專利名稱：基板清洗裝置及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清洗分別位于玻璃基板等基板的側(cè)緣部的表側(cè)及背側(cè)的清洗面的基板清洗裝置及其方法，所述玻璃基板等例如在液晶顯示裝置及等離子顯示裝置中使用。
背景技術(shù)：
以往，在玻璃基板的制造中，如圖13所示，在形成于玻璃基板51的側(cè)緣部的多個(gè)電極52上安裝有各種構(gòu)件54。首先，如圖13 (a)所示，清洗分別位于配置有電極52的玻璃基板51的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)的清洗面(需要清洗的面)。然后，如圖13(b)所示，在電極 52上貼附各向異性導(dǎo)電膜(ACF)53。并且，如圖13(c)所示，隔著各向異性導(dǎo)電膜53向電極52熱壓接構(gòu)件54。清洗基板的側(cè)緣部的清洗面的基板清洗裝置在專利文獻(xiàn)1中被公開。所公開的基板清洗裝置在通過按壓構(gòu)件將布制的清洗帶按壓到基板的側(cè)緣部上的狀態(tài)下，使基板沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)。由此，基板的側(cè)緣部的清洗面由清洗帶清洗。參照?qǐng)D14說明所公開的基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)。該基板清洗裝置具有使基板61 移動(dòng)的基板移動(dòng)裝置62、清洗基板61的清洗裝置63?；逡苿?dòng)裝置62從下方支承基板61 的中央部分。此外，基板移動(dòng)裝置62使基板61沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)。相對(duì)于清洗裝置63的清洗部64，基板61通過基板移動(dòng)裝置62被定位在與該基板61的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向上。清洗裝置63在其清洗部64上具有分別配置在基板61的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)的按壓構(gòu)件65a、65b。所述按壓構(gòu)件65a、65b向基板61的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)按壓清洗帶66。清洗帶66在基板61的側(cè)緣部被清洗前由引導(dǎo)輥68從供給卷盤67a(67b)引導(dǎo)而朝向按壓構(gòu)件65a(65b)與基板61的側(cè)緣部之間移動(dòng)規(guī)定的輸送量。在清洗帶66移動(dòng)前，向通過清洗帶66的移動(dòng)而在按壓構(gòu)件65a (65b)與基板61的側(cè)緣部之間移動(dòng)的清洗帶66的部分噴出清洗劑。完成清洗的清洗帶66的部分通過引導(dǎo)輥68引導(dǎo)并最終卷取到回收輥69a(69b)。此外，基板清洗裝置根據(jù)傳感器70檢測(cè)的清洗帶66的表面的顏色確認(rèn)向清洗帶66噴出了適量的清洗劑。然而，該基板清洗裝置對(duì)基板61的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)各自的清洗面各使用一個(gè)清洗帶66。因此，清洗帶的帶路徑設(shè)有兩個(gè)，從而使基板清洗裝置大型化。此外，僅清洗帶66的一側(cè)的拂拭面用于清洗。因此，對(duì)基板的側(cè)緣部清洗的成本高。在專利文獻(xiàn)2中公開了能夠解決該問題的基板清洗裝置。該基板清洗裝置通過清洗帶的一側(cè)的拂拭面清洗基板的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面，通過另一側(cè)的拂拭面清洗該側(cè)緣部的背側(cè)的清洗面。為了實(shí)現(xiàn)上述功能，在從表側(cè)的清洗面至背側(cè)的清洗面的中途使清洗帶扭轉(zhuǎn)180度。在專利文獻(xiàn)3中公開了與此不同的使清洗帶扭轉(zhuǎn)180度的基板清洗裝置。該基板清洗裝置將基板的表側(cè)或背側(cè)的任一側(cè)的清洗面清洗兩次。第一次的清洗通過清洗帶的一側(cè)的拂拭面執(zhí)行，第二次的清洗通過另一側(cè)的拂拭面執(zhí)行。因此，清洗帶被扭轉(zhuǎn)了 180度。
專利文獻(xiàn)1日本專利第3503512號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本專利第4114416號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3日本國(guó)際公開2006/106803號(hào)小冊(cè)子然而，在專利文獻(xiàn)2或?qū)＠墨I(xiàn)3中公開的基板清洗裝置中，清洗帶扭轉(zhuǎn)了 180 度。因此，存在清洗帶上產(chǎn)生扭痕、扭轉(zhuǎn)的狀態(tài)的清洗帶可能沒有適當(dāng)?shù)厍逑辞逑疵娴膯栴}。即，存在發(fā)生清洗不良的可能性。若發(fā)生清洗不良的情況，則基板的側(cè)緣部的清洗成本當(dāng)然變高。另外，可以考慮在不扭轉(zhuǎn)清洗帶的情況下通過一個(gè)清洗帶的僅一側(cè)的拂拭面清洗基板的側(cè)緣部的表側(cè)及背側(cè)各自的清洗面。然而，這種情況下，清洗帶的消耗量增加，即清洗帶的更換頻率增加，其結(jié)果是，清洗成本變高。因此，為了解決上述問題，本發(fā)明的目的在于，在不將清洗帶扭轉(zhuǎn)180度的情況下通過在清洗中使用該清洗帶的兩個(gè)拂拭面來適當(dāng)?shù)厍逑捶謩e基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)和背側(cè)的清洗面，且抑制其清洗成本。此外，近年來，液晶顯示裝置及等離子顯示裝置大型化，因此玻璃基板大型化。在處理大型的玻璃基板的情況下，需要利用使玻璃基板沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)的大型的裝置，因此，使清洗帶移動(dòng)這種方法能夠降低清洗成本因而優(yōu)選。為此，需要準(zhǔn)備下述裝置，該裝置中，清洗帶、將清洗帶按壓到基板上的按壓構(gòu)件及清洗帶的輸送裝置等作為一個(gè)單元構(gòu)成，該裝置使該單元沿基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)。此時(shí)，該單元特別是為了降低清洗成本，具體而言為了縮短清洗時(shí)間，以例如300 500mm/s的速度移動(dòng)，為此其優(yōu)選緊湊地構(gòu)成。這是因?yàn)?，若單元的尺寸大，則單元的起動(dòng)、 加速、減速及停止需要大的能量。因此，本發(fā)明的目的還在于，構(gòu)成包括清洗帶的、能夠沿基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向高速地移動(dòng)的緊湊的單元，通過該單元縮短清洗時(shí)間，從而抑制基板的側(cè)緣部的清洗成本。 特別是以抑制大型基板的清洗成本。

發(fā)明內(nèi)容
為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明如以下這樣構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明的第一方案，提供一種基板清洗裝置，其通過具備第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗帶來清洗基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)的第一清洗面和位于背側(cè)的第二清洗面，所述基板清洗裝置具有第一按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第一清洗面上；第二按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第二清洗面上；帶路徑形成構(gòu)件，其形成通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間以及第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間的清洗帶的帶路徑；帶供給裝置，其向帶路徑供給清洗帶；帶回收裝置，其從帶路徑回收清洗帶；帶驅(qū)動(dòng)裝置，其驅(qū)動(dòng)清洗帶；清洗劑噴出裝置，其向清洗帶噴出清洗劑；移動(dòng)裝置，其使清洗帶和基板沿該基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向相對(duì)移動(dòng)，
帶路徑包括第一路徑，其使清洗帶以第一拂拭面與第一清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間；第二路徑，其使通過第一路徑后的清洗帶翻轉(zhuǎn)，以使第二拂拭面與基板的背側(cè)對(duì)置；第三路徑，其使通過第二路徑后的清洗帶以第二拂拭面與第二清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與第一路徑的清洗帶的通過方向相同的方向通過第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間。根據(jù)本發(fā)明的第二方案，提供一種基板清洗裝置，通過具備第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗帶來清洗基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)的第一清洗面和位于背側(cè)的第二清洗面，所述基板清洗裝置具有第一按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第一清洗面上；第二按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第二清洗面上；帶路徑形成構(gòu)件，其形成通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間以及第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間的清洗帶的帶路徑；帶供給裝置，其向帶路徑供給清洗帶；帶回收裝置，其從帶路徑回收清洗帶；帶驅(qū)動(dòng)裝置，其驅(qū)動(dòng)清洗帶；清洗劑噴出裝置，其向清洗帶噴出清洗劑；移動(dòng)裝置，其使清洗帶和基板沿該基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向相對(duì)移動(dòng)，帶路徑包括第一路徑，其使清洗帶以第一拂拭面與第一清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間；第二路徑，其使通過第一路徑后的清洗帶翻轉(zhuǎn)，以使第二拂拭面與基板的背側(cè)對(duì)置；第三路徑，其使通過第二路徑后的清洗帶以第二拂拭面與第二清洗面對(duì)置的狀態(tài)通過第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間，帶供給裝置具有卷繞清洗帶的供給卷盤，帶回收裝置具有卷取清洗帶而將其回收的回收卷盤，供給卷盤與回收卷盤并列設(shè)置。根據(jù)本發(fā)明的第三方案，在第二方案所述的基板清洗裝置的基礎(chǔ)上，第三路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使清洗帶沿與第一路徑上的清洗帶的通過方向相同的方向通過。根據(jù)本發(fā)明的第四方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗裝置的基礎(chǔ)上，帶路徑形成構(gòu)件形成包括第四路徑的帶路徑或包括第五路徑的帶路徑，所述第四路徑從第三路徑通過第二路徑的清洗帶的寬度方向的側(cè)方從而繞過該第二路徑而到達(dá)帶回收裝置，所述第五路徑從帶供給裝置通過第二路徑的清洗帶的寬度方向的側(cè)方從而繞過該第二路徑而到達(dá)第一路徑。根據(jù)本發(fā)明的第五方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗裝置的基礎(chǔ)上，具有至少包括帶供給裝置、第一按壓構(gòu)件及第二按壓構(gòu)件以及帶路徑形成構(gòu)件且以能夠裝卸的方式安裝在基板清洗裝置的主體上的清洗單元，
在基板清洗裝置的主體上具有驅(qū)動(dòng)帶供給裝置的驅(qū)動(dòng)裝置、驅(qū)動(dòng)第一按壓構(gòu)件及第二按壓構(gòu)件的驅(qū)動(dòng)裝置。根據(jù)本發(fā)明的第六方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗裝置的基礎(chǔ)上，第二路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使清洗帶沿著帶供給裝置的周圍翻轉(zhuǎn)。根據(jù)本發(fā)明的第七方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗裝置的基礎(chǔ)上，第一路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使清洗帶沿從帶供給裝置離開的方向通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間，第二路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使通過第一路徑后的清洗帶沿著帶供給裝置的周圍翻轉(zhuǎn)，第三路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使清洗帶沿與清洗帶第一路徑上的清洗帶的通過方向相同的方向通過。根據(jù)本發(fā)明的第八方案，在第一方案至第三方案中的任一方案所述的基板清洗裝置的基礎(chǔ)上，具有控制裝置，其控制帶驅(qū)動(dòng)裝置對(duì)清洗帶的輸送量；污濁檢測(cè)裝置，其檢測(cè)通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間以后的清洗帶的第二拂拭面的污濁，控制裝置以使由污濁檢測(cè)裝置檢測(cè)到規(guī)定以上的污濁的第二拂拭面的部分跳過第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間的方式控制清洗帶的輸送量。根據(jù)本發(fā)明的第九方案，在第八方案所述的基板清洗裝置的基礎(chǔ)上，在由控制裝置控制的跳過的執(zhí)行頻率達(dá)到規(guī)定的頻率以上時(shí)進(jìn)行警告通知。根據(jù)本發(fā)明的第十方案，提供一種基板清洗方法，通過具備第一拂拭面和第二拂拭面且含浸有清洗劑的布制的清洗帶來清洗基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)的第一清洗面和位于背側(cè)的第二清洗面，其中，在維持由第一按壓構(gòu)件將清洗帶按壓到第一清洗面上的狀態(tài)以及由第二按壓構(gòu)件將清洗帶按壓到第二清洗面上的狀態(tài)的同時(shí)，使清洗帶和基板沿該基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向相對(duì)移動(dòng)，從而清洗第一及第二清洗面，以如下方式驅(qū)動(dòng)清洗帶，使清洗帶以第一拂拭面與基板的第一清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間，然后使清洗帶翻轉(zhuǎn)從而使第二拂拭面與基板的背側(cè)對(duì)置，接著使清洗帶以第二拂拭面與第二清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與第一按壓構(gòu)件和第一清洗面之間的清洗帶的通過方向相同的方向通過第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間。根據(jù)本發(fā)明的第十一方案，提供一種基板清洗裝置，通過具備第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗帶來清洗基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)的第一清洗面和位于背側(cè)的第二清洗面，所述基板清洗裝置具有第一按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第一清洗面上；第二按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第二清洗面上；帶路徑形成構(gòu)件，其形成通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間以及第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間的清洗帶的帶路徑；
帶供給裝置，其向帶路徑供給清洗帶；帶回收裝置，其從帶路徑回收清洗帶；帶驅(qū)動(dòng)裝置，其驅(qū)動(dòng)清洗帶；以及清洗單元，其包括向清洗帶噴出清洗劑的清洗劑噴出裝置；清洗單元移動(dòng)裝置，其使清洗單元沿基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，帶供給裝置具有卷繞清洗帶的供給卷盤，帶回收裝置具有卷取清洗帶而將其回收的回收卷盤，供給卷盤與回收卷盤并列設(shè)置。根據(jù)本發(fā)明的第十二方案，在第十一方案所述的基板清洗裝置的基礎(chǔ)上，清洗單元移動(dòng)裝置構(gòu)成為使以能夠裝卸的方式安裝的清洗單元移動(dòng)。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，通過在不使清洗帶翻轉(zhuǎn)180度的情況下將該清洗帶的兩個(gè)拂拭面用于清洗，從而能夠適當(dāng)?shù)厍逑椿宓膫?cè)緣部的分別位于表側(cè)和背側(cè)的清洗面，且能夠抑制其清洗成本。此外，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供以并列設(shè)置的狀態(tài)具備供給卷盤和回收卷盤從而緊湊地構(gòu)成的能夠高速移動(dòng)的清洗單元。利用該清洗單元，清洗時(shí)間縮短，且能夠抑制基板的側(cè)緣部的清洗成本。此外，在大型基板的情況下，清洗時(shí)間縮短，無需采用使大型基板沿其側(cè)緣部移動(dòng)的大型的裝置，由此能夠進(jìn)一步抑制清洗成本。


根據(jù)附圖所涉及的優(yōu)選實(shí)施方式所關(guān)聯(lián)的以下記述能夠明確本發(fā)明的這些形態(tài)和特征。圖1是本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置的示意性的立體圖。圖2是將圖1的局部放大圖。圖3中，(a)是該實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置的示意性的側(cè)視圖，(b)是基板清洗裝置的清洗部的側(cè)視圖。圖4是該實(shí)施方式的清洗部的立體圖。圖5是該實(shí)施方式的清洗部的側(cè)視圖。圖6是該實(shí)施方式的使清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置和回收卷盤同步的連動(dòng)機(jī)構(gòu)的示意圖。圖7是該實(shí)施方式的驅(qū)動(dòng)按壓構(gòu)件的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的示意圖。圖8是表示該實(shí)施方式的基板清洗的流程的圖。圖9是該實(shí)施方式的變形例的示意性的立體圖。圖10是本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置的示意性的立體圖。圖11是本發(fā)明的第三實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置的示意性的立體圖。圖12中，(a)是本發(fā)明的第四實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置的示意性的立體圖，(b)是本發(fā)明的第四實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置的變形例的示意性的立體圖。圖13是用于說明對(duì)玻璃基板進(jìn)行構(gòu)件安裝的圖。圖14是現(xiàn)有例的基板清洗裝置的示意性的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式以下，參照?qǐng)D1 圖12對(duì)本發(fā)明所涉及的、清洗分別位于液晶顯示裝置的玻璃基板的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)的清洗面的基板清洗裝置進(jìn)行說明。(第一實(shí)施方式)首先，參照?qǐng)D1 圖8對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置進(jìn)行說明。 圖1所示的基板清洗裝置具有將基板1搬入基板清洗裝置的基板搬送裝置2 ；使由基板搬送裝置2接受的基板1移動(dòng)的基板移動(dòng)裝置3 ；清洗分別位于基板1的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)的清洗面(需要清洗的面)la、lb(參照?qǐng)D4、圖5)的清洗機(jī)構(gòu)4。它們配設(shè)在基臺(tái)5上。 需要說明的是，完成清洗的基板1由設(shè)置在ACF貼附裝置(未圖示)上的類似于基板搬送裝置2的基板搬送裝置(未圖示)從基板清洗裝置搬出并向該ACF貼附裝置搬入。基板搬送裝置2具有具備載置有基板1的一對(duì)支承臂6a、6a的叉狀件6 ；使叉狀件6沿基板搬送方向(X方向)移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)7。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)7具有引導(dǎo)叉狀件6的軌道 7a ；通過被電動(dòng)機(jī)7c驅(qū)動(dòng)而使叉狀件6移動(dòng)的進(jìn)給絲杠機(jī)構(gòu)7b?；逡苿?dòng)裝置3具有保持基板1的實(shí)質(zhì)上為中央處的基板保持機(jī)構(gòu)8 ；使基板保持機(jī)構(gòu)8沿X軸方向及與該X軸方向正交的Y軸方向平行移動(dòng)且使其以Z軸為中心地旋轉(zhuǎn)的移動(dòng)/旋轉(zhuǎn)臺(tái)9。該基板移動(dòng)裝置3在清洗開始前通過移動(dòng)/旋轉(zhuǎn)臺(tái)9將分別位于基板 1的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)的清洗面的長(zhǎng)度方向(X軸方向)一端定位于清洗機(jī)構(gòu)4的清洗部 10。在清洗中，基板移動(dòng)裝置3通過移動(dòng)/旋轉(zhuǎn)臺(tái)9使基板1沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)。 由此，清洗機(jī)構(gòu)4的清洗部10從清洗面的一端至另一端地清洗該清洗面。如圖2 圖5所示，清洗機(jī)構(gòu)4的清洗部10具有按壓構(gòu)件11a、lib (第一及第二按壓構(gòu)件)。按壓構(gòu)件Ila與處于被基板保持機(jī)構(gòu)8保持的狀態(tài)下的基板1的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面Ia對(duì)置，按壓構(gòu)件lib與背側(cè)的清洗面Ib對(duì)置。按壓構(gòu)件Ila將清洗帶12按壓到清洗面Ia上。此外，按壓構(gòu)件lib將清洗帶12按壓到清洗面Ib上。另外，基板1的電極t配設(shè)在基板1的表側(cè)的清洗面la(參照?qǐng)D4)上。按壓構(gòu)件IlaUlb分別具有在與基板1對(duì)置的對(duì)置面(與清洗帶12接觸的面)13上沿與基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向(Y軸方向)延伸的突起13a (參照?qǐng)D4)。該突起13a構(gòu)成為，在基板1沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向(X軸方向)移動(dòng)時(shí)，以使清洗帶12不與基板1 一同沿該長(zhǎng)度方向移動(dòng)的方式將該清洗帶12卡止。此外，按壓構(gòu)件IlaUlb分別在對(duì)置面13上具備引導(dǎo)清洗帶12的傾斜的引導(dǎo)面14。需要說明的是，按壓構(gòu)件IlaUlb優(yōu)選由耐藥性及滑動(dòng)性優(yōu)良的聚甲醛(POM)等材料制作。清洗帶輸送機(jī)構(gòu)15是使清洗帶12在按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間及按壓構(gòu)件 lib與清洗面Ib之間間歇性地移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。此外，清洗帶輸送機(jī)構(gòu)15是供給清洗帶12的裝置的一部分，是從卷繞有清洗帶12的供給卷盤16回收清洗帶12的裝置的一部分，也是朝向卷取清洗帶12而將其回收的回收卷盤20輸送清洗帶12的機(jī)構(gòu)。該清洗帶輸送機(jī)構(gòu) 15向與基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向輸送清洗帶12。清洗帶輸送機(jī)構(gòu)15具有清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17。清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17具有驅(qū)動(dòng)清洗帶12的驅(qū)動(dòng)輥17a ；將清洗帶12按壓到驅(qū)動(dòng)輥17a上的夾帶輥17b。清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17 在清洗開始前從供給卷盤16引出清洗帶12，使清洗帶12移動(dòng)規(guī)定的移動(dòng)量(輸送量)。
清洗帶輸送機(jī)構(gòu)15還具有形成清洗帶12的帶路徑的帶路徑形成構(gòu)件18，該清洗帶12的帶路徑從供給卷盤16通過按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間和按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間而到達(dá)回收卷盤20。帶路徑形成構(gòu)件18由多個(gè)引導(dǎo)輥18a 18h構(gòu)成。如圖3 (b)所示，該帶路徑形成構(gòu)件18形成如下路徑(第一路徑)，即，使清洗帶12 在一側(cè)的拂拭面12a (第一拂拭面)與基板1的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面Ia對(duì)置的狀態(tài)下沿從按壓構(gòu)件Ila的基板中央側(cè)端Ilaa到達(dá)基板中央相反側(cè)端Ilab的方向地通過按壓構(gòu)件 Ila與清洗面Ia之間。此外，如圖2所示，帶路徑形成構(gòu)件18形成如下的翻轉(zhuǎn)路徑19 (第二路徑)，即，使通過按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間后的清洗帶12(嚴(yán)密地說為清洗帶12的一部分)以另一側(cè)的拂拭面12b與基板1的背側(cè)對(duì)置的方式翻轉(zhuǎn)(loop)。進(jìn)而，帶路徑形成構(gòu)件18形成如下路徑(第三路徑)，即，使翻轉(zhuǎn)后的清洗帶12 (嚴(yán)密地說為清洗帶12的一部分)在拂拭面12b與清洗面Ib對(duì)置的狀態(tài)下沿從按壓構(gòu)件lib的基板中央側(cè)端Ilba 到達(dá)基板中央相反側(cè)端Ilbb的方向通過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間。通過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間的清洗帶12(嚴(yán)密地說為清洗帶12的一部分)最終到達(dá)回收卷盤20。需要說明的是，在翻轉(zhuǎn)路徑19存在于從按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間至回收卷盤20的直線上的情況下，帶路徑形成構(gòu)件18形成如下路徑(第四路徑)，即，從按壓構(gòu)件 lib與清洗面Ib之間通過翻轉(zhuǎn)路徑19的清洗帶寬度方向的側(cè)方，由此繞過翻轉(zhuǎn)路徑19而到達(dá)回收卷盤20。由此，避免清洗帶12的帶路徑的交叉?；蛘撸诜D(zhuǎn)路徑19存在于從供給卷盤16至按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間的直線上的情況下，帶路徑形成構(gòu)件18形成如下路徑(第五路徑)，即，從供給卷盤16通過翻轉(zhuǎn)路徑19的清洗帶寬度方向的側(cè)方，由此繞過翻轉(zhuǎn)路徑19而到達(dá)按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia 之間。由此，避免清洗帶12的帶路徑的交叉。在本實(shí)施方式中，通過在單元框架22上設(shè)置供給卷盤16、清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17、按壓構(gòu)件11a、lib、帶路徑形成構(gòu)件18 (多個(gè)引導(dǎo)輥18a 18h)，及回收卷盤20，從而構(gòu)成一個(gè)清洗單元21。如向圖1或圖2的箭頭A方向觀察到的圖7所示，該清洗單元21能夠裝卸地安裝在設(shè)置于基臺(tái)5上的清洗機(jī)構(gòu)4的主體4a上(如盒式錄音帶那樣構(gòu)成)。因此，如圖1、圖2及圖7所示，在主體4a上設(shè)置有保持單元框架22的單元固定構(gòu)件23，該框架22 將清洗單元21固定在主體4a的規(guī)定的位置上。此外，供給卷盤16與回收卷盤20以各自的旋轉(zhuǎn)中心線實(shí)質(zhì)上一致的方式并列設(shè)置。需要說明的是，在本說明書中言及的“旋轉(zhuǎn)中心線實(shí)質(zhì)上一致”這一表述的意思是，供給卷盤16與回收卷盤20各自的旋轉(zhuǎn)中心線處于同一直線上或以隔開比一方的卷盤的半徑小的間隔的方式平行。需要說明的是，該表述并非限定為通用的軸支承兩個(gè)卷盤16、 20的情況。此外，該表述并非限定為兩個(gè)卷盤16、20的旋轉(zhuǎn)方向相同。如圖6所示，清洗單元21具有使清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17與回收卷盤20同步動(dòng)作的連動(dòng)機(jī)構(gòu)24。該連動(dòng)機(jī)構(gòu)24由設(shè)置在清洗機(jī)構(gòu)4的主體4a上的驅(qū)動(dòng)工作缸25驅(qū)動(dòng)。連動(dòng)機(jī)構(gòu)24具有包括L字形狀的擺動(dòng)桿26的連桿機(jī)構(gòu)30，該擺動(dòng)桿26具備垂直臂26a和水平臂26b。擺動(dòng)桿266以能夠以回收卷盤20的旋轉(zhuǎn)中心線為中心地自由擺動(dòng)的方式裝入到連桿機(jī)構(gòu)30內(nèi)。該擺動(dòng)桿26通過由驅(qū)動(dòng)工作缸25使垂直臂26a的前端移動(dòng)而進(jìn)行擺動(dòng)。此外，對(duì)垂直臂26a的前端朝向活塞桿的前端25a施力的彈簧27裝入在連桿機(jī)構(gòu)30內(nèi)。通過該彈簧27維持垂直臂^a的前端與活塞桿的前端25a的接觸。擺動(dòng)桿 26的水平臂26b在其前端經(jīng)由連桿觀與輸送臂四的前端連結(jié)。該輸送臂四以能夠以清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17的驅(qū)動(dòng)輥17a的旋轉(zhuǎn)中心線為中心地自由擺動(dòng)的方式裝入到連桿機(jī)構(gòu)30 內(nèi)。連桿機(jī)構(gòu)30還具有回收臂31。回收臂31以能夠以回收卷盤20的旋轉(zhuǎn)中心線為中心地自由擺動(dòng)的方式裝入到連桿機(jī)構(gòu)30內(nèi)。此外，回收臂31在其前端經(jīng)由彈簧32與擺動(dòng)桿26的水平臂26b連結(jié)。進(jìn)而，回收臂31經(jīng)由棘爪機(jī)構(gòu)33與回收卷盤20連結(jié)。同樣地，輸送臂四經(jīng)由棘爪機(jī)構(gòu)34與驅(qū)動(dòng)輥17a連結(jié)。參照?qǐng)D6說明連動(dòng)機(jī)構(gòu)M的動(dòng)作。在清洗開始前，通過使驅(qū)動(dòng)工作缸25的活塞桿前進(jìn)，從而使擺動(dòng)桿沈向逆時(shí)針方向擺動(dòng)。在活塞桿的前進(jìn)結(jié)束后，活塞桿后退或成為自由狀態(tài)。由此，擺動(dòng)桿沈被彈簧27 牽引而向順時(shí)針方向擺動(dòng)。當(dāng)擺動(dòng)桿26向順時(shí)針方向擺動(dòng)時(shí)，回收臂31經(jīng)由彈簧32向順時(shí)針方向擺動(dòng)。利用回收臂31的順時(shí)針方向的擺動(dòng)，回收卷盤20經(jīng)由棘爪機(jī)構(gòu)33旋轉(zhuǎn)。 并且，回收卷盤20卷取與擺動(dòng)桿沈的順時(shí)針方向的擺動(dòng)量對(duì)應(yīng)的量的清洗帶12。當(dāng)擺動(dòng)桿沈向順時(shí)針方向擺動(dòng)時(shí)，輸送臂四經(jīng)由連桿觀向逆時(shí)針方向擺動(dòng)。當(dāng)輸送臂四向逆時(shí)針方向擺動(dòng)時(shí)，驅(qū)動(dòng)輥17a經(jīng)由棘爪機(jī)構(gòu)33向逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。并且，驅(qū)動(dòng)輥17a與夾帶輥17b配合動(dòng)作而使夾持的清洗帶12移動(dòng)與擺動(dòng)桿沈的順時(shí)針方向的擺動(dòng)量對(duì)應(yīng)的量。如圖7所示，按壓構(gòu)件11a、lib經(jīng)由安裝塊37a、37b固定在可動(dòng)體36a、36b上，該可動(dòng)體36a、36b沿著設(shè)置在單元框架22上的導(dǎo)軌35在Z軸方向上自由移動(dòng)。此外，彈簧 38配置在安裝塊37a、37b之間。進(jìn)而，設(shè)置防止可動(dòng)體36^3 從導(dǎo)軌35脫落的限動(dòng)件 39a、39b?？蓜?dòng)體36a、36b具備貫通單元框架22延伸的操作桿40a、40b。通過由設(shè)置在清洗機(jī)構(gòu)4的主體如上的驅(qū)動(dòng)工作缸41a、41b的活塞桿的前端42a、42b對(duì)操作桿40a、40b的前端進(jìn)行操作，從而所述的可動(dòng)體36a、36b被驅(qū)動(dòng)。通過驅(qū)動(dòng)工作缸41a、41b對(duì)操作桿40a、40b進(jìn)行操作，從而調(diào)節(jié)按壓構(gòu)件Ila將清洗帶12按壓到清洗面Ia上的力和按壓構(gòu)件lib將清洗帶12按壓到清洗面Ib上的力。 若以相同的控制來控制驅(qū)動(dòng)工作缸41a、41b，則按壓構(gòu)件Ila經(jīng)由清洗帶12按壓清洗面Ia 的力與按壓構(gòu)件lib經(jīng)由清洗帶12按壓清洗面Ib的力相等。若以這種方式維持按壓力相等的狀態(tài)并通過基板移動(dòng)裝置3使基板1沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，則由清洗帶12同等程度地清洗清洗面la、lb。另外，優(yōu)選通過驅(qū)動(dòng)工作缸41a、41b和彈簧38能夠使按壓構(gòu)件 IlaUlb在基板1向其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向的移動(dòng)中經(jīng)由清洗帶12與基板1的側(cè)緣部持續(xù)接觸。此外，如圖2 圖4所示，在比按壓構(gòu)件11a、lib的引導(dǎo)面14 (參照?qǐng)D4)靠上游側(cè)的清洗帶12的部分設(shè)置有噴出乙醇、異丙醇等揮發(fā)性清洗劑的清洗劑噴出噴嘴43a、43b。 清洗劑在清洗帶12即將移動(dòng)前，通過泵(未圖示)從箱(未圖示)經(jīng)由管(未圖示)向清洗劑噴出噴嘴43a、4!3b輸送，并從清洗劑噴出噴嘴43a、4!3b朝向清洗帶12噴出。噴出有清洗劑的清洗帶12的部分47的顏色發(fā)生變化。檢測(cè)該清洗帶12的顏色的顏色檢測(cè)傳感器44a、44b設(shè)置在能夠檢測(cè)噴出有清洗劑的清洗帶12的部分47的顏色的位置。此外，如圖2、圖3(a)所示，檢測(cè)清洗帶12的污濁的污濁檢測(cè)傳感器45配置在形成翻轉(zhuǎn)路徑19的引導(dǎo)輥18d與18e之間。即，污濁檢測(cè)傳感器45對(duì)通過按壓構(gòu)件Ila與基板1的清洗面Ia之間以后且通過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間以前的、清洗帶12的拂拭面12b上的污濁進(jìn)行檢測(cè)?？刂蒲b置46配置在基臺(tái)5內(nèi)。控制裝置46構(gòu)成為控制基板搬送裝置2、基板移動(dòng)裝置3、清洗機(jī)構(gòu)4的驅(qū)動(dòng)工作缸25、41a、41b及清洗劑的泵(未圖示)?？刂蒲b置46根據(jù)顏色檢測(cè)傳感器44a、44b的檢測(cè)信號(hào)確認(rèn)對(duì)清洗帶12的清洗劑的噴出量。并且，控制裝置46根據(jù)確認(rèn)結(jié)果來控制泵(未圖示)，由此調(diào)節(jié)清洗劑的噴出量。此外，控制裝置46根據(jù)污濁檢測(cè)傳感器45的檢測(cè)信號(hào)判定清洗帶12的污濁是否為規(guī)定以上的污濁。在為規(guī)定以上的污濁時(shí)，控制裝置46對(duì)驅(qū)動(dòng)工作缸25進(jìn)行控制以使清洗帶12的拂拭面12b的被檢測(cè)出規(guī)定以上的污濁的部分跳過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib 之間。并且，控制裝置46構(gòu)成為當(dāng)跳過的執(zhí)行頻率(例如，單位規(guī)定時(shí)間的跳過執(zhí)行次數(shù)) 超過規(guī)定的頻率時(shí)進(jìn)行警告通知。接下來，主要參照?qǐng)D8、輔助參照?qǐng)D1 圖5對(duì)通過基板清洗裝置清洗分別位于基板1的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)的清洗面的流程進(jìn)行說明。首先，基板1通過基板搬送裝置2被搬入基板清洗裝置，并被安置于基板移動(dòng)裝置 3的基板保持機(jī)構(gòu)8。然后，通過基板移動(dòng)裝置3使基板1的側(cè)緣部(清洗面的長(zhǎng)度方向一端)在按壓構(gòu)件IlaUlb之間定位(步驟Si)。需要說明的是，此時(shí)，按壓構(gòu)件Ila與lib 分離而空出超過基板1的側(cè)緣部的厚度的距離。從清洗劑噴出噴嘴43a、43b向清洗帶12噴出規(guī)定量的清洗劑。(步驟S2)。另外，在清洗劑噴出后，通過顏色檢測(cè)傳感器44a、44b檢測(cè)被噴出清洗劑的清洗帶12的部分 47并確認(rèn)向清洗帶12噴出了規(guī)定量的清洗劑。通過驅(qū)動(dòng)工作缸25使清洗帶12移動(dòng)規(guī)定的輸送量。由此，在按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間及按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間配置噴出有清洗劑的清洗帶12的部分(步馬聚S3) ο確認(rèn)完成了基板1的定位和清洗帶12的移動(dòng)(步驟S4)。如圖5所示，通過驅(qū)動(dòng)工作缸41a、41b使按壓構(gòu)件IlaUlb將清洗帶12按壓到基板1的側(cè)緣部。由此，維持清洗帶12的拂拭面12a與基板1的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面Ia 接觸的狀態(tài)，并維持拂拭面12b與背側(cè)的清洗面Ib接觸的狀態(tài)(步驟S5)。通過基板移動(dòng)裝置3使基板1沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)。由此，清洗帶12的拂拭面12a從位于基板1的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面Ia的一端至另一端地對(duì)該清洗面Ia進(jìn)行清洗。與此同時(shí)，清洗帶12的拂拭面12b從位于基板1的側(cè)緣部的背側(cè)的清洗面Ib的一端至另一端地對(duì)該清洗面Ib進(jìn)行清洗(步驟S6)。需要說明的是，也可以通過使基板1沿長(zhǎng)度方向至少進(jìn)行一次往復(fù)動(dòng)作而將基板1的側(cè)緣部的清洗面la、lb清洗。在清洗完成后，通過驅(qū)動(dòng)工作缸41a、41b使按壓構(gòu)件IlaUlb向從基板1離開的方向移動(dòng)(步驟S7)。通過基板移動(dòng)裝置3使基板1以基板1的側(cè)緣部從按壓構(gòu)件IlaUlb之間移出的方式移動(dòng)。然后，通過ACF貼附裝置的基板搬送裝置(未圖示)使基板1從基板清洗裝置搬出(步驟S8)。判定通過ACF貼附裝置的基板搬送裝置(未圖示)搬出的基板1是否為組內(nèi)的最后的基板(步驟S16)。當(dāng)為最后的基板時(shí)結(jié)束，否則返回步驟Si。另外，在基板1上存在多個(gè)需要清洗的側(cè)緣部時(shí)(例如，基板為長(zhǎng)方形，四個(gè)側(cè)緣部需要清洗時(shí))，在執(zhí)行步驟S16前，判定是否完成了全部側(cè)緣部的清洗。在完成時(shí)進(jìn)入步驟S16。否則，通過基板移動(dòng)裝置3使未清洗的側(cè)緣部對(duì)位到按壓構(gòu)件IlaUlb之間，并返回步驟S2。在清洗帶的規(guī)定輸送量的移動(dòng)開始前或完成后(步驟S3即將開始前或完成后)， 由污濁檢測(cè)傳感器45檢測(cè)清洗帶12的拂拭面12b的污濁(步驟S10)。污濁檢測(cè)傳感器45的污濁檢測(cè)結(jié)果的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)到存儲(chǔ)裝置(未圖示)中(步驟 Sll)。該存儲(chǔ)裝置存儲(chǔ)有清洗帶12的多個(gè)部分(以規(guī)定的輸送量間隔劃分的多個(gè)部分) 各自的污濁檢測(cè)結(jié)果的數(shù)據(jù)。在清洗帶12進(jìn)行規(guī)定輸送量的移動(dòng)前(步驟S3開始前)，對(duì)在執(zhí)行清洗帶12的規(guī)定輸送量的移動(dòng)后位于按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間的清洗帶12的部分判定污濁是否為規(guī)定以上的污濁(步驟SU)。該判定根據(jù)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)裝置中的清洗帶12的多個(gè)部分各自的污濁檢測(cè)結(jié)果的數(shù)據(jù)來執(zhí)行。在清洗帶12進(jìn)行規(guī)定輸送量的移動(dòng)后位于按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間的清洗帶12的部分的污濁不超過規(guī)定時(shí)，進(jìn)入步驟S4。另一方面，當(dāng)在清洗帶12進(jìn)行規(guī)定輸送量的移動(dòng)后(步驟S3執(zhí)行后)位于按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間的清洗帶12的部分的污濁為規(guī)定以上時(shí)，通過驅(qū)動(dòng)工作缸25使清洗帶12移動(dòng)規(guī)定量(步驟Si； )。由此，在執(zhí)行步驟S3后，帶有規(guī)定以上的污濁的清洗帶 12的部分不位于按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間(其結(jié)果是，清洗帶12的帶有規(guī)定以上的污濁的部分跳過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間)。判定跳過的執(zhí)行頻率是否為規(guī)定的頻率(例如，單位規(guī)定時(shí)間的跳過執(zhí)行次數(shù)) 以上(步驟S14)。在不為規(guī)定的頻率以上時(shí)，返回步驟S12。另一方面，當(dāng)為規(guī)定的頻率以上時(shí)，進(jìn)行警告通知(步驟S15)。通過該警告通知，作業(yè)者可知清洗帶12發(fā)生故障。例如， 作業(yè)者能夠知曉發(fā)生過剩的清洗劑被噴出這樣的故障(向拂拭面1 噴出的過剩的清洗劑在相反側(cè)的拂拭面12b出現(xiàn)而出現(xiàn)的清洗劑作為污濁被檢測(cè)這樣的故障)。此外，作業(yè)者能夠知曉在基板1的清洗開始前基板1的清洗面Ia比通常更污濁這樣的故障。根據(jù)本實(shí)施方式，清洗帶12在拂拭面12a與清洗面Ia對(duì)置的狀態(tài)下，沿與基板1 的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向通過按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間。通過了按壓構(gòu)件Ila 與清洗面Ia之間的清洗帶12進(jìn)行翻轉(zhuǎn)而使拂拭面12b與基板1的背側(cè)對(duì)置。翻轉(zhuǎn)后的清洗帶12以拂拭面12b與清洗面Ib對(duì)置的狀態(tài)沿與在按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間的通過方向相同的方向通過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間。在該狀態(tài)下，基板1沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，由此清洗帶12通過拂拭面1 清洗清洗面la，與此同時(shí)，通過拂拭面12b清洗清洗面lb。從而，能夠在不使清洗帶12扭轉(zhuǎn)180度的情況下通過清洗帶12適當(dāng)?shù)厍逑辞逑疵鎙a、lb。此外，由于使用清洗帶12的兩個(gè)拂拭面1 和12b，因此可抑制清洗帶12 的消耗量，換言之，可減少清洗帶12的更換頻率。其結(jié)果是，基板1的清洗成本降低。
此外，如圖1、圖2、圖6及圖7所示，供給卷盤16、清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17、按壓構(gòu)件 11a、lib、帶路徑形成構(gòu)件18 (多個(gè)引導(dǎo)輥18a 18h)及回收卷盤20設(shè)置在單元框架22 上，由此構(gòu)成一個(gè)清洗單元21。并且，如圖7所示，該清洗單元21能夠裝卸地安裝在設(shè)置于基臺(tái)5上的清洗機(jī)構(gòu)4的主體4a上。由此，通過更換安置有未使用的清洗帶12的清洗單元21與清洗帶用盡了的、安裝在清洗機(jī)構(gòu)4的主體4a上的清洗單元21，能夠以短時(shí)間將未使用的清洗帶12簡(jiǎn)單地安置在清洗機(jī)構(gòu)4上。進(jìn)而，由于供給卷盤16和回收卷盤20以各自的旋轉(zhuǎn)中心線實(shí)質(zhì)上一致的狀態(tài)并列設(shè)置，因此與各自的旋轉(zhuǎn)中心線實(shí)質(zhì)上不一致的情況相比能夠使基板清洗裝置、尤其是清洗單元21緊湊化。此外，在清洗帶12的拂拭面12b的污濁在局部為規(guī)定以上的污濁時(shí)，規(guī)定以上的污濁的部分跳過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間。由此，規(guī)定以上的污濁的清洗帶12的部分不會(huì)用于清洗面Ib的清洗。其結(jié)果是，能夠抑制清洗不良的發(fā)生。此外，清洗帶12跳過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間的次數(shù)為規(guī)定的頻率以上時(shí)， 進(jìn)行警告通知。由此，作業(yè)者能夠知曉道清洗帶12發(fā)生故障。另外，通過按壓構(gòu)件Ila向清洗面Ia按壓清洗帶12且按壓構(gòu)件lib向清洗面Ib 按壓清洗帶12，從另一觀點(diǎn)來看，基板1的側(cè)緣部被兩個(gè)按壓構(gòu)件IlaUlb夾持。因此，基板移動(dòng)裝置3無需支承基板1的側(cè)緣部。即，通過由基板移動(dòng)裝置3支承基板1的實(shí)質(zhì)上的中央部且兩個(gè)按壓構(gòu)件IlaUlb支承基板1的側(cè)緣部，由此基板1以穩(wěn)定的姿態(tài)被支承。 由此，能夠使基板移動(dòng)裝置3結(jié)構(gòu)緊湊。另外，由于清洗機(jī)構(gòu)4構(gòu)成為沿與基板1的移動(dòng)方向正交的方向輸送清洗帶12，即以使兩個(gè)卷盤16、20的徑向與基板1的移動(dòng)方向正交的方式設(shè)置在清洗單元21上，因此基板1的移動(dòng)方向的尺寸小而結(jié)構(gòu)緊湊。另外，按壓構(gòu)件IlaUlb分別在與基板1對(duì)置的對(duì)置面(與清洗帶12接觸的面)13 上具備突起13a，因此以使清洗帶12不與基板1 一同沿側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)的方式將該清洗帶12卡止。由此，即使基板1的移動(dòng)速度提高，清洗帶12也能夠可靠地清洗基板1的側(cè)緣部的清洗面。以上，對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置進(jìn)行了說明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員可以明確本實(shí)施方式的基板清洗裝置可以如后述那樣或以后述以外的其他方式進(jìn)行各種變形。例如，如圖6所示，驅(qū)動(dòng)回收卷盤20和清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17的驅(qū)動(dòng)工作缸25也可以是電動(dòng)機(jī)。此時(shí)，電動(dòng)機(jī)經(jīng)由齒輪或傳動(dòng)帶來驅(qū)動(dòng)回收卷盤20和清洗帶驅(qū)動(dòng)裝置17。電動(dòng)機(jī)優(yōu)選能夠控制旋轉(zhuǎn)量的步進(jìn)式電動(dòng)機(jī)。此外，在上述的第一實(shí)施方式的情況下，如圖1或圖2所示，清洗帶12通過按壓構(gòu)件IlaUlb與清洗面la、lb之間時(shí)的方向是與基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向(基板1的移動(dòng)方向)正交的方向，但也可以是與其不同的方向。例如，可以以使清洗帶12沿基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向通過按壓構(gòu)件IlaUlb與清洗面la、lb之間的方式構(gòu)成基板清洗裝置。進(jìn)而，如圖1或圖2所示，在上述的第一實(shí)施方式的情況下，清洗帶12通過按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間的方向與通過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間的方向相同，但該兩個(gè)通過方向也可以不同。但是，優(yōu)選該兩個(gè)通過方向?yàn)橄嗤姆较?。其理由是，例如如圖2所示，對(duì)于通過翻轉(zhuǎn)路徑19而進(jìn)行翻轉(zhuǎn)的清洗帶12而言，翻轉(zhuǎn)開始時(shí)的清洗帶12的移動(dòng)方向與翻轉(zhuǎn)結(jié)束時(shí)的移動(dòng)方向?yàn)榇笾孪嗤较?。而為了使兩個(gè)通過方向不同，需要在翻轉(zhuǎn)路徑19之后將清洗帶的移動(dòng)方向改變大致180度的其他的路徑，從而帶路徑整體變長(zhǎng)。其結(jié)果是，基板清洗裝置、尤其是清洗單元21變大。因此，使兩個(gè)通過方向?yàn)橄嗤较蚩煽s短包括翻轉(zhuǎn)路徑19的帶路徑整體，即能夠使清洗單元21結(jié)構(gòu)緊湊因而優(yōu)選。進(jìn)而，在上述的第一實(shí)施方式的情況下，如圖5所示，同時(shí)執(zhí)行通過清洗帶12的拂拭面1 進(jìn)行的清洗面Ia的清洗和通過拂拭面12b進(jìn)行的清洗面Ib的清洗，但也可以不同時(shí)進(jìn)行通過拂拭面1 進(jìn)行的清洗和通過拂拭面12b進(jìn)行的清洗。也可以在僅使用清洗帶12的一側(cè)的拂拭面1 清洗兩個(gè)清洗面la、lb，在一側(cè)的拂拭面1 用完后，使用另一側(cè)的拂拭面12b來清洗兩個(gè)清洗面la、lb。圖9中示出變形成能夠這樣進(jìn)行清洗的基板清洗裝置。需要說明的是，以下，在說明與上述第一實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置不同的基板清洗裝置時(shí)，對(duì)與上述第一實(shí)施方式的構(gòu)成要素相同的構(gòu)成要素標(biāo)注相同的參照符號(hào)。另外，主要對(duì)與上述第一實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置的不同點(diǎn)進(jìn)行說明。圖9所示的基板清洗裝置具有如下帶路徑，即，清洗帶12通過按壓構(gòu)件Ila與位于基板1的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面之間，然后通過引導(dǎo)輥1 折返，接著通過按壓構(gòu)件lib 與位于側(cè)緣部的背側(cè)的清洗面之間。即，構(gòu)成為通過清洗帶12的一側(cè)的拂拭面的不同部分同時(shí)清洗兩個(gè)清洗面。此外，該基板清洗裝置與上述的第一實(shí)施方式同樣地構(gòu)成為以使清洗了基板1的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面的拂拭面的部分跳過按壓構(gòu)件lib與側(cè)緣部的背側(cè)的清洗面之間的方式輸送清洗帶(構(gòu)成為拂拭面的相同部分不會(huì)清洗兩個(gè)清洗面)。該基板清洗裝置還構(gòu)成為使卷取回收僅使用了一側(cè)的拂拭面的清洗帶12的回收卷盤20作為供給卷盤16使用，且在僅一側(cè)的拂拭面用于清洗之后才將另一側(cè)的拂拭面用于清洗。例如，如圖9所示，清洗機(jī)構(gòu)4構(gòu)成為以使回收卷盤20卷取的清洗帶12的已用于清洗的拂拭面朝向卷盤中心的方式驅(qū)動(dòng)回收卷盤20。此外，清洗機(jī)構(gòu)4構(gòu)成為將供給卷盤 16支承為能夠向兩個(gè)方向自由旋轉(zhuǎn)。進(jìn)而，構(gòu)成為回收卷盤20可作為供給卷盤16使用。 由此，能夠按照以下的順序?qū)⑶逑磶?2的兩側(cè)的拂拭面用于清洗。首先，回收卷盤20將僅一側(cè)的拂拭面已被用于清洗的清洗帶12以已用于清洗的拂拭面朝向卷盤中心的方式卷取回收。然后，將完成回收清洗帶12的回收卷盤20翻轉(zhuǎn)并作為供給卷盤16而安置到清洗機(jī)構(gòu)4上。然后，將供給卷盤16 (回收卷盤20)所卷繞的清洗帶12以未使用的拂拭面與基板1的側(cè)緣部的表側(cè)和背側(cè)對(duì)置的方式安置到帶路徑形成構(gòu)件18上。由此，能夠僅使用清洗帶12的一側(cè)的拂拭面來清洗兩個(gè)清洗面la、lb，在一側(cè)的拂拭面1 用盡后，使用另一側(cè)的拂拭面12b來清洗兩個(gè)清洗面la、lb。此外，在上述的第一實(shí)施方式的情況下，如圖4所示，在清洗中，基板1沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，但也可以是清洗帶12沿基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)。具體而言，如圖9所示的基板清洗裝置那樣，將使清洗單元21沿基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)的清洗單元移動(dòng)裝置50設(shè)置在基板清洗裝置中。通過該清洗單元移動(dòng)裝置50使清洗單元21沿基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，清洗帶12能夠沿側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)。另外，優(yōu)選清洗單元移動(dòng)裝置50構(gòu)成為在清洗單元21被安裝成能夠裝卸的情況下使清洗單元21移動(dòng)。通過更換安置有未使用的清洗帶12的清洗單元21與清洗帶用盡了的安裝于清洗單元移動(dòng)裝置50上的清洗單元21，能夠簡(jiǎn)單地將未使用的清洗帶12以短時(shí)間安置到清洗機(jī)構(gòu)4上。在清洗單元21沿基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)時(shí)，如圖9所示，優(yōu)選供給卷盤 16與回收卷盤20以各自的旋轉(zhuǎn)中心線C實(shí)質(zhì)上一致的狀態(tài)并列設(shè)置。作為一例，列舉出下述情況兩個(gè)卷盤各自的旋轉(zhuǎn)中心線實(shí)質(zhì)上不一致，在沿旋轉(zhuǎn)中心線延伸的方向(清洗單元21的移動(dòng)方向)觀察時(shí)，里側(cè)的卷盤的一部分從跟前側(cè)的卷盤的外周局部露出(跟前側(cè)的卷盤的直徑等于或大于里側(cè)的卷盤的直徑)。在該例子的情況下，與旋轉(zhuǎn)中心線實(shí)質(zhì)上一致而里側(cè)的卷盤完全被跟前的卷盤隱藏的情況相比，由于存在露出部分，因此清洗單元21相對(duì)變大，而剛度相對(duì)降低。此外，在清洗單元21的移動(dòng)中， 卷盤及支承卷盤的構(gòu)件容易晃動(dòng)，例如，容易發(fā)生振動(dòng)等。其結(jié)果是，難以使清洗單元21高速移動(dòng)。清洗單元21通過清洗單元移動(dòng)裝置50而沿基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，且供給卷盤16和回收卷盤20在各自的旋轉(zhuǎn)中心線實(shí)質(zhì)上一致的狀態(tài)下并列地設(shè)置在清洗單元21上，由此實(shí)現(xiàn)能夠沿基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向高速地、例如以300 500mm/s的速度移動(dòng)的緊湊的清洗單元21。此外，清洗單元21因?yàn)榻Y(jié)構(gòu)緊湊，因此輕量且剛性高，從而能夠抑制在高速移動(dòng)中發(fā)生振動(dòng)而順暢地移動(dòng)。此外，由于這樣構(gòu)成，因此清洗單元21在其起動(dòng)、加速、減速及停止時(shí)無需大的能量。即，清洗單元移動(dòng)裝置50也可以形成緊湊的結(jié)構(gòu)。另外，在考慮使清洗單元21沿基板1的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向高速移動(dòng)而縮短清洗時(shí)間從而獲得抑制清洗成本的結(jié)果時(shí)，優(yōu)選清洗帶12的帶路徑是帶路徑短的簡(jiǎn)單的路徑。在構(gòu)成為簡(jiǎn)單的帶路徑的情況下，帶路徑形成構(gòu)件18即引導(dǎo)輥的數(shù)量變少，從而能夠使清晰單元21輕量化。作為一例，可以列舉出圖9所示的帶路徑來作為可使清洗帶21高速地移動(dòng)的簡(jiǎn)單的帶路徑。圖9所示的帶路徑形成為，清洗帶12通過按壓構(gòu)件Ila與位于基板1的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面之間，然后在引導(dǎo)輥1 的作用下而折返，接著通過按壓構(gòu)件lib與位于側(cè)緣部的背側(cè)的清洗面之間(帶路徑形成為利用清洗帶12的一側(cè)的拂拭面的不同部分來同時(shí)清洗兩個(gè)清洗面)。利用該圖9所示的簡(jiǎn)單的帶路徑，能夠使清洗帶21輕量化且高速地移動(dòng)。此外，對(duì)于大型基板而言，利用這樣的清洗單元21，在不使用使大型基板沿其側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)的大型的基板移動(dòng)裝置的情況下就能夠在短時(shí)間內(nèi)清洗大型基板。其結(jié)果是，能夠抑制大型基板的清洗成本。進(jìn)而，也可以使基板1和清洗帶12這雙方沿基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向相對(duì)移動(dòng)。此時(shí)，基板清洗裝置具有基板移動(dòng)裝置3和圖9所示的清洗單元移動(dòng)裝置50這雙方。通過基板移動(dòng)裝置3使基板1向其長(zhǎng)度方向的一側(cè)移動(dòng)，清洗單元移動(dòng)裝置50使清洗單元21向其長(zhǎng)度方向的另一側(cè)移動(dòng)，從而能夠更高速地執(zhí)行清洗。(第二實(shí)施方式)接下來，參照?qǐng)D10說明本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置。
上述第一實(shí)施方式的基板清洗裝置通過回收卷盤20卷取清洗帶12而進(jìn)行回收。 相對(duì)于此，如圖10所示，本實(shí)施方式的基板清洗裝置取代回收卷盤20而具有回收清洗帶12 的清洗帶回收裝置48、收容清洗帶回收裝置48回收的清洗帶12的回收箱49。清洗帶回收裝置48具有牽引清洗帶12的回收輥48a、將清洗帶12按壓到回收輥 48a上的夾帶輥48b。回收輥48a和夾帶輥48b設(shè)置在清洗單元21的單元框架22上(裝入于清洗單元21)。此外，回收輥48a構(gòu)成為與驅(qū)動(dòng)輥17a同步旋轉(zhuǎn)?；厥障?9能夠拆下地安裝在清洗機(jī)構(gòu)4的主體如上。根據(jù)本實(shí)施方式，無需使用回收卷盤20即可回收清洗帶12。(第三實(shí)施方式)參照?qǐng)D11說明本發(fā)明的第三實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置。在上述的第一實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置中，如圖1或圖2所示，利用帶路徑形成構(gòu)件18使清洗帶12在通過按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間以后在基板1與供給卷盤 16之間的空間內(nèi)翻轉(zhuǎn)。相對(duì)于此，在本實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置中，利用帶路徑形成構(gòu)件18 (多個(gè)引導(dǎo)輥18a 18h)使通過按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間以后的清洗帶12 沿著供給卷盤16的周圍(徑向外側(cè))進(jìn)行翻轉(zhuǎn)。根據(jù)本實(shí)施方式，若比較圖2和圖11可知，與第一實(shí)施方式相比，從按壓構(gòu)件Ila 與清洗面Ia之間到引導(dǎo)輥18d的距離變長(zhǎng)。由此，在利用拂拭面1 清洗清洗面Ia后的清洗帶12到達(dá)引導(dǎo)輥18d前，清洗劑從清洗帶12充分地?fù)]發(fā)。其結(jié)果是，能夠抑制清洗帶 12的拂拭面12a上的污濁與清洗劑一同轉(zhuǎn)印到引導(dǎo)輥18d 18g上。(第四實(shí)施方式)參照?qǐng)D12說明本發(fā)明的第四實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置。另外，本實(shí)施方式與第三實(shí)施方式類似。在上述第三實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置中，如圖11所示，清洗帶12向接近供給卷盤20的方向通過按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間，且向接近供給卷盤20的方向通過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間。相對(duì)于此，在本實(shí)施方式所涉及的基板清洗裝置中，如圖12 所示，清洗帶12向從供給卷盤20離開的方向通過按壓構(gòu)件Ila與清洗面Ia之間，且向從供給卷盤20離開的方向通過按壓構(gòu)件lib與清洗面Ib之間。另外，圖12(a)是供給卷盤16和回收卷盤20以各自的旋轉(zhuǎn)中心線實(shí)質(zhì)上一致的方式并列設(shè)置的示例，圖12(b)是供給卷盤16和回收卷盤20實(shí)質(zhì)上配置在同一平面上的示例。根據(jù)本實(shí)施方式，如圖12所示，形成翻轉(zhuǎn)路徑19的引導(dǎo)輥18c 18f能夠在不接觸清洗清洗面Ia而污濁的拂拭面12a的情況下引導(dǎo)清洗帶12而使其翻轉(zhuǎn)。其結(jié)果是，能夠抑制多個(gè)引導(dǎo)輥18c 18f變得污濁。需要說明的是，通過將上述各種實(shí)施方式中的任意的實(shí)施方式適當(dāng)組合，能夠發(fā)揮各自具有的效果。本發(fā)明參照附圖并關(guān)聯(lián)優(yōu)選的實(shí)施方式而充分地進(jìn)行了說明，但熟練該技術(shù)的人員知曉各種變形或修改。應(yīng)理解為，這樣的變形或修改只要不脫離基于另附的權(quán)利要求書的本發(fā)明的范圍則包含在本發(fā)明中。參照在2008年10月31日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)No. 2008482313號(hào)及基于該申請(qǐng)主張優(yōu)先權(quán)的申請(qǐng)即在2009年7月31日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)No. 2009-179099號(hào)的說明書、附圖及權(quán)利要求書的公開內(nèi)容的整體而將它們納入本說明書中。工業(yè)上的可利用性不言而喻的是，本發(fā)明不局限于基板的側(cè)緣部，對(duì)分別位于其他部分的表側(cè)和背側(cè)的清洗面也能夠通過清洗帶的兩個(gè)拂拭面適當(dāng)且高速地清洗。因此，本發(fā)明可適當(dāng)?shù)乩迷谛枰M(jìn)行基板的清洗的領(lǐng)域，例如在基板上安裝構(gòu)件的構(gòu)件安裝的領(lǐng)域。
權(quán)利要求
1.一種基板清洗裝置，通過具備第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗帶來清洗基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)的第一清洗面和位于背側(cè)的第二清洗面，所述基板清洗裝置具有第一按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第一清洗面上； 第二按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第二清洗面上；帶路徑形成構(gòu)件，其形成通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間以及第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間的清洗帶的帶路徑；帶供給裝置，其向帶路徑供給清洗帶； 帶回收裝置，其從帶路徑回收清洗帶； 帶驅(qū)動(dòng)裝置，其驅(qū)動(dòng)清洗帶； 清洗劑噴出裝置，其向清洗帶噴出清洗劑；移動(dòng)裝置，其使清洗帶和基板沿該基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向相對(duì)移動(dòng)， 帶路徑包括第一路徑，其使清洗帶以第一拂拭面與第一清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間；第二路徑，其使通過第一路徑后的清洗帶翻轉(zhuǎn)，以使第二拂拭面與基板的背側(cè)對(duì)置； 第三路徑，其使通過第二路徑后的清洗帶以第二拂拭面與第二清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與第一路徑上的清洗帶的通過方向相同的方向通過第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間。
2.一種基板清洗裝置，通過具備第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗帶來清洗基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)的第一清洗面和位于背側(cè)的第二清洗面，所述基板清洗裝置具有第一按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第一清洗面上； 第二按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第二清洗面上；帶路徑形成構(gòu)件，其形成通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間以及第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間的清洗帶的帶路徑；帶供給裝置，其向帶路徑供給清洗帶； 帶回收裝置，其從帶路徑回收清洗帶； 帶驅(qū)動(dòng)裝置，其驅(qū)動(dòng)清洗帶； 清洗劑噴出裝置，其向清洗帶噴出清洗劑；移動(dòng)裝置，其使清洗帶和基板沿該基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向相對(duì)移動(dòng)， 帶路徑包括第一路徑，其使清洗帶以第一拂拭面與第一清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間；第二路徑，其使通過第一路徑后的清洗帶翻轉(zhuǎn)，以使第二拂拭面與基板的背側(cè)對(duì)置； 第三路徑，其使通過第二路徑后的清洗帶以第二拂拭面與第二清洗面對(duì)置的狀態(tài)通過第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間，帶供給裝置具有卷繞清洗帶的供給卷盤， 帶回收裝置具有卷取清洗帶而將其回收的回收卷盤， 供給卷盤與回收卷盤并列設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清洗裝置，其中，第三路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使清洗帶沿與第一路徑上的清洗帶的通過方向相同的方向通過。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板清洗裝置，其中，帶路徑形成構(gòu)件形成包括第四路徑的帶路徑或包括第五路徑的帶路徑，所述第四路徑從第三路徑通過第二路徑的清洗帶的寬度方向的側(cè)方從而繞過該第二路徑而到達(dá)帶回收裝置，所述第五路徑從帶供給裝置通過第二路徑的清洗帶的寬度方向的側(cè)方從而繞過該第二路徑而到達(dá)第一路徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板清洗裝置，其中，該基板清洗裝置具有至少包括帶供給裝置、第一按壓構(gòu)件及第二按壓構(gòu)件以及帶路徑形成構(gòu)件且以能夠裝卸的方式安裝在基板清洗裝置的主體上的清洗單元，在基板清洗裝置的主體上具有驅(qū)動(dòng)帶供給裝置的驅(qū)動(dòng)裝置、驅(qū)動(dòng)第一按壓構(gòu)件及第二按壓構(gòu)件的驅(qū)動(dòng)裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板清洗裝置，其中，第二路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使清洗帶沿著帶供給裝置的周圍翻轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板清洗裝置，其中，第一路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使清洗帶沿從帶供給裝置離開的方向通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間，第二路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使通過第一路徑后的清洗帶沿著帶供給裝置的周圍翻轉(zhuǎn)，第三路徑通過帶路徑形成構(gòu)件形成為使清洗帶沿與第一路徑上的清洗帶的通過方向相同的方向通過。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的基板清洗裝置，其中，所述基板清洗裝置具有控制裝置，其控制帶驅(qū)動(dòng)裝置對(duì)清洗帶的輸送量；污濁檢測(cè)裝置，其檢測(cè)通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間以后的清洗帶的第二拂拭面的污濁，控制裝置以使由污濁檢測(cè)裝置檢測(cè)到規(guī)定以上的污濁的第二拂拭面的部分跳過第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間的方式控制清洗帶的輸送量。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板清洗裝置，其中，在由控制裝置控制的跳過的執(zhí)行頻率達(dá)到規(guī)定的頻率以上時(shí)進(jìn)行警告通知。
10.一種基板清洗方法，通過具備第一拂拭面和第二拂拭面且含浸有清洗劑的布制的清洗帶來清洗基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)的第一清洗面和位于背側(cè)的第二清洗面，其中，在維持由第一按壓構(gòu)件將清洗帶按壓到第一清洗面上的狀態(tài)以及由第二按壓構(gòu)件將清洗帶按壓到第二清洗面上的狀態(tài)的同時(shí)，使清洗帶和基板沿該基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向相對(duì)移動(dòng)，從而清洗第一清洗面及第二清洗面，以如下方式驅(qū)動(dòng)清洗帶，使清洗帶以第一拂拭面與基板的第一清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間，然后使清洗帶翻轉(zhuǎn)以使第二拂拭面與基板的背側(cè)對(duì)置，接著使清洗帶以第二拂拭面與第二清洗面對(duì)置的狀態(tài)沿與第一按壓構(gòu)件和第一清洗面之間的清洗帶的通過方向相同的方向通過第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間。
11.一種基板清洗裝置，通過具備第一拂拭面和第二拂拭面的布制的清洗帶來清洗基板的側(cè)緣部的位于表側(cè)的第一清洗面和位于背側(cè)的第二清洗面，所述基板清洗裝置具有第一按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第一清洗面上； 第二按壓構(gòu)件，其將清洗帶按壓到第二清洗面上；帶路徑形成構(gòu)件，其形成通過第一按壓構(gòu)件與第一清洗面之間以及第二按壓構(gòu)件與第二清洗面之間的清洗帶的帶路徑；帶供給裝置，其向帶路徑供給清洗帶； 帶回收裝置，其從帶路徑回收清洗帶； 帶驅(qū)動(dòng)裝置，其驅(qū)動(dòng)清洗帶；以及清洗單元，其包括向清洗帶噴出清洗劑的清洗劑噴出裝置； 清洗單元移動(dòng)裝置，其使清洗單元沿基板的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向移動(dòng)， 帶供給裝置具有卷繞清洗帶的供給卷盤， 帶回收裝置具有卷取清洗帶而將其回收的回收卷盤， 供給卷盤與回收卷盤并列設(shè)置。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板清洗裝置，其中，清洗單元移動(dòng)裝置構(gòu)成為使以能夠裝卸的方式安裝的清洗單元移動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明提供基板清洗裝置及其方法?；迩逑囱b置通過清洗帶(12)的拂拭面(12a、12b)清洗基板(1)的側(cè)緣部的表側(cè)的清洗面(1a)和背側(cè)的清洗面(1b)，基板清洗裝置具有將清洗帶(12)按壓到清洗面(1a)上的按壓構(gòu)件(11a)；將清洗帶(12)按壓到清洗面(1b)上的按壓構(gòu)件(11b)；通過按壓構(gòu)件(11a)與清洗面(1a)之間以及按壓構(gòu)件(11b)與清洗面(1b)之間的帶路徑；使清洗帶(12)和基板(1)沿側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向相對(duì)移動(dòng)的移動(dòng)裝置。帶路徑使清洗帶(12)以拂拭面(12a)與清洗面(1a)對(duì)置的狀態(tài)沿與基板(1)的側(cè)緣部的長(zhǎng)度方向正交的方向通過按壓構(gòu)件(11a)與清洗面(1a)之間，然后進(jìn)行翻轉(zhuǎn)以使拂拭面(12b)與基板(1)的背側(cè)對(duì)置，接著以拂拭面(12b)與清洗面(1b)對(duì)置的狀態(tài)向與按壓構(gòu)件(11a)與清洗面(1a)之間的通過方向相同的方向通過按壓構(gòu)件(11b)與清洗面(1b)之間。
文檔編號(hào)B08B1/00GK102176981SQ20098013990
公開日2011年9月7日 申請(qǐng)日期2009年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月31日
發(fā)明者壁下朗, 小林榮, 渡邊雅也 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社