專利名稱：用于處理瓶子或類似容器的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及如權(quán)利要求1的前序部分所述的設(shè)備并且在這種情形下特別是但是 并非專有地涉及巴氏滅菌器或巴氏滅菌機(jī)和用于清潔瓶子或類似容器的設(shè)備。
背景技術(shù)：
除其它外，巴氏滅菌器或巴氏滅菌系統(tǒng)對(duì)于熱處理即對(duì)于填充到容器例如瓶子中 的巴氏滅菌產(chǎn)品是已知的。在該類型的已知系統(tǒng)的情形中，在系統(tǒng)內(nèi)的傳送帶上輸送通過(guò) 巴氏滅菌系統(tǒng)的容器的熱處理是通過(guò)使用熱處理介質(zhì)例如水在多個(gè)處理區(qū)域中噴射容器 執(zhí)行的，其方式為以適當(dāng)?shù)姆绞竭x擇處理區(qū)域中噴射流體的溫度，最初地始于環(huán)境溫度，容 器被逐漸地加熱直至巴氏滅菌溫度，然后容器逐漸地冷卻回到環(huán)境溫度。由于優(yōu)勢(shì)溫度和 穩(wěn)定濕度，這類巴氏滅菌系統(tǒng)對(duì)污垢積聚和所有種類的細(xì)菌污染極端敏感。因此，必須連續(xù) 地避免由微生物特別是還通過(guò)藻類、真菌、細(xì)菌和/或病毒對(duì)處理區(qū)域的細(xì)菌污染。為此，在已知巴氏滅菌系統(tǒng)的情形中，通常使用高劑量的生物殺滅劑，接受消費(fèi)者 或者以及產(chǎn)品自身被例如粘附至巴氏滅菌容器的殘留生物殺滅劑污染乃至損壞的風(fēng)險(xiǎn)。另 外，所使用的生物殺滅劑表示了并非不值得考慮的成本因素。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種設(shè)備，其中不使用生物殺滅劑而保證所需的沒(méi)有微生物 或無(wú)菌性。該目的是由對(duì)應(yīng)于權(quán)利要求1的設(shè)備實(shí)現(xiàn)的。在依照本發(fā)明的設(shè)備的情形中，它使用至少一種處理液體處理瓶子或類似設(shè)備并 且其中，通過(guò)優(yōu)勢(shì)溫度和恒定濕度，存在污垢積聚和細(xì)菌污染的風(fēng)險(xiǎn)，所需的無(wú)菌性和免于 微生物是通過(guò)使用臭氧(O3)而不使用生物殺滅劑保證的，臭氧是至少在其中存在污垢或細(xì) 菌污染的風(fēng)險(xiǎn)的依照本發(fā)明的設(shè)備附近輸送的，優(yōu)選地使用液體處理介質(zhì)，這樣臭氧就通 過(guò)其基本上環(huán)境友好的氧化從處理介質(zhì)中除氣而以殺死微生物的方式作用。用于臭氧處理的處理介質(zhì)優(yōu)選地是在處理容器的設(shè)備中使用的處理液體。然而， 另一種液體介質(zhì)也可以用作用于臭氧處理的處理介質(zhì)。依照本發(fā)明的設(shè)備例如是巴氏滅菌系統(tǒng)，其中至少對(duì)于關(guān)于恒定濕度和優(yōu)勢(shì)溫度 的各種污垢積聚和污染特別敏感的那些處理區(qū)域使用臭氧進(jìn)行處理。在這種情形下，臭氧 與用于處理容器的處理或噴射液體混合，其濃度足夠高以保證避免在設(shè)備內(nèi)部和/或外部 細(xì)菌污染所需的清潔和消毒性能并且同時(shí)足夠低，這樣就可以可靠地避免不希望的影響， 例如對(duì)由金屬制成的設(shè)備元件或機(jī)器元件的腐蝕和通過(guò)在工作場(chǎng)所超過(guò)最大容許臭氧濃 度而對(duì)人員或操作人員的健康的威脅。如果依照本發(fā)明的設(shè)備具有容器在它們的處理期間移動(dòng)通過(guò)的多個(gè)處理區(qū)域，則 以單獨(dú)的方式對(duì)各個(gè)處理區(qū)域調(diào)節(jié)和/或控制臭氧濃度是有利的。通過(guò)對(duì)示例性實(shí)施例的下列說(shuō)明和圖將做出本發(fā)明的其它開(kāi)發(fā)、優(yōu)點(diǎn)和應(yīng)用可能 性。在這種情形下，所有描述和/或圖形表示的特征無(wú)論是單獨(dú)地或以任意組合在原則上
3均是本發(fā)明的目標(biāo)，而無(wú)論它們?cè)跈?quán)利要求中的概括或它們的相關(guān)性。權(quán)利要求的內(nèi)容也 形成說(shuō)明書(shū)的一部分。


下面將通過(guò)僅僅示例性實(shí)施例的附圖詳細(xì)地描述本發(fā)明，其中圖1顯示了巴氏滅菌系統(tǒng)形式的用于處理瓶子的機(jī)器的簡(jiǎn)化圖示；圖2顯示了清潔機(jī)形式的用于處理瓶子的機(jī)器的簡(jiǎn)化圖示。
具體實(shí)施例方式圖1中的參考數(shù)字1被給予用于熱處理即用于對(duì)填充到瓶子2中的液體產(chǎn)品進(jìn)行 巴氏滅菌的巴氏滅菌系統(tǒng)。在填充和閉合過(guò)程之后，垂直站立的瓶子2經(jīng)由外部傳送帶3供 給實(shí)現(xiàn)為隧道巴氏滅菌器的巴氏滅菌系統(tǒng)1的容器入口 1. 1，然后在設(shè)備內(nèi)的傳送帶4上移 動(dòng)，仍然垂直站立，通過(guò)所述系統(tǒng)的各個(gè)處理區(qū)域到其出口 1. 2 (箭頭A)，巴氏滅菌的瓶子2 然后由此經(jīng)由外部傳送帶5供給另一種處理場(chǎng)合，例如供給至標(biāo)簽系統(tǒng)。巴氏滅菌系統(tǒng)1包括多個(gè)處理部分一加熱部分6、超熱和巴氏滅菌部分7和冷卻部 分8，它們以該次序沿傳輸方向A彼此連接。每個(gè)處理部分又被分成沿輸送方向A彼此連接 的多個(gè)處理區(qū)域一加熱部分6被分成處理區(qū)域6. 1,6. 2和6. 3，超熱部分7被分成處理區(qū) 域7. 1,7. 2和7. 3并且處理部分8被分成處理區(qū)域8. 1,8. 2和8. 3-所述處理區(qū)域又沿輸 送方向A以參考數(shù)字的升序連接在一起。各個(gè)處理區(qū)域6. 1-6. 3,7. 1-7. 3和8. 1-8. 3設(shè)計(jì)成在結(jié)構(gòu)上相同，這樣傳遞到瓶 子2上并因此傳遞到包含在所述瓶子中的產(chǎn)品或液體產(chǎn)品的熱由噴射傳遞熱的液體介質(zhì) 影響，即使用處理或噴射液體，例如水，其中水在每種情形中在傳送帶4上方由噴射配置9 輸送并且收集在傳送帶4下面的集水池10中。每個(gè)噴射配置9具有與之相關(guān)聯(lián)的供應(yīng)管 路9. 1用于供給噴射液體或噴射水。利用不同的處理區(qū)域6、7和8并且特別是還將所述部分的子部分用于多個(gè)處理區(qū) 域中，可以以逐漸的方式將瓶子2從環(huán)境溫度加熱到低于100°C的超熱或巴氏滅菌溫度，然 后以逐漸的方式將它們冷卻回到環(huán)境溫度。尤其在處理部分6. 1-6. 3和8. 1-8. 3中，由于高濕度和優(yōu)勢(shì)溫度存在細(xì)菌污染的 實(shí)際風(fēng)險(xiǎn)，而在處理部分7. 1-7.3中，由于足夠高的溫度，這種細(xì)菌污染的風(fēng)險(xiǎn)較低。為了 避免細(xì)菌污染并且消除已經(jīng)潛在地出現(xiàn)的細(xì)菌污染，需要使用臭氧(O3)向各自的處理區(qū)域 6. 1-6. 3和8. 1-8. 3提供影響。在這種情形下，還準(zhǔn)備在這種濃度或數(shù)量或計(jì)量下提供臭氧(O3)，即在處理區(qū)域 內(nèi)部和/或外部，臭氧濃度設(shè)定為足以避免細(xì)菌污染，但是又足夠低以保證不希望的影響 例如金屬機(jī)器零件或操作元件或內(nèi)置零件的腐蝕，并且還可靠地避免了由于在工作場(chǎng)所超 過(guò)不能允許地高的臭氧濃度而對(duì)雇員和巴氏滅菌系統(tǒng)的操作人員的危險(xiǎn)。圖1中的參考數(shù)字11被給予臭氧系統(tǒng)，處理液體例如水從巴氏滅菌系統(tǒng)1供給該 臭氧系統(tǒng)，并且其中處理液體被供給臭氧這樣在臭氧系統(tǒng)11的出口處或在該位置的管路 13處，具有高臭氧濃度的處理液體可用作液體“濃縮物”即具有比實(shí)際臭氧處理提供的濃度 高幾倍的臭氧濃度。
每個(gè)管路9. 1均經(jīng)由獨(dú)立的電控的計(jì)量閥14連接至管路13，經(jīng)由該計(jì)量閥14，濃 縮物能夠以計(jì)量的方式帶離管路13并且傳送到相關(guān)管路9. 1中或所述管路中輸送的處理 液體內(nèi)。在每種情形中在通向供應(yīng)管路9. 1的連接管路14或16中為該目的而設(shè)置了計(jì)量 閥14。連接了多個(gè)測(cè)量點(diǎn)或測(cè)量傳感器18的控制單元17 (計(jì)算機(jī)和分析單元)用于各 個(gè)計(jì)量閥14的單獨(dú)致動(dòng)。所述測(cè)量點(diǎn)或測(cè)量傳感器18檢測(cè)各個(gè)處理區(qū)域6. 1-6. 3或8. 1 至8. 3中每一個(gè)中的實(shí)際臭氧濃度并且將對(duì)應(yīng)于所述濃度的測(cè)量信號(hào)作為實(shí)際值供給控 制單元17，其中所述測(cè)量信號(hào)然后對(duì)于每個(gè)處理區(qū)域6. 2-6. 3或8. 1-8. 3并行地處理或是 還連續(xù)地或是與預(yù)定的所需值比較，這樣通過(guò)以相應(yīng)的方式針對(duì)每個(gè)處理區(qū)域致動(dòng)計(jì)量閥 14，單個(gè)控制就是可能的以實(shí)現(xiàn)最佳臭氧濃度。特別是當(dāng)由各自的噴射裝置9輸送的噴霧或處理液體接觸表面時(shí)，以計(jì)量的方 式包含在所述液體中的臭氧除氣并且提供所需的清潔度/純度或在處理區(qū)域6. 1-6. 3或 8. 1-8. 3的所有表面上和它們的排出道以及巴氏滅菌系統(tǒng)的整個(gè)管路系統(tǒng)中微生物、細(xì)菌 和病毒的所需消除。另外，并未除氣的臭氧經(jīng)過(guò)處理液體進(jìn)入附加的處理區(qū)域，例如進(jìn)入處 理區(qū)域7. 1-7. 3中，然后它在其中特別是還由于那里的高溫除氣，并且其效果以相同的方 式發(fā)展。利用計(jì)量閥14，特別是在其中對(duì)于清潔和/或消毒具有特別高的要求的這種處理 區(qū)域6. 1-6. 3或8. 1-8. 3中，例如在形成容器入口 1. 1或容器出口 1. 2的處理區(qū)域6. 1或 8. 3中并且在具有低溫的處理區(qū)域中，可能會(huì)將臭氧濃度設(shè)定得高于其中對(duì)于清潔和/或 消毒并且其中較小臭氧濃度就是足夠的其它區(qū)域。單個(gè)臭氧計(jì)量的可能性意味著不僅對(duì)于 容器入口 1.1和容器出口 1.2和對(duì)于每個(gè)處理區(qū)域的最佳臭氧濃度是可能的，而且還有降 低的臭氧消耗和要求，而這伴有相當(dāng)大的成本節(jié)約。在上文已經(jīng)假定在每種情形中臭氧的計(jì)量添加是在噴射配置9的供應(yīng)管路9. 1處 實(shí)現(xiàn)的。如在巴氏滅菌系統(tǒng)的情形下，為了實(shí)現(xiàn)盡可能最佳的能量平衡，處理或噴射液體從 冷卻部分8的處理區(qū)域供給回到處理區(qū)域6. 1-6. 3并且從所述處理區(qū)域再次回到冷卻部分 8的處理區(qū)域，并且另外，噴霧和處理液體在處理區(qū)域7. 1,7. 2和7. 3自身與剩余的處理區(qū) 域之間交換，在原則上還可能將臭氧或包含高濃度臭氧的液體供給巴氏滅菌系統(tǒng)1中的其 它地點(diǎn)，例如供給集水池10或巴氏滅菌系統(tǒng)1的其它收集容器中或供給不同于管路9. 1等寸。上文已經(jīng)假定臭氧的計(jì)量添加是使用已經(jīng)添加了臭氧的液體即處理液體(例如 水)實(shí)現(xiàn)的。然而，原則上，還可以將氣體形式的臭氧導(dǎo)入處理區(qū)域中，例如利用混合噴嘴 導(dǎo)入通向處理液體的管路中或?qū)氚幚硪后w的容器等等。上文還假定臭氧的計(jì)量添加僅僅在處理區(qū)域6. 1-6. 3和8. 1-8. 3處實(shí)現(xiàn)。很明顯 地，還可以使用臭氧影響超熱部分7的處理區(qū)域7. 1-7. 3，優(yōu)選地通過(guò)使用測(cè)量傳感器18再 次以定量的方式并且優(yōu)選地以控制的方式。圖2顯示了用于清潔容器的清潔機(jī)20，例如用于清潔瓶子2，瓶子2利用外部傳送 帶(未顯示)供給機(jī)器的瓶子或容器拾取器21并且利用機(jī)器內(nèi)的輸送系統(tǒng)22移動(dòng)通過(guò)多 個(gè)處理區(qū)域，其中處理區(qū)域部分地實(shí)現(xiàn)為浸漬槽23并且部分地還實(shí)現(xiàn)為用于噴射瓶子2內(nèi) 部和外部的噴射區(qū)域24。清潔的瓶子2在容器卸料口 25處從清潔機(jī)20除去。
清潔機(jī)20的區(qū)別特征在于所述清潔機(jī)具有與之相關(guān)聯(lián)的臭氧系統(tǒng)26用于將臭氧 控制并且精確計(jì)量地輸送至清潔機(jī)20的特定區(qū)域，例如輸送至浸漬槽23的至少一個(gè)，除其 它外還用于提高包含洗液例如氫氧化鈉的所述浸漬槽的清潔效果，而且還同樣地輸送至其 它區(qū)域或處理區(qū)域用于提高清潔效果和/或用于消毒和臭氧向容器拾取器21和容器卸料 口 25的控制和精確地計(jì)量的輸送和避免在這些位置處的細(xì)菌污染。臭氧系統(tǒng)26使臭氧在其出口處可用，優(yōu)選地以氣體形式，臭氧然后經(jīng)由計(jì)量閥27 以計(jì)量的方式混合到各個(gè)處理站的處理液體，例如混合到實(shí)現(xiàn)為洗滌槽的浸漬槽23的洗 液中和/或混合到至少一個(gè)噴射站24的處理液體中和/或混合到液體處理介質(zhì)中，該液體 處理介質(zhì)并不是用于處理瓶子2的處理液體并且它用于清潔機(jī)的這種區(qū)域的臭氧處理，這 些區(qū)域位于實(shí)際處理區(qū)域的外部和/或并未由處理區(qū)域的處理液體覆蓋。這是下列情形， 例如，用容器拾取器21和容器卸料口 25，其中設(shè)有臭氧的處理介質(zhì)的輸送是經(jīng)由噴射配置 28實(shí)現(xiàn)的，這樣以所述介質(zhì)濕潤(rùn)的各個(gè)表面的臭氧處理就由從處理介質(zhì)中將臭氧除氣實(shí) 現(xiàn)。上文已經(jīng)經(jīng)由示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明。很明顯，很多修改和變換是可能的而 不會(huì)以任何方式脫離形成本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思。因此，可能例如同樣地形成臭氧系統(tǒng)26，這樣臭氧系統(tǒng)就在其出口處提供了具有 臭氧的高濃度的液體濃縮物，所述濃縮物然后經(jīng)由相關(guān)聯(lián)的計(jì)量閥27以計(jì)量的方式混合 到實(shí)際的處理液體或處理介質(zhì)中。所述濃縮物的基礎(chǔ)例如是處理區(qū)域的處理液體，該處理 液體例如是浸漬槽23之一的處理液體，或是噴射區(qū)域24之一的處理液體。參考標(biāo)記列表1 巴氏滅菌系統(tǒng)2 瓶子3 外部傳送帶4 內(nèi)部傳送帶5 外部傳送帶6 加熱部分6. 1-6. 3 加熱部分6的處理區(qū)域7 氏滅菌部分7. 1-7. 3 巴氏滅菌部分7的處理區(qū)域8 冷卻部分8. 1-8. 3 冷卻部分8的處理區(qū)域9 噴射配置9. 1 供應(yīng)管路10 集水池11 臭氧系統(tǒng)12、13 管路14 計(jì)量閥15、16 連接管路17 控制設(shè)備(計(jì)算機(jī)/分析單元)
18測(cè)量傳感器
20清潔機(jī)
21容器拾取器
22機(jī)器內(nèi)的輸送系統(tǒng)
23浸漬槽
24噴射區(qū)域
25容器卸料口
26臭氧系統(tǒng)
27計(jì)量閥
28噴射配置
29控制設(shè)備(計(jì)算機(jī)
30測(cè)量傳感器
說(shuō)明書(shū)
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權(quán)利要求
一種用形成于設(shè)備(1，20)的內(nèi)部空間中的至少一個(gè)處理區(qū)域(6.1 6.3，7.1 7.3，8.1 8.3；21，23，24，25)中的至少一種處理液體處理瓶子或類似容器(2)的設(shè)備，其特征在于，至少一個(gè)計(jì)量設(shè)備(14，17；27，29)用于臭氧進(jìn)入設(shè)備(1，20)的內(nèi)部空間和/或進(jìn)入至少一個(gè)處理區(qū)域(6.1 6.3，7.1 7.3，8.1 8.3；21，23，24，25)中的計(jì)量導(dǎo)入。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，計(jì)量設(shè)備(14，17;27，29)實(shí)現(xiàn)用于包含高 濃度臭氧的液體濃縮物向處理液體的計(jì)量添加。
3.如權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其特征在于，計(jì)量設(shè)備(14，17;27，29)實(shí)現(xiàn)用于包 含高濃度臭氧的液體濃縮物向液體處理介質(zhì)的計(jì)量添加，該液體處理介質(zhì)用于設(shè)備(1，20) 中位于至少一個(gè)處理區(qū)域(6. 1-6. 3,7. 1-7. 3,8. 1-8. 3 ；21，23，24，25)外部和/或沒(méi)有被至 少一個(gè)處理區(qū)域(6. 1-6. 3,7. 1-7. 3,8. 1-8. 3 ；21，23，24，25)覆蓋的這種區(qū)域的臭氧處理。
4.如上述權(quán)利要求之一所述的設(shè)備，其特征在于，液體濃縮物的基礎(chǔ)是至少一個(gè)處理 區(qū)域(6. 1-6. 3,7. 1-7. 3,8. 1-8. 3 ；21，23，24，25)的處理液體。
5.如上述權(quán)利要求之一所述的設(shè)備，其特征在于，計(jì)量設(shè)備具有至少一個(gè)計(jì)量閥(14， 27)，它由控制設(shè)備(17，29)優(yōu)選地控制為檢測(cè)臭氧濃度的至少一個(gè)測(cè)量傳感器(17，30)的 函數(shù)。
6.如上述權(quán)利要求之一所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備具有多個(gè)處理區(qū)域 (6. 1-6.3,7. 1-7.3,8. 1-8. 3 ;21，23，24，25)，容器(2)逐個(gè)移動(dòng)通過(guò)這些處理區(qū)域，并且處 理區(qū)域中的臭氧濃度經(jīng)由計(jì)量設(shè)備(14，17;27，29)以單獨(dú)的方式可控或可調(diào)節(jié)。
7.如上述權(quán)利要求之一所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備是用于對(duì)容器(2)中填 充的產(chǎn)品進(jìn)行巴氏滅菌或用于熱處理的巴氏滅菌系統(tǒng)(1)，所述設(shè)備具有多個(gè)處理區(qū)域 (6. 1-6.3,7. 1-7.3,8. 1-8. 3)，容器(2)在其中通過(guò)使用處理或噴射液體噴射而被加熱和 再次冷卻，且處理或噴射液體是由例如水形成的并且對(duì)于處理區(qū)域(6. 1-6.3,7. 1-7.3， 8. 1-8.3)被不同地加熱，并且利用計(jì)量設(shè)備(14，17)以計(jì)量的方式向處理或噴射液體添加 臭氧。
8.如上述權(quán)利要求之一所述的設(shè)備，其特征在于，其實(shí)施為具有多個(gè)處理區(qū)域(23， 24)的清潔機(jī)(20)，容器⑵在系統(tǒng)內(nèi)經(jīng)由輸送系統(tǒng)(22)移動(dòng)通過(guò)處理區(qū)域(23，24)，其中 實(shí)現(xiàn)計(jì)量設(shè)備(27，29)用于臭氧向至少一個(gè)處理站(23，24)的處理液體的計(jì)量混合。
9.如權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其特征在于，在容器拾取器(21)和/或容器卸料口(25) 處設(shè)置了裝置(28)用于以計(jì)量的方式輸送臭氧或包含臭氧的處理介質(zhì)和/或設(shè)置了至少 一個(gè)測(cè)量傳感器(30)用于檢測(cè)臭氧濃度。
全文摘要
一種使用形成于設(shè)備的內(nèi)部空間中的至少一個(gè)處理區(qū)域中的至少一種處理液體處理瓶子或類似容器的設(shè)備且具有至少一個(gè)計(jì)量設(shè)備用于將臭氧到機(jī)器的內(nèi)部空間和/或至少一個(gè)處理區(qū)域中的計(jì)量導(dǎo)入。
文檔編號(hào)B08B9/30GK101980800SQ200980111620
公開(kāi)日2011年2月23日 申請(qǐng)日期2009年3月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月4日
發(fā)明者A·拉特克, J-K·閔采爾 申請(qǐng)人:Khs有限責(zé)任公司