外，柱狀結(jié)構(gòu)的剖面形狀在柱狀結(jié)構(gòu)體整體上可以均勻，也可以不均 勻。本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中，傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的集合層的表面的水接觸角為10度以下，優(yōu)選為8度以下，更優(yōu)選為6度以下。通 過使傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層的表面的水接觸角為上述范圍，能夠?qū)λ哂懈邼櫇裥裕?能夠通過水洗而容易地去除附著的污垢或異物，另外，能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的縱橫比優(yōu)選為1以上，更優(yōu)選為2 20，進而優(yōu)選為3 10。本發(fā)明中“縱橫比” 是指表示傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的長度(A)與傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的直徑最粗的部分的直徑的長度 (B)的比(其中，使(A)與(B)的單位相同)。通過傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比處于上述 范圍，能夠?qū)λ哂懈邼櫇裥裕軌蛲ㄟ^水洗而容易地去除附著的污垢或異物，另外， 能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。
本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的長度優(yōu)選為IOOnm以上，更優(yōu)選為200 lOOOOOnm，進而優(yōu)選為300 lOOOOnm， 尤其優(yōu)選為500 5000nm。通過傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的長度處于上述范圍，能夠?qū)λ哂懈?潤濕性，能夠通過水洗而容易地去除附著的污垢或異物，另外，能夠防止由水滴附著所 引起的霧氣。本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的直徑優(yōu)選為IOOOnm以下，更優(yōu)選為10 500nm，進而優(yōu)選為100 300nm。通過 傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的直徑處于上述范圍，能夠?qū)λ哂懈邼櫇裥?，能夠通過水洗而容易地 去除附著的污垢或異物，另外，能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的長度及直徑能夠利用任意適當?shù)臏y定方法而測定。從測定的容易性等方面考慮，優(yōu) 選列舉使用掃描型電子顯微鏡(SEM)的測定。使用掃描型電子顯微鏡(SEM)的測定例 如能夠通過在SEM觀察試樣臺上貼附本發(fā)明的親水性片材，從側(cè)面方向進行觀察，從而 求出傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的長度及直徑。 本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中，支持體或基 材的表面的每單位面積的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的根數(shù)優(yōu)選為IX IO8根/cm2以上，更優(yōu)選為 IX IO8 IX IO12根/cm2，進而優(yōu)選為3 X IO8 1 X IOltl根/cm2。通過支持體或基材的表 面的每單位面積的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的根數(shù)處于上述范圍，能夠?qū)λ哂懈邼櫇裥?，能?通過水洗而容易地去除附著的污垢或異物，另外，能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。作為本發(fā)明的親水性片材中的支持體，可以采用任意適當?shù)牟牧稀＠绯丝?使用由聚酰亞胺(PI)類樹脂、聚酯(PET)類樹脂、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)類樹脂、 聚醚砜(PES)類樹脂、聚醚醚酮(PEEK)類樹脂、聚芳酯(PAR)系樹脂、芳族聚酰胺類 樹脂、或液晶聚合物(LCP)樹脂、氟類樹脂、丙烯酸類樹脂、環(huán)氧類樹脂、聚烯烴類樹 月旨、聚氯乙烯、EVA、PMMA、POM等有機高分子樹脂構(gòu)成的片材或基板以外，也可以 使用石英基板、玻璃基板、硅晶片等由無機材料等構(gòu)成的基板。這些之中，特別是PET 類樹脂片材、聚碳酸酯系樹脂片材由于透明性高而適合使用。作為以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的基材，可以采用任意適當?shù)牟牧稀?例如，可以列舉聚酰亞胺(PI)類樹脂、聚酯(PET)類樹脂、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN) 類樹脂、聚醚砜(PES)類樹脂、聚醚醚酮(PEEK)類樹脂、聚芳酯(PAR)類樹脂、芳族 聚酰胺類樹脂、或液晶聚合物(LCP)樹脂、氟類樹脂、丙烯酸類樹脂、環(huán)氧類樹脂、聚 烯烴類樹脂、聚氯乙烯、EVA、PMMA、POM等有機高分子樹脂；石英、玻璃、硅晶 片、混凝土、砂漿、外墻板、瓷磚、陶器、鏡子、金屬(鐵、鋁、合金、鋼、銅等)、石 材、木材、板巖(slate)等無機材料等。作為本發(fā)明的親水性片材中的支持體或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中 的基材，更具體而言，如果按用途列舉，則例如可以列舉(1)隧道內(nèi)部裝飾板、隧道內(nèi)照明、道路標識、道路照明、隔音壁、護柵、反射 板、道路鏡等道路相關(guān)材料；(2)廚房設(shè)備構(gòu)件、浴室設(shè)備構(gòu)件、住宅內(nèi)部裝飾構(gòu)件、外墻材料、瓷磚、玻 璃、窗框、紗窗、門扇、車庫、日光浴室、陽臺構(gòu)件、屋頂用構(gòu)件、住宅外壁構(gòu)件、浴室鏡、化妝鏡、衛(wèi)生陶器等住宅相關(guān)材料；(3)建筑物窗框、帷幕墻、涂裝鋼板、鋁板、瓷磚、石材、結(jié)晶化玻璃、玻璃用 薄膜等建筑物相關(guān)材料；(4)展示柜、標志、顯示類、櫥窗、店鋪用外裝材料、冷藏商品柜、冷凍商品柜 等店鋪相關(guān)材料；(5)玻璃溫室、塑料棚(vinylhouse)等農(nóng)業(yè)相關(guān)材料；(6)計算機顯示器、太陽電池、玻璃、空調(diào)用鋁風(fēng)扇、高壓電線等電子相關(guān)材 料；(7)汽車本體、車輛本體、汽車涂裝構(gòu)件、車輛涂裝構(gòu)件、前照燈罩、窗玻璃、 電焊面罩、玻璃用薄膜、門鏡、二輪車后視鏡、二輪車防風(fēng)、鏡用薄膜等車輛相關(guān)材 料； (8)光學(xué)透鏡、內(nèi)視鏡透鏡等光學(xué)設(shè)備相關(guān)材料；(9)隱形眼鏡、導(dǎo)管等醫(yī)療相關(guān)材料；(10)餐具、烹調(diào)器具、防污維護材料、防霧維護材料等日用品、消費品相關(guān)材料等。本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中，也可以對支持 體或基材的表面預(yù)先實施等離子體(濺鍍)處理、電暈放電、紫外線照射、火焰、電子束 照射、化學(xué)轉(zhuǎn)化、氧化等蝕刻處理或有機物的底涂處理，以使傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體與支持體 的附著力提高。另外，也可以根據(jù)需要，利用溶劑清洗或超音波清洗等進行除塵清潔化處理。作為本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的支持體或 基材的厚度，可以采用任意適當?shù)暮穸?。例如，如果為片材狀，則優(yōu)選為10 250 μ m， 如果為基板狀，則優(yōu)選為0.1 10mm。另外，支持體或基材可為單層，也可以為2層以 上的疊層體。作為本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱狀 結(jié)構(gòu)體，可以采用任意適當?shù)牟牧稀＠缈梢允褂娩X、鋅、金、銀、鉬、鎳、鉻、銅、 鉬、銦等金屬類或藍寶石、碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等無機材料、一氧化硅(SiO)、 二氧化硅(SiO2)、氧化鋁(Al2O3)、氧化鈰(CeO2)、氧化鉻(Cr2O3)、氧化鎵(Ga2O3)、 氧化鉿(HfO2)、五氧化鉭(Ta2O5)、氧化釔(Y2O3)、氧化鎢(WO3)、一氧化鈦(TiO)、二 氧化鈦(TiO2)、五氧化鈦(Ti3O5)、氧化鎳(NiO)、氧化鎂(MgO)、ITO (In203+Sn02)、 五氧化鈮(Nb2O5)、氧化鋅(ZnO)、氧化鋯(ZrO2)等氧化物。另外，也可以利用聚酰 亞胺、氟化鋁、氟化鈣、氟化鈰、氟化鑭、氟化鋰、氟化鎂、氟化釹、氟化鈉等氟類材 料、硅等樹脂等。這些材料可以僅單獨使用1種，也可以將2種以上混合使用，也可以 形成2層以上的多層結(jié)構(gòu)。特別適合使用作為具有親水性的材料的二氧化硅(SiO2)、二 氧化鈦(TiO2)等氧化物。本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的集合層的表面的表面自由能優(yōu)選為70mJ/m2以上，更優(yōu)選為73mJ/m2以上，進而優(yōu) 選為75mJ/m2以上。通過傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層的表面的表面自由能處于上述范圍 內(nèi)，則集合層的表面的潤濕性提高，能夠通過水洗而容易地去除附著的污垢或異物，另夕卜，能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。這里，表面自由能是指通過對固體表面使用水及二碘甲烷來分別測定接觸角， 將該測定值與接觸角測定液體的表面自由能值(由文獻已知)代入由楊氏方程式及擴展的 Fowkes方程導(dǎo)出的下述式(1)中，將獲得的兩個式子作為聯(lián)立一次方程式而解出，從而 求出的固體的表面自由能值。
(1+COS0 )r =2λΓ(r dr d)+2^T(r vr ν).··(1)
LSLSL其中，式中的各記號分別如下所述。θ 接觸角rL 接觸角測定液體的表面自由能rLd rL中的分散力成分rLv: rL中的極性力成分rsd固體的表面自由能中的分散力成分rsv固體的表面自由能中的極性力成分本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的集合層的厚度可以在可達成本發(fā)明目的的范圍采用任意適當?shù)臈l件。優(yōu)選為IOnm以 上，更優(yōu)選為50 lOOOOnm，進而優(yōu)選為100 5000nm。如果傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合 層的厚度處于上述范圍，則集合層的表面的潤濕性提高，能夠通過水洗而容易地去除附 著的污垢或異物，另外，能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體的集合層優(yōu)選實質(zhì)上不具有粘合力。這里，實質(zhì)上不具有粘合性是指以粘合的本質(zhì)作 為對滑動的阻力即摩擦?xí)r，并無代表粘合性功能的感壓性粘合。該感壓性粘合是指例如 如果根據(jù)Dahlquist的基準，則粘合性物質(zhì)的彈性率表現(xiàn)為至IMPa為止的范圍內(nèi)。為了保護本發(fā)明的親水性片材或者以本發(fā)明的方法獲得的親水性構(gòu)件中的傾斜 柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層的表面，也可以使用保護膜。保護膜可以在使用時等適當?shù)碾A段剝 離。作為保護膜，可以使用由任意適當?shù)牟牧闲纬傻谋Ｗo膜。例如可列舉以硅類、長鏈 烷基類、氟類、脂肪酸酰胺類、二氧化硅類的剝離劑等進行剝離處理的由聚氯乙烯、氯 乙烯共聚物、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚氨酯、乙烯乙酸乙烯 酯共聚物、離子聚合物樹脂、乙烯_(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯_(甲基)丙烯酸酯共聚 物、聚苯乙烯、聚碳酸酯等的塑料薄膜。另外，由于聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚丁二 烯、聚甲基戊烯等聚烯烴樹脂類的薄膜即使不使用脫模處理劑也具有脫模性，因此也能 夠?qū)⑵鋯误w用作保護膜。保護膜的厚度優(yōu)選為1 100 μ m，更優(yōu)選為10 100 μ m。保護膜的形成方法 在能夠達成本發(fā)明目的的范圍內(nèi)可以采用任意適當?shù)姆椒?。例如能夠利用射出成型法?擠出成型法、吹塑成型法而形成。作為本發(fā)明的親水性片材的優(yōu)選實施方式，是在上述支持體的單面具備從該表 面的仰角小于90度而突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，該集合層的表面的水接觸角為10 度以下，在上述支持體的另一單面形成有粘合劑層。作為本發(fā) 明的親水性片材的粘合劑層中所使用的粘合劑，可以采用任意適當?shù)牟牧?。例如可以列舉丙烯酸類粘合劑、橡膠類粘合劑、硅類粘合劑。其中，從對被粘附體的污染性低等方面考慮，優(yōu)選為丙烯酸類粘合劑，特別優(yōu)選以重量平均分子量10萬以 下的成分為10重量％以下的(甲基)丙烯酸類聚合物作為主劑的丙烯酸類粘合劑。作為形成(甲基)丙烯酸類聚合物的單體成分，例如優(yōu)選為具有甲基、乙基、正 丙基、異丙基、正丁基、叔丁基、異丁基、戊基、異戊基、己基、庚基、環(huán)己基、2-乙 基己基、辛基、異辛基、壬基、異壬基、癸基、異癸基、十一烷基、月桂基、十三烷 基、十四烷基、硬脂基、十八烷基、以及十二烷基等碳數(shù)為30以下的烷基的(甲基)丙 烯酸烷基酯，更優(yōu)選具有碳數(shù)為4 18的直鏈或支鏈烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。這 些(甲基)丙烯酸烷基酯可以僅單獨使用1種，也可以并用2種以上。作為上述以外的單體成分，例如可以列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸 羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、馬來酸、富馬酸、以及巴豆酸等含羧基 的單體；馬來酐或伊康酸酐等酸酐單體；(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸 2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯 酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、(甲基) 丙烯酸(4-羥基甲基環(huán)己基)甲酯等含羥基的單體；苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲 基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、以及 (甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基的單體；丙烯?；姿?-羥基乙酯等含磷酸基的 單體等。這些單體成分可以僅單獨使用1種，也可以并用2種以上。另外，為了進行(甲基)丙烯酸類聚合物的交聯(lián)處理等，根據(jù)需要，能夠使用多 官能單體作為共聚合單體成分。作為多官能單體，例如可以列舉己二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊 四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基) 丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單 羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯、聚 酯(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。這些多官能單體可以僅單獨 使用1種，也可以并用2種以上。從粘合特性等觀點考慮，多官能單體的使用量優(yōu)選為總單體成分的30重量％以 下，更優(yōu)選為15重量％以下。(甲基)丙烯酸類聚合物的制備例如能夠使用含有1種或2種以上的單體成分的 混合物，應(yīng)用溶液聚合方式、乳化聚合方式、塊狀聚合方式、或懸浮聚合方式等適當?shù)?方式進行。在(甲基)丙烯酸系聚合物的制備中，可以使用聚合引發(fā)劑。作為聚合引發(fā)劑， 例如可列舉過氧化氫、過氧化苯甲酰、過氧化叔丁基等過氧化物系。聚合引發(fā)劑期望單獨使用，但也能夠與還原劑組合而作為氧化還原類聚合引發(fā) 劑使用。作為還原劑，例如能夠列舉亞硫酸鹽、亞硫酸氫鹽、鐵鹽、銅鹽、鈷鹽等離子 化的鹽；三乙醇胺等胺類；醛糖、酮醣等還原糖等。作為聚合引發(fā)劑，也優(yōu)選偶氮化合物。例如能夠使用2，2' _偶氮雙-2-甲基丙脒酸鹽、2，2'-偶氮雙-2，4-二甲基戊腈、2，2'-偶氮雙-N，N' -二亞甲基異 丁基脒酸鹽、2，2'-偶氮雙異丁腈、2，2'-偶氮雙-2-甲基-N-(2-羥基乙基)丙酰 胺等。聚合引發(fā) 劑可以僅使用1種，也可以并用2種以上。聚合的反應(yīng)溫度優(yōu)選為50 85°C。聚合的反應(yīng)時間優(yōu)選為1 8小時。作為聚合方式，特別優(yōu)選溶液聚合方式，作為(甲基)丙烯酸類聚合物的溶劑， 優(yōu)選乙酸乙酯或甲苯等極性溶劑。溶液濃度優(yōu)選為20 80重量％。本發(fā)明的親水性片材中的粘合劑層中使用的粘合劑中，為了提高作為基底聚合 物的(甲基)丙烯酸類聚合物的數(shù)量平均分子量，也能夠適當添加交聯(lián)劑。作為交聯(lián)劑，例如可以列舉聚異氰酸酯化合物、環(huán)氧化合物、氮丙啶化合物、 三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、無水化合物、聚胺、含羧基的聚合物等。使用交聯(lián)劑時，考慮不過度降低剝離粘合力，其使用量優(yōu)選相對于聚合物100 重量份為0.01 5重量份。本發(fā)明的親水性片材中的粘合劑層中使用的粘合劑中，根據(jù)需要，能夠含有任 意適當?shù)奶砑觿缯澈腺x予劑、抗老化劑、填充劑、抗老化劑、著色劑等。本發(fā)明的親水性片材中的粘合劑層的厚度優(yōu)選為1 100 μ m，更優(yōu)選為3 50 μ m，特別優(yōu)選為5 20 μ m。本發(fā)明的親水性片材中的粘合劑層上優(yōu)選設(shè)有隔離膜(separator)。通過設(shè)置隔 離膜，可使疊層片材(粘合片材)成為輥狀而進行加熱處理或保管。另外，能夠在使用 親水性片材之前保護粘合劑層的表面不受灰塵等的污染。作為隔離膜的構(gòu)成材料，例如可以列舉由聚醚醚酮、聚醚酰亞胺、聚芳酯、聚 萘二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚丁二烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、氯 乙烯共聚物、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚氨酯、乙烯-乙酸乙 烯酯共聚物、離子聚合物樹脂、乙烯_(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯_(甲基)丙烯酸酯共 聚物、聚苯乙烯、聚碳酸酯等塑料構(gòu)成的薄膜等。為了提高與粘合劑層的剝離性，根據(jù)需要，可以對隔離膜的單面實施硅處理、 長鏈烷基處理、氟處理、脂肪酸酰胺類的處理、二氧化硅類的處理等剝離處理。隔離膜的厚度優(yōu)選為5 200 μ m，更優(yōu)選為25 100 μ m，進而優(yōu)選為38 60 μ m。本發(fā)明的親水性片材可以在支持體的表面形成傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體而制造。作為傾 斜柱狀結(jié)構(gòu)體的形成方法，可以采用任意適當?shù)姆椒?。?yōu)選斜向蒸鍍法。本發(fā)明的基材表面的超親水化方法是使基材的表面超親水化的方法，是利用斜 向蒸鍍法，在該基材的表面上形成以從該表面的仰角小于90度的方式突出的傾斜柱狀結(jié) 構(gòu)體的集合層。作為斜向蒸鍍法，可以采用任意適當?shù)男毕蛘翦兎ǖ募夹g(shù)。例如可以列舉日本 特開平8-27561號公報中所記載的方法。優(yōu)選使用真空蒸鍍裝置。另外，也優(yōu)選使蒸 鍍材料蒸鍍于由輥送出的支持體上或基材上而進行。又，也優(yōu)選通過在蒸鍍源與支持體 或基材之間設(shè)置局部遮蔽板，而使蒸鍍材料斜向蒸鍍于該支持體上或該基材上。此處，
“局部遮蔽板”是指在蒸鍍源與支持體或基材之間的空間配置遮蔽板時，并非以從蒸鍍源看時支持體或基材完全隱藏的方式配置。即，是指以從蒸鍍源看時可以看到支持體或 基材的至少一部分的方式配置遮蔽板。作為優(yōu)選實施方式，如圖6所示，在真空的容器(腔室)中，將蒸鍍材料作為蒸 鍍源60而進行加熱，使其氣化或升華而附著于置于分離位置的支持體或基材10的表面 時，使用遮蔽板50， 使蒸鍍材料相對于支持體或基材10傾斜而蒸鍍。通過使蒸鍍材料相 對于支持體或基材10傾斜而蒸鍍，形成相對于支持體或基材10表面傾斜的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體30。此時，支持體或基材10利用蒸鍍輥70送出。在使用如圖6所示的真空蒸鍍裝置 時，能夠在支持體或基材的表面設(shè)置從該支持體或該表面的仰角小于90度而突出的傾斜 柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，并且，為了將該傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比控制為1以上，在裝置 設(shè)計上特別重要的是蒸鍍輥的半徑R和從蒸鍍輥的表面至蒸鍍源為止的最短距離L3。在使用如圖6所示的真空蒸鍍裝置時，只要能夠在支持體或基材的表面上設(shè)置 從該支持體或該表面的仰角小于90度而突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，且能夠?qū)⒃搩A 斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比控制為1以上，則蒸鍍輥的半徑R可以采用任意適當?shù)陌霃健?了高效率地實現(xiàn)本發(fā)明的效果，蒸鍍輥的半徑R優(yōu)選為0.1 5m，更優(yōu)選為0.2 lm。在使用如圖6所示的真空蒸鍍裝置時，只要能夠在支持體或基材的表面上設(shè)置 從該支持體或該表面的仰角小于90度而突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，且能夠?qū)⒃搩A 斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比控制為1以上，則從蒸鍍輥的表面至蒸鍍源為止的最短距離L3可 以采用任意適當?shù)木嚯x。為了高效率地實現(xiàn)本發(fā)明的效果，從蒸鍍輥的表面至蒸鍍源為 止的最短距離L3優(yōu)選為0.1 5m，更優(yōu)選為0.3 3m。在使用如圖6所示的真空蒸鍍裝置時，只要能夠在支持體或基材的表面上設(shè)置 從該支持體或該表面的仰角小于90度而突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，且能夠?qū)⒃搩A 斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比控制為1以上，則從蒸鍍輥的中心至蒸鍍源為止的最短距離Ll可 以采用任意適當?shù)木嚯x。另外，Ll是由Ll =R+L3決定的長度。因此，為了高效率地 實現(xiàn)本發(fā)明的效果，從蒸鍍輥的中心至蒸鍍源為止的最短距離Ll優(yōu)選為0.2 10m，更 優(yōu)選為0.5 4m。在使用如圖6所示的真空蒸鍍裝置時，只要能夠在支持體或基材的表面上設(shè)置 從該支持體或該表面的仰角小于90度而突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，且能夠?qū)⒃搩A 斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比控制為1以上，則從遮蔽板至蒸鍍源為止的最短距離L2可以采用 任意適當?shù)木嚯x。另外，L2是可以依賴于L3而設(shè)定的長度，為了高效率地實現(xiàn)本發(fā)明 的效果，一般而言L2優(yōu)選為L3的1/2以上，更優(yōu)選為2/3以上。如果L2小于此長度， 則存在蒸鍍膜容易等向性地成膜而難以控制上述角度、縱橫比的擔心。在使用如圖6所示的真空蒸鍍裝置時，只要能夠在支持體或基材的表面上設(shè)置 從該支持體或該表面的仰角小于90度而突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，且能夠?qū)⒃搩A 斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比設(shè)為1以上，則遮蔽板的長度L4可以采用任意適當?shù)拈L度。另 夕卜，L4是可以依賴于R而設(shè)定的長度，由于必須形成蒸鍍角度，故而優(yōu)選設(shè)為R<L4 <2R。L4優(yōu)選為0.1 10m，更優(yōu)選為0.2 2m。另外，具體而言，對遮蔽板的長度 L4進行調(diào)整，使在支持體或基材的表面上設(shè)置從該支持體或該表面的仰角α小于90度、 優(yōu)選為10 85度、更優(yōu)選為20 80度、進而優(yōu)選為30 70度而突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu) 體。在圖5的情形時，在水平方向上調(diào)整遮蔽板50的右端部的位置。
上述真空蒸鍍裝置內(nèi)的極限真空度優(yōu)選為lX10_3torr以下，更優(yōu)選為5X 10_4torr 以下，進而優(yōu)選為IXKT4tOrr以下。如果上述真空蒸鍍裝置內(nèi)的極限真空度超出上述范 圍，則存在無法形成可充分發(fā)揮本發(fā)明的效果的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的擔心。上述真空蒸鍍裝置中送出支持體或基材的線速度，考慮裝置尺寸等，可以設(shè)定 任意適當?shù)乃俣?，使得能夠在支持體或基材的表面上設(shè)置從該支持體或該表面的仰角小 于90度而突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，且能夠?qū)⒃搩A斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比控制為 1以上。如果上述真空蒸鍍裝置內(nèi)的蒸鍍材料的蒸鍍?yōu)槟軌驅(qū)⒃撜翦儾牧霞訜?、氣化?方法，則可以采用任意適當?shù)姆椒ā＠缫噪娮杓訜?、電子束、高頻感應(yīng)、激光等的方 法進行加熱、氣化。優(yōu)選為上述真空蒸鍍裝置內(nèi)的蒸鍍材料的蒸鍍利用電子束的加熱、 氣化而進行。上述電子束的發(fā)射電流，考慮裝置尺寸等，能夠設(shè)定任意適當?shù)陌l(fā)射電流使得 能夠在支持體或基材的表面上設(shè)置以從該支持體或該表面的仰角小于90度的方式突出的 傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，且能夠?qū)⒃搩A斜柱狀結(jié)構(gòu)體的縱橫比控制為1以上。作為斜向蒸鍍法的條件，除上述條件的外，也可以采用任意適當?shù)臈l件。例如 可以適當變更蒸鍍時間、腔室真空度、加熱條件(電子束輸出電流、加速電壓等)、基板 溫度等而設(shè)定條件。 作為上述蒸鍍材料，可以采用任意適當?shù)牟牧?。例如能夠使用鋁、鋅、金、 銀、鉬、鎳、鉻、銅、鉬、銦等金屬類或藍寶石、碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等無 機材料；一氧化硅(SiO)、二氧化硅(SiO2)、氧化鋁(Al2O3)、氧化鈰(CeO2)、氧化鉻 (Cr2O3)、氧化鎵(Ga2O3)、氧化鉿(HfO2)、五氧化鉭(Ta2O5)、氧化釔(Y2O3)、氧化鎢 (WO3)、一氧化鈦(TiO)、二氧化鈦(TiO2)、五氧化鈦(Ti3O5)、氧化鎳(NiO)、氧化鎂 (MgO)、ITO (In203+Sn02)、五氧化鈮(Nb2O5)、氧化鋅(ZnO)、氧化鋯(ZrO2)等氧化 物。另外，也可以使用聚酰亞胺、氟化鋁、氟化鈣、氟化鈰、氟化鑭、氟化鋰、氟化 鎂、氟化釹、氟化鈉等氟類材料，硅等樹脂等。這些材料可以僅單獨使用1種，也可以 將2種以上混合使用，也可以形成2層以上的多層結(jié)構(gòu)。特別適合使用作為具有親水性 的材料的二氧化硅(SiO2)、二氧化鈦(TiO2)等氧化物。本發(fā)明的親水性片材可以用于任意適當?shù)挠猛?。例如可以列舉優(yōu)選為具有防污 層或防霧層的親水性片材。實施例以下，基于實施例說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限定于此。[水接觸角、表面自由能]使用水及二碘甲烷，對傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層表面分別測定接觸角，利用式 (1)算出表面自由能。[防污性評價]在親水性片材的斜向蒸鍍結(jié)構(gòu)體的集合層上放置適量的油滴(松村石油研究所 制造，NeovacMR-200)。之后，在油滴的周圍以包圍油滴的方式流入純水，確認利用純 水的油滴去除性。評價以5階段(5為最良好)的官能性評價進行。[防霧性評價]
將切割為IOcm □的親水性片材的粘合劑層側(cè)的隔離膜剝離，貼合于窗玻璃上。 之后，對傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層吹氣，確認窗玻璃的防霧性。評價以5階段(5為最良 好)的官能性評價進行。[實施例1](斜向蒸鍍法)傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的形成使 用如圖6所示的卷取式電子束(EB)真空蒸鍍裝置。 基材使用厚度為50μιη的聚酯膜(Toray制造，Lumirror S10)，蒸發(fā)源使用二氧化硅 (SiO2),將線速度設(shè)為0.2m/min，在腔室內(nèi)極限真空度為4X 10_5tort、EB輸出為(發(fā)射 電流)500mA、蒸鍍?nèi)肷浣菫?0度的條件下制作。(親水性片材的制作)相對于由丙烯酸丁酯100份以及丙烯酸3份構(gòu)成的單體混合液獲得的丙烯酸類聚 合物100份，將聚異氰酸酯化合物(日本聚氨酯工業(yè)制造，商品名Coronate L) 2份、環(huán) 氧系化合物(三菱瓦斯化學(xué)制造，商品名Tetrad C)0.6份均勻地混合，制備丙烯酸類粘 合劑溶液。在單面經(jīng)聚硅氧系脫模劑處理的聚酯性隔離膜(三菱化學(xué)聚酯膜制造，商品 名MRF50，厚度50 μ m，寬度250mm)的聚硅氧脫模處理面上涂布上述粘合劑溶液，使 干燥后的厚度為10 μ m，使其干燥。疊層于形成有傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的50 μ m厚的聚酯膜 的另一面上，制成親水性片材。(評價)將評價結(jié)果示于表1中。另外，在圖7中表示獲得的親水性片材的剖面SEM照 片。另外，在圖9中表示防霧性評價的照片。[實施例2]除了將線速度設(shè)為lJm/min以外，以與實施例1相同的方法使蒸發(fā)源的SiO2蒸 發(fā)，在基材上形成傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體，制成親水性片材。將評價結(jié)果示于表1中。另外， 在圖8中表示獲得的親水性片材的剖面SEM照片。另外，在圖9中表示防霧性評價的照 片。[實施例3]除了在傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的形成中使用4英寸的硅晶片作為基材以外，以與實施 例1相同的方法使蒸發(fā)源的SiO2蒸發(fā)，在基材上形成傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體，制成親水性片 材。將評價結(jié)果示于表1中。[實施例4]除了在傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的形成中使用厚度為2mm的PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯) 樹脂作為基材以外，以與實施例1相同的方法使蒸發(fā)源的SiO2蒸發(fā)，在基材上形成傾斜 柱狀結(jié)構(gòu)體，制成親水性片材。將評價結(jié)果示于表1中。[比較例1]除了將線速度設(shè)為2.9m/min以外，以與實施例1相同的方法使蒸發(fā)源的SiO2蒸 發(fā)，在基材上形成傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體，制成親水性片材。將評價結(jié)果示于表1中。另外， 將防霧性評價的照片圖示于圖9中。[比較例2]除了將線速度設(shè)為4.3m/min以外，以與實施例1相同的方法使蒸發(fā)源的SiO2蒸發(fā)，在基材上形成傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體，制成親水性片材。將評價結(jié)果示于表1中。另外， 在圖9中表示防霧性評價的照片。[比較例3]不形成傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體，制作由單面粘合劑層構(gòu)成的片材。將評價結(jié)果示于表 1中。另外，在圖9中表示防霧性評價的照片。[表1]
權(quán)利要求
1.一種親水性片材，其特征在于在支持體的表面具備從該表面的仰角低于90度突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，該 集合層的表面的水接觸角為10度以下。
2.如權(quán)利要求1所述的親水性片材，其特征在于在所述支持體的單面具備以從該表面的仰角低于90度的方式突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體 的集合層，該集合層的表面的水接觸角為10度以下，在所述支持體的另一單面上形成有 粘合劑層。
3.如權(quán)利要求1或2所述的親水性片材，其特征在于 所述集合層為防污層。
4.如權(quán)利要求1或2所述的親水性片材，其特征在于 所述集合層為防霧層。
5.—種基材表面的超親水化方法，使基材的表面超親水化，其特征在于利用斜向蒸鍍法在該基材的表面上形成以從該表面的仰角低于90度的方式突出的傾 斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層。
6.如權(quán)利要求5所述的基材表面的超親水化方法，其特征在于 所述斜向蒸鍍法使用真空蒸鍍裝置。
7.如權(quán)利要求6所述的基材表面的超親水化方法，其特征在于 所述真空蒸鍍裝置內(nèi)的極限真空度為lXlOlorr以下。
8.如權(quán)利要求6或7所述的基材表面的超親水化方法，其特征在于 所述真空蒸鍍裝置內(nèi)的蒸鍍材料的蒸鍍利用電子束的加熱、氣化而進行。
9.如權(quán)利要求5至8中任一項所述的基材表面的超親水化方法，其特征在于 所述斜向蒸鍍法使蒸鍍材料蒸鍍于由輥送出的所述基材上而進行。
10.如權(quán)利要求5至9中任一項所述的基材表面的超親水化方法，其特征在于 所述斜向蒸鍍法通過在蒸鍍源與所述基材之間設(shè)置局部遮蔽板而使蒸鍍材料斜向蒸鍍于該基材上。
11.如權(quán)利要求5至10中任一項所述的基材表面的超親水化方法，其特征在于 所述集合層的厚度為IOnm以上。
12.如權(quán)利要求5至11中任一項所述的基材表面的超親水化方法，其特征在于 所述基材的表面的每單位面積的所述傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的根數(shù)為IX IO8根/cm2以上。
13.如權(quán)利要求5至12中任一項所述的基材表面的超親水化方法，其特征在于 所述集合層的表面的水接觸角為10度以下。
全文摘要
本發(fā)明提供一種親水性片材，其對水具有高潤濕性，能夠通過水洗而容易地去除附著的污垢或異物，并且，能夠防止由水滴附著所引起的霧氣。另外，本發(fā)明提供一種對任意基材的表面賦予對水的高潤濕性的方法。本發(fā)明的親水性片材在支持體的表面具備以從該表面的仰角低于90度的方式突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層，且該集合層的表面的水接觸角為10度以下。另外，本發(fā)明的基材表面的超親水化方法是使基材的表面超親水化的方法，其利用斜向蒸鍍法而在該基材的表面形成以從該表面的仰角低于90度的方式突出的傾斜柱狀結(jié)構(gòu)體的集合層。
文檔編號B08B17/02GK102026802SQ20098010984
公開日2011年4月20日 申請日期2009年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月19日
發(fā)明者寺田好夫 申請人:日東電工株式會社