專利名稱：用光敏化妝進行化妝的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及為人的角質(zhì)材料(material)化妝，特別是為皮膚、嘴唇、頭發(fā)或指甲化妝。
背景技術：
當化妝時，通常使用被沉積(cbposite)在身體上的有色物質(zhì)。當施加化妝時，人可嘗試以適合獲得特定程度透明度的量來施用組合物。通常，化 妝不應完全覆蓋所給定的區(qū)域。為此，使用者試圖避免太過虛假的效果以及明顯的界線。使用者可通過施加單一組合物或多種組合物的連續(xù)涂抹來進行。通常，該操作是 不容易的，因為任何給定的涂抹替代或改變由之前任何涂抹所留下的材料。其結(jié)果為效果 通常不理想。理論上，可以通過允許每次涂抹在進行下一次涂抹之前干燥來避免該問題，但 這需要大量時間。使用者也可通過使用非常精巧的施用器來進行，例如使用畫筆或刷子或噴霧器， 從而施用組合物，而不會破壞之前的涂抹。對于處理相當大的區(qū)域，該方法顯現(xiàn)出特定優(yōu) 點，但該方法不適用于精確地施加化妝，因為它引起光圈效應。特別地，該方法不適用于處 理眼睛、嘴唇、或指甲，以及甚至皺紋、疤痕、或妊娠紋。該方法也不適用于處理前額，因為它 能夠?qū)е略诿济系某练e。使用者也可通過施用顏色很深和/或覆蓋的組合物來進行，隨后，在施用后，可使 用卸妝器來清除所施用的組合物的一小部分。通常，效果是非常隨機的。因此，不存在用于確定獲得所期望的強度所需的化妝的量的手段。即使使用者接 受這種化妝強度方面的精確度的缺乏，并且成功獲得滿意的效果，但是該問題限制了化妝 的使用或阻止了對某些情況的處理。此外，使用某些顏色是困難的，特別是使用不同于皮膚顏色的顏色。這樣的顏色， 例如綠色或深紅色，在強度方面要求更大的精確性。量的錯誤可導致非常令人不愉快的效 果。為避免該問題，通常使用接近皮膚顏色的顏色，因為在強度方面的錯誤不會太明顯。為掩蓋疤痕、妊娠紋、或異色，需要協(xié)調(diào)所施加的顏色與皮膚的顏色。因此，需要使 用接近目標顏色的顏色。通常，即使找出了相應于使用者的皮膚顏色的顏色，仍然期望精確 確定所施加的量。已發(fā)現(xiàn)可以使用光敏化妝來獲得令人滿意的化妝效果。該效果的精確性超過了使 用者通過傳統(tǒng)化妝通常獲得的精確性，而既不需要特別的靈巧度也不需要培訓。此外，光敏化妝可以產(chǎn)生超出化妝通常接受的顏色效果。這可以是模仿傳統(tǒng)化妝 圖案的任何圖案、或是文字、標志等。光敏化妝基于使用至少一種熱穩(wěn)定光致變色組合物，該組合物能夠通過光輻射顯 色，例如通過紫外線輻射，并且在至少一個小時內(nèi)保持看起來與照射有關的變化。為了產(chǎn)生光敏化妝妝容，至少一種熱穩(wěn)定光致變色組合物以至少一層的形式被沉 積在待處理的區(qū)域上。
當應用該熱穩(wěn)定光致變色組合物時，它處于未顯色狀態(tài)并且它可以是有色的或無 色的，這取決于所使用的成分。通過以不均勻的方式照射，可以有選擇地執(zhí)行熱穩(wěn)定光致變色組合物層的照射。 因此，特定區(qū)域不需要顯色而其他區(qū)域顯色，和/或一些區(qū)域可以顯色以改變程度，從而導 致不同的顏色強度。所使用的光能保持相對低并且不會導致皮膚被曬黑。專利EP-A-O 938 887中描述了一種用光敏化妝進行化妝的方法，該專利在此引 入作為參考，其采用被施用到皮膚上的熱穩(wěn)定光致變色劑。該專利描述了選自二芳基乙烯 和俘精酸酐的光致變色劑。美國申請US-2007/0038270-A1公開了多種方法，其中，感光組合物以某種圖案被 沉積在皮膚上或被曝光于與待產(chǎn)生的圖案對應的光線下。申請WO 2008/144787公開了在人的皮膚上產(chǎn)生可見圖案的方法。在該方法中，使 用發(fā)射紫外線光的可尋址矩陣成像器來以選擇的方式將皮膚曬黑
發(fā)明內(nèi)容

存在以精確的方式施加化妝的需要。本發(fā)明的示范實施例提供施加光敏化妝的方法，所述方法包括下述步驟·將熱穩(wěn)定光致變色組合物施用到被處理的區(qū)域上；·以逐步的方式用選擇用于使所述熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色或被擦除的光照射 所述區(qū)域；以及 中斷和/或修改所述照射的特征，以實現(xiàn)所期望的外觀，該外觀相應于所述熱穩(wěn) 定光致變色組合物的部分顯色或擦除。術語“部分顯色或擦除”應被理解成意味著，在被處理的區(qū)域的至少一個范圍內(nèi)， 所述熱穩(wěn)定光致變色組合物未100%顯色，也不是完全未顯色。所述組合物可以顯色10% 至90%。部分擦除可從已完全顯色、例如在被施用到人的角質(zhì)材料上之后顯色或被施用之 前顯色的組合物開始發(fā)生。作為示例，光敏化妝可包括完全顯色和隨后的逆向復原或完全擦除和隨后的逆向復原。通過選擇熱穩(wěn)定光致變色組合物被曝光的光的波長可使熱穩(wěn)定光致變色組合物 顯色或被擦除，例如，紫外線或近紫外線用于顯色，而超出近紫外線的可見光用于擦除。本發(fā)明可獲得精確確定的強度的化妝效果。在逐步照明期間，使用者可觀察光敏 化妝妝容的進展，并且當實現(xiàn)所期望的效果時可停止其改變。利用本發(fā)明，可精確獲得在顏色強度方面所期望的效果，并且若熱穩(wěn)定光致變色 組合物允許，則不管是在光敏化妝時還是在光敏化妝后，都可以進行編輯，以進一步完善光 敏化妝。照射可被中斷隨后被重新開始至少一次。當所述組合物將要顯色時，每秒照射的能量E可小于或等于0. ，其中Etl為使 80%的熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色的每秒所需的能量。對于2E0是可能的。類似地，當進行擦除時，每秒照射的能量E’可小于或等于0. 5E’ ^，其中E’ ^為擦除80%的熱穩(wěn)定光致變色組合物的每秒所需的能量。對于E’ ^ 0. 2E’ ^是可能的。待處理區(qū)域的顏色可被分析，隨后該分析的結(jié)果用于自動控制照射。這使得可以 更精確地控制光敏化妝的妝容?？稍谑┯脽岱€(wěn)定光致變色組合物之后并在實現(xiàn)所期望的外觀之前分析該顏色。
照射可至少在兩個主波長處發(fā)生，一個主波長(λ J使得熱穩(wěn)定光致變色組合物 逐步顯色，而另一主波長(λ2)造成光敏化妝退化。兩個主波長可以分別為紫外線光和可見光。在施用組合物之后并在實現(xiàn)所期望的外觀之前，可模擬光敏化妝的效果，特別是 通過在屏幕上顯示化妝妝容的模擬。模擬的進展可關聯(lián)到被處理區(qū)域上的照射的進展。可使用光敏化妝順序地產(chǎn)生多個圖案，至少一個實現(xiàn)所期望的外觀的圖案的位置 停止被照射，而至少一個其他還未實現(xiàn)所期望的外觀的位置或圖案繼續(xù)被照射。本發(fā)明的其他示例性實施例還提供一種裝置，包括·熱穩(wěn)定光致變色組合物，當在主波長λ工的光線下被照射時逐步顯色，特別地， X1落在320nm(納米)至440nm范圍內(nèi)，并且當用主波長λ 2的光照射時逐步返回至其初 始外觀，特別地，λ 2落在440nm至700nm范圍內(nèi)。·具有可選擇照射光的主波長的裝置的輻照器，特別是以波長λ工或λ 2照明。這樣的裝置可促成光敏化妝妝容并且若需要則可擦除光敏化妝妝容，例如去改正 它或產(chǎn)生新的光敏化妝妝容。本發(fā)明的其他示例性實施例還提供一種裝置，包括·用于照射存在于被處理區(qū)域上的熱穩(wěn)定光致變色組合物的輻照器；以及·用于模擬在照射期間光敏化妝的外觀改變的模擬器裝置。這樣的裝置使得使用者于在照射的效應下實現(xiàn)光敏化妝的外觀之前預先設想所 述外觀。這使得可以避免任何無用的照射，并且可縮短產(chǎn)生所期望的光敏化妝妝容所需的 時間。當通過合適波長的照射難以擦除所使用的熱穩(wěn)定光致變色組合物時，這也可以是 有用的。模擬也可使得預先知道產(chǎn)生所期望的光敏化妝妝容所需要的照射的持續(xù)時間和/ 或精確強度。隨后根據(jù)模擬數(shù)據(jù)可精確地控制輻照器。本發(fā)明的其他示例性實施例還提供一種裝置，包括·用于作用于光敏化妝的輻照器；以及 用于根據(jù)至少一個在光敏化妝期間來自被處理區(qū)域的數(shù)據(jù)的獲取來自動控制該 輻照器的控制裝置，特別是來自通過使用光學獲取裝置對被處理區(qū)域的觀察。光學獲取裝置使得可以實時或幾乎實時地控制輻照器，從而當實現(xiàn)所期望的效果 時停止照射。根據(jù)輻照器是試圖顯色還是試圖擦除，輻照器可發(fā)射可見光或紫外線光，或者它 甚至可以有選擇地發(fā)射紫外線或可見光。熱穩(wěn)定光致變餼組合物根據(jù)本發(fā)明，使用合適的熱穩(wěn)定光致變色組合物產(chǎn)生光敏化妝妝容。本發(fā)明的熱穩(wěn)定光致變色組合物包含一種或多種熱穩(wěn)定光致變色劑，所述光致變色劑適用于產(chǎn)生光敏化妝妝容，即它們在光輻射的影響下改變顯示。用在本發(fā)明中的熱穩(wěn)定光致變色劑可以例如為不可逆轉(zhuǎn)的光致變色劑，即一旦獲 得外觀上的改變，它就是永久固定不變的。根據(jù)所使用的熱穩(wěn)定光致變色劑，可以通過被曝光于合適的輻射(例如紫外線和 /或近紫外線)而逐步使所述熱穩(wěn)定光致變色劑顯色、或通過從包括一種或多種通過應用 合適的輻射(例如超出近紫外線的可見光)而進入未顯色狀態(tài)中的處于顯色狀態(tài)的熱穩(wěn)定 光致變色劑的熱穩(wěn)定光致變色組合物開始來產(chǎn)生光敏化妝妝容。為了精確地獲得所期望的化妝效果，該光敏化妝可例如相繼地或交替地實現(xiàn)一種 或多種熱穩(wěn)定光致變色劑的顯色以及一種或多種熱穩(wěn)定光致變色劑的擦除。在施用到角質(zhì)材料上之前，熱穩(wěn)定光致變色組合物可以熱穩(wěn)定光致變色劑處于未 顯色狀態(tài)的方式被容納在包裝裝置中。在這種構(gòu)造中，熱穩(wěn)定光致變色組合物可以熱穩(wěn)定 光致變色劑處于未顯色狀態(tài)的方式被施用到角質(zhì)材料上，隨后施加可以將所述光致變色劑 變成顯色狀態(tài)的輻射。在一變型中，光致變色組合物以熱穩(wěn)定光致變色劑處于未顯色狀態(tài)的方式被施用 到角質(zhì)材料上，隨后所述熱穩(wěn)定光致變色劑進入顯色狀態(tài)，此后有選擇地施加輻射，以將熱 穩(wěn)定光致變色劑例如以局部化的方式改變成未顯色狀態(tài)，從而例如產(chǎn)生一種或多種圖案， 和/或獲得所期望的顏色。在另一變型中，熱穩(wěn)定光致變色組合物可以熱穩(wěn)定光致變色劑處于顯色狀態(tài)的方 式被包含在包裝裝置中。隨后以熱穩(wěn)定光致變色劑處于顯色狀態(tài)的方式施用熱穩(wěn)定光致變 色組合物，以及以選擇方式使這些熱穩(wěn)定光致變色劑進入未顯色狀態(tài)，從而形成一種或多 種圖案和/或獲得所期望的顏色。當試圖使用其中的熱穩(wěn)定光致變色劑在組合物被施用到角質(zhì)材料上時已處于顯 色狀態(tài)的熱穩(wěn)定光致變色組合物時，可選擇使用包括適用于將熱穩(wěn)定光致變色組合物曝光 于光輻射下的光源的包裝裝置，所述光源例如在包含它的容器的附件內(nèi)或在散布孔或施用 構(gòu)件處，其中，光輻射的波長適合用于使所述熱穩(wěn)定光致變色劑顯色。熱穩(wěn)定光致變色組合物可以包括熱穩(wěn)定光致變色劑，該熱穩(wěn)定光致變色劑能夠例 如在顯色狀態(tài)下產(chǎn)生顏色而例如在未顯色狀態(tài)下是無色的，或者包括在顯色狀態(tài)下分別產(chǎn) 生不同顏色而在未顯色狀態(tài)下具有另一種顏色或無色的熱穩(wěn)定光致變色劑的混合物。作為一個示例，可以使用包括各黃色的、藍色的、和品紅的熱穩(wěn)定光致變色劑的混 合物的熱穩(wěn)定光致變色組合物，其中具有例如較大比例的在顯色狀態(tài)為黃色顏色的熱穩(wěn)定 光致變色劑，例如當所有的熱穩(wěn)定光致變色劑都處于顯色狀態(tài)時選擇比例，以獲得接近皮 膚顏色的色彩。因此，在本發(fā)明的一個示例中，以相對比例為大約50%、35%和15%使用各 為黃色的、品紅的、和藍色的熱穩(wěn)定光致變色劑的混合物。當熱穩(wěn)定光致變色組合物包括多個熱穩(wěn)定光致變色劑時，可使用多種熱穩(wěn)定光致 變色劑，這些熱穩(wěn)定光致變色劑能夠通過對具有不同主波長輻射曝光而顯色，這樣，通過選 擇對熱穩(wěn)定光致變色組合物曝光的輻射的波長，可以顯出一種顏色而非另一種顏色。也可 以在熱穩(wěn)定光致變色組合物中使用熱穩(wěn)定光致變色劑，當對各主波長曝光時，這些熱穩(wěn)定 光致變色組合物能夠被擦除，這意味著通過選擇用于擦除熱穩(wěn)定光致變色組合物的光的特 征，可以擦除一種給定的顏色而非另一種顏色。
熱穩(wěn)定光致變餼劑的熱穩(wěn)定件的測量確定光致變色劑是否為熱穩(wěn)定的試驗如下所述。使用紫外線輻射以lj/cm2(焦耳 每平方厘米)照射初始在未顯色狀態(tài)下具有顏色Ei的待測試劑1分鐘，隨后使用例如來 自MINOLTA CM 2002 (d/8, SCI, D65，2°觀測器)的分光比色計確定其最終顏色Ef ；在CIE
Lab空間實驗室中獲得色差AEi,f =水Cif -Ui)2 +(bf -bt)2 +(Lf -Li)2 ,該色差相應于最大
顯色。隨后將所述化合物在25°C下置于全黑環(huán)境中60分鐘，隨后使用上述方法確定其顏 色艮。若ΔΕ"的新值為相應于最大顯色的AEiif的值的至少50%，則認為該化合物是熱 穩(wěn)定的。優(yōu)選地，選擇熱穩(wěn)定光致變色劑，使得一旦顯色，獲得的化妝就可以在視覺上保持 超過一個小時，優(yōu)選超過四個小時。熱穩(wěn)定光致變色組合物可不含有熱可逆光致變色化合物，例如摻雜氧化鈦、螺吡 喃、螺惡嗪、或苯并吡喃，除非這些化合物的某些形式落入熱穩(wěn)定光致變色劑的定義。
本發(fā)明的熱穩(wěn)定光致變色劑有利地為使得在初始照射I1下，所述光致變色劑通過 變得有顏色而從大體上無色或稍微有點顏色的狀態(tài)開始顯色；并且在不同于第一照射的第 二照射I2下，所述光致變色劑回到大體上無色或稍微有點顏色。在本發(fā)明的實施方式中， 照射I1為紫外線照射(290nm至400歷)，特別是UVA(320nm至400歷)和/或UVB，優(yōu)選在 近紫外線(400nm至440nm)，而照射I2為可見光照射，例如白光。熱穩(wěn)定光致變餼劑可使用的光致變色劑的優(yōu)選示例為屬于二芳基乙烯族的化合物以及屬于俘精酸 酐族的化合物；然而，該名單為非限制性的。技術人員可參考專利EP-A-0938887，該專利描 述了熱穩(wěn)定光致變色劑的示例?？赏ㄟ^如下分子式(I)表示二芳基乙烯
R1 R
H2
A B其中，相對于雙鍵，原子團R1和R2通常是“順(cis) ”。相互獨立的這些原子團R1和R2可選自可以被氟化或全氟化的C1-C16烷基以及腈?？梢蕴貏e提及具有如下分子式的化合物
CN CN A B它們也可形成可以被氟化或全氟化的包含5或6個碳原子的環(huán)，特別地，具有如下
分子式
.CF2 CF, XF,
X
AB 或形成5個碳原子的酐環(huán)，特別地，具有如下分子式
<formula>formula see original document page 8</formula>其中，X可以是氧原子或-NR3原子團，其中R3表示C2-C16烷基和/或羥烷基。原子團A和B也可以是相等的或不同的，特別地，可以表示具有如下結(jié)構(gòu)的5-原 子環(huán)或5-或6-原子雙環(huán)
<formula>formula see original document page 8</formula>其中· X和Y可以是相同的或不同的，并且可表示氧原子、硫原子、硫的氧化形式、氮原 子或硒原子；· Z和W可以是相同的或不同的，并且可表示碳或氮原子；·原子團R3至R12可以是相同的或不同的，并且可表示氫、直鏈或支鏈C1至C16烷 基或烷氧基、鹵素、直鏈或支鏈的氟化或全氟化的C1-C4基、羧基、C1-C16烷基羧基、C1-C16單 或二烷基-氨基、腈基；苯基、萘基或雜環(huán)(吡啶、喹啉、噻吩)可被取代到所述原子團上。然而，基團A和B不可都與例如如下所示的吲哚類型結(jié)構(gòu)相等
<formula>formula see original document page 9</formula>基團A和B可通過一個或多個雙鍵與環(huán)分離。在正交于該連接的位置上、在雙鍵與殘基A和B之間、通常一定有不同于氫的基 團，例如CH3、CN或COOEt，即，基團R3或R5、R4、R7以及R8必須不同于氫?？杀惶峒暗囊粋€示例為下述化合物，該化合物在404nm-436nm下照射后從無色變 成紅色(在546nm-578nm下恢復)，如下所示<formula>formula see original document page 9</formula>二芳基乙烯的一個示例為在顯色狀態(tài)下顏色為藍色，其商品名稱為 YamadaChemical (日本)的DAE-MP，其化學名稱和分子式為1，2_雙(2-甲基-5-苯 基-3-噻吩)-3，3，4，4，5，5-六氟環(huán)戊烯<formula>formula see original document page 9</formula>二芳基乙烯的另一個示例為在顯色狀態(tài)下為黃顏色，具有分子式
<formula>formula see original document page 9</formula>
其商品名稱為YAMADA CHEMICALS(日本)的DAE-2BT，并且其化學名稱為1， 2-雙(3-甲基苯并(b)噻吩-2-基)全氟環(huán)戊烯?？赏ㄟ^如下分子式來表示俘精酸酐
<formula>formula see original document page 10</formula>其中 基團A具有上述含義；·基團R13至R15可以是相同的或不同的，并且可表示C1-C16直鏈或支鏈烷基，或者 基團R13和R14可形成包含3至12個碳原子的環(huán)，例如環(huán)丙烷或金剛烯(adamantylene)。其他熱穩(wěn)定光致變餼劑這些光致變色化合物是改變外觀的化合物，例如通過由光照射控制的機制從無色 或弱色的形式變成有色的形式。從光引起外觀改變而言，例如從無色形式變成有色形式，該機制可以是直接的。這 例如通過具有可光降解或光致釋放官能的化合物來實施。優(yōu)選地，使用其中可光降解或光致釋放官能相對于角質(zhì)材料是惰性的化合物。優(yōu)選地，使用其中通過聚合物或其他固體或塊狀結(jié)構(gòu)固定或承載可光降解或光致 釋放官能的化合物。作為一個示例，可使用在文章C.P. McCoy et al. , J. Am. Chem. Soc. , 2007,129, 9572中描述的3-5-二甲氧苯偶姻官能以及有色產(chǎn)品。在光造成初始為無色的化合物例如變成另一形式、隨后第三動作將該已改變的但 仍無色的化合物變換成具有不同顯示的形式(例如，有色的)的意義上，上述機制也可以是 間接的。當?shù)谌齽幼鞑煌刈饔糜谶€未被光改變的化合物上和已被改變的化合物上，以及 例如未被改變的化合物被變換并且改變顯示(例如，變成有色的)，而已被改變的化合物保 持其例如無色的顯示時，該機制也是間接的。作為一個示例，可以使用重氮印相法原理，該原理使用重氮鹽化合物以及另一種 能夠通過偶聯(lián)反應進行反應的芳香族化合物。照射破壞重氮鹽(氮的釋放)。隨后還未被 照射的重氮化合物通過PH的簡單跳躍(例如，在存在氨水時)與偶聯(lián)者反應，以產(chǎn)生含氮 化合物。在這樣的情況下，選擇未被著色的重氮鹽化合物，例如，在環(huán)上具有重氮官能但不 具有胺或羥基官能的芳香族化合物。該偶聯(lián)者可以是諸如苯胺的簡單的芳族胺或苯酚衍生 物。因此，根據(jù)下述反應使未被照射的部分顯色
<formula>formula see original document page 10</formula> 當顯色時，或僅在執(zhí)行特定動作，例如被帶入使它們具有所期望的熱穩(wěn)定性的化 學化合物的存在中時，所使用的光致變色劑可變成熱穩(wěn)定的。
熱穩(wěn)定光致變色組合物可包含總共為0. 001%至20% (以重量計)的光致變色 齊U，特別是熱穩(wěn)定光致變色劑。光致變色組合物也可包含任何適用于化妝應用的溶劑，特別是選自專利EP-A-O 938 887中提到的那些。該組合物可包括在EP-A-O 938 887的W029]至W041]段中命名的成分；該清單 通過引用被合并到本文中。降低敏感度的熱穩(wěn)定光致變餼組合物熱穩(wěn)定光致變色組合物可包括至少一種光學劑，所述光學劑減少其對紫外線或近 紫外線輻射的敏感度。特別地，熱穩(wěn)定光致變色組合物可包括一種或多種具有 對于其防護力F足夠的量 的光學劑，該防護力F在下文中被限定為2或更大，或甚至為5、10、15或20。測試防護力的方案使用類似于用于確定SPF的方案，區(qū)別在于未考慮皮膚的紅疹反應。待辨別的防護力的組合物以1.2mg/cm2 (毫克每平方厘米)的量被施用到出自 EUR0PLAST的尺寸為5cm(厘米)X5cm、厚度為3mm(毫米)、粗糙度為4. 5士1 μ m的鋪滿沙 的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板(沒有紫外線防護)上。用沉積10士 Img的凡士林145B來 預處理所述板。所述組合物可以以組合物的14個圓點被沉積并且用手指進行20秒的涂布， 制成Z字形并且每5秒鐘翻轉(zhuǎn)該板四分之一周。在涂布后，維持0. 6mg/cm2的組合物。允許干燥20分鐘(min)，隨后再次進行涂布。使用分光輻射度計(例如具有累計球的Labsphere紫外線透射率分析器)測量從 290nm至400nm的漫透射率。記錄透射量Τ( λ)的每個值。對于所給定的照射波長λ，透 射量Τ(λ)是透射光能量與入射光能量的比例。每個板被測量5次(移動所述板)并且對 這5次測量取平均值。在5個板上進行該操作。取5次測量的平均值。通過如下兩個積分的比給出相對于日光紫外線輻射(290nm至400nm)的防護力 F
<formula>formula see original document page 11</formula>其中，Ι(λ)是表示太陽光譜的每個波長的出現(xiàn)的函數(shù)。Ι(λ)與出版物 COLIPAGUIDELINES Edition of 2007 :A METHOD FOR THE IN VITRODETERMINATION OF UVA PROTECTION PROVIDED BY SUNSCREENPRODUCTS 中用于計算生物體外的 SPF 的相同。若 F = 1，則該組合物不防護。術語“作為對波長為λ的輻射的防護”的意思是，光學劑以至少為2的減弱因子 減弱波長為λ的輻射，使用用于測量吸收光譜的裝置進行測量，將照射光限制在波長為 λ 士 IOnm的區(qū)域內(nèi)。比例<formula>formula see original document page 11</formula> 其中，Ι(λ)和Τ(λ)與上述定義的一樣，提供在波長λ處的減弱因子。
熱穩(wěn)定光致變色組合物可具有至少一個在λ工至λ 2的間隔內(nèi)的波長范圍P，其中， 照射被較少地防護，防護力在該范圍內(nèi)為平均值Fai, λ2，其中，F(xiàn)/FA1, λ2 > 2，優(yōu)選F/FA1, λ2 >5。范圍P的寬度可小于80nm，優(yōu)選小于40nm。？^，；^被定義為
<formula>formula see original document page 12</formula>并且以上述方式被測量，用X1和λ 2替代極限值290和400，其中，λ2> λ廠適當?shù)?，熱穩(wěn)定光致變色組合物可包括在與空氣接觸的情況下緩慢著色的變色著 色劑，例如顏色隨著時間增強的著色劑并且若可能、則緩慢地增強，例如DHA或多酚。熱穩(wěn) 定光致變色組合物可例如包括用超過半小時來變成90%顯色的著色劑。這種著色劑的優(yōu)點 可為一旦已產(chǎn)生了光敏化妝妝容，這種著色劑就產(chǎn)生防護力，從而例如阻止光敏化妝圖案 在環(huán)境光下的惡化。 <formula>formula see original document page 12</formula>根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，第一層由熱穩(wěn)定光致變色組合物構(gòu)成，并且包含部 分或全部未活化形式的或作為前體的光學劑。未活化形式的或在前體狀態(tài)下的該光學劑還 沒有被充分活化，以保護光敏化妝的效果。在光敏化妝之后，第二層的應用起活化該未活化的光學劑或使該前體進入光學劑 形式的作用，該光學劑在形成對使所述熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色的輻射的防護方面有 效。作為一個示例，在所述層中的一層中的前體形式中，光學劑可以是來自卟啉類的 著色劑，通過在其他層溶液中鹽的存在為其提供更大活性，例如，鋅、鐵或鎂鹽。植物制劑形式根據(jù)應用和其組分的性質(zhì)，熱穩(wěn)定光致變色組合物可被表現(xiàn)為多種植物制劑形 式。本發(fā)明的熱穩(wěn)定光致變色組合物包含化妝可接受的媒介，即與所有角質(zhì)材料相容 的媒介，所述角質(zhì)材料例如皮膚、指甲、頭發(fā)、睫毛和眉毛、黏膜和半黏膜、以及身體和臉的 任何其他皮膚區(qū)域。特別地，所述媒介可包括或形式為任選增稠的或凝膠的懸浮液、懸漂 液、在溶劑或水醇媒介中的溶液；水包油乳液、油包水乳液、或復合乳液；凝膠或泡沫；凝膠 乳液；噴霧；疏松的、緊密的、或碎粉；無水膏；或薄膜等。處理過的區(qū)域通?；瘖y的身體的任何部分都可接受根據(jù)本發(fā)明的光敏化妝，例如指甲、睫毛、頭 發(fā)、皮膚并且特別是臉的皮膚(例如臉頰、額頭、嘴唇或眼褶)、脖子、胸部或腿。也可以處理很少化妝的身體部分，例如耳朵、手、或牙齒。這些區(qū)域具有復雜的形 狀，不利于容易地應用傳統(tǒng)化妝產(chǎn)品。盡管其形狀復雜，但是光敏化妝能夠獲得美學效果。光敏化妝可用于遮蓋皮膚瑕疵。光敏化妝可任意重復使用者所穿戴的服裝或飾物的圖案，例如在珠寶、錢包、目艮 鏡、鞋、配件、個人數(shù)字助手(PDA)、或手機上的圖案。適當?shù)?，出售這樣的服裝或這樣的飾物時可附上允許產(chǎn)生的與該飾物或服裝相配的光敏化妝妝容的資料或網(wǎng)絡鏈接。該資料或網(wǎng)絡鏈接可提供產(chǎn)生為了與服裝或飾物相配而已經(jīng)設計好或選擇的圖像所需數(shù)據(jù)的訪問。作為一個示例，它可以重復全部或部分的圖案或者它可以完成他們。


·圖1為根據(jù)本發(fā)明制成的用于進行光敏化妝的系統(tǒng)的一個示例的簡圖和不完整 視圖；·圖2示出在光照射期間如何保持待處理的區(qū)域；·圖2a示出在像素化圖像內(nèi)圖案的形成； 圖3至圖6為輻照器的變型的簡圖和局部視圖； 圖7至圖10以及圖IOA示出使用多種技術的可尋址矩陣成像器的不同示例； 圖11至圖13示出光敏化妝的示例；·圖14A至圖14C以及圖15A至圖15C示出光敏化妝進程的示例；·圖16表示能使組合物在被施用前顯色的包裝裝置的示例。施加方式可以以粉末、液體、噴霧或薄膜的形式施用適用于實現(xiàn)本發(fā)明的該或每種組合物。 該液體可以具有不同的流變學。例如，它可以為當被涂抹在角質(zhì)材料上時涂布的產(chǎn)品塊，或 它可以是液體。熱穩(wěn)定光致變色組合物或任選的光保護組合物的層，更確切地說，光保護組合物 層可以干粉或接近干粉的形式被施用。該或每種組合物可任選為預先形成的薄膜形式。優(yōu)選地，當使用多層施用時，優(yōu)選以不破壞已經(jīng)施用的第一層的方式施用第二層。 為此，優(yōu)選可以通過噴灑施用旨在形成第二層的組合物。也可使用打印機執(zhí)行施用，例如使用噴墨打印機，使用與待處理區(qū)域進行接觸并 且任選地在其上移動的裝置。當噴灑一層或多層時，可使用任何噴灑技術，例如利用氣霧發(fā) 生劑、噴筆、或靜電或壓電噴灑來進行噴灑。也可通過轉(zhuǎn)印來執(zhí)行施用，使用承載組合物中 的至少一種或甚至待形成的多層的支撐薄片。轉(zhuǎn)印可通過壓力、熱力、和/或通過使用被沉 積在根據(jù)本發(fā)明的待處理的支撐薄片和/或角質(zhì)材料上的溶劑來實現(xiàn)。所述施用可以手動或以自動方式執(zhí)行，例如使用操縱器機械手。每一層可以在其之前的一層干燥后被施用?？墒褂每赡苁且淮涡允┯闷鞯氖┯闷鬟M行施用，所述施用器包括載有待施用的組 合物的施用構(gòu)件?？稍诔鍪厶?、在美容沙龍、或在家里等施用所述組合物。在使用前，每種組合物可被包裝在任何合適的容器內(nèi)。在確定環(huán)境光的強度不損害光敏化妝妝容的質(zhì)量后，可施用所述組合物、特別是 熱穩(wěn)定光致變色組合物?？墒褂镁瘓笱b置進行確定，若環(huán)境光包含過強的紫外線或近紫外 線輻射，例如，具有0. lmW/cm2或0. 5mff/cm2的能量密度，則該警報裝置提醒使用者，若需要， 則可調(diào)整該閾值。這種裝置可以是獨立存在的或與包裝裝置或施用熱穩(wěn)定光致變色組合物 的裝置整合為一體、或者甚至與包裝裝置或施用光保護組合物的裝置整合為一體。
適當?shù)?，根?jù)紫外線輻射的水平，由警報裝置傳送的信息還對在多種組合物中選擇熱穩(wěn)定光致變色組合物、光保護組合物、和/或作為底層的組合物有用。如上所述，適當?shù)?，熱穩(wěn)定光致變色組合物可以在完全顯色狀態(tài)下或在未顯色狀 態(tài)下被施用。熱穩(wěn)定光致變色組合物以及旨在形成涂層或底層或光保護層的組合物可以是多 種形式的，例如，霜、凝膠、液體、通過手或使用施用器例如滾搽涂布的組合物的形式?？赏ㄟ^移動與角質(zhì)材料接觸的組合物塊來施用該組合物，例如唇膏。此外，可通過 使用噴霧罐、泵瓶、或靜電、壓電、噴筆噴霧裝置進行噴灑來施用該組合物。組合物可以為干性形式，例如粉末，若需要，該組合物可通過刷子或畫刷來施用。當想要在顯色狀態(tài)下施用光致變色組合物時，該光致變色組合物可被包含在如圖 16所示的包裝和施用裝置中，該裝置包括包含該組合物的容器1000、發(fā)射紫外線例如以使 該組合物顯色的光源1010、以及施用器裝置例如施用器畫刷1020。用于講行光敏化妝的系統(tǒng)可以從圖1中大致看出，可使用用于進行光敏化妝的系統(tǒng)1產(chǎn)生光敏化妝妝容，該 系統(tǒng)1包括輻照器3，該輻照器3包括至少一個光源2。根據(jù)情況，例如通過使熱穩(wěn)定光致 變色組合物包含的光致變色劑從未顯色狀態(tài)變成顯色狀態(tài)，和/或通過使包含在熱穩(wěn)定光 致變色組合物中的光致變色劑從顯色狀態(tài)變成未顯色狀態(tài)而用于擦除所述光致變色劑，成 像器可用于使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色。當組合物初始為未顯色狀態(tài)時，輻照器可以在 紫外線或近紫外線輻射可以使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色時例如發(fā)射紫外線或近紫外線?？赏ㄟ^被置于傳輸光至待處理區(qū)域的路徑上的、并且任選地接觸該待處理區(qū)域的 保護膜或底片來限定圖像。輻照器優(yōu)選包括一個或多個成像器4，用于在距待處理區(qū)域Z —定距離處形成至 少一個圖像。在簡化形式中，成像器可使用保護膜或底片以及光學裝置來投影于待處理區(qū)域 上。該底片可以是紫外線底片，允許在紫外線或近紫外線光中形成圖像。光源2可包括任何類型的發(fā)光元件，例如白熾燈、鹵素燈、放電燈、和/或電致發(fā)光 元件、特別是一個或多個發(fā)光二極管(LED)、有機發(fā)光二極管(OLED)或其他電致放光技術。如在下文中詳細描述的那樣，輻照器3可包括多個光源，以一方面發(fā)射紫外線或 近紫外線，而另一方面發(fā)射可見光、特別是發(fā)射超出近紫外線的可見光。有利地，輻照器包括光源以及成像器，能夠有選擇地發(fā)射紫外線或近紫外線以及 發(fā)射可見光。將在可見光中的圖像投影變成在紫外線中的圖像投影可通過改變光源來實現(xiàn)，例 如通過使用可移動的鏡子、通過使用半透明表面、通過添加或移除過濾器、和/或通過使用 倍頻器或三倍頻器來改變光源。如在下文中詳細描述的那樣，當光致變色劑允許時，在進行顯色和/或?qū)е鹿饷?化妝從已經(jīng)至少部分顯色的區(qū)域被移除之前，使用可見光使得投影在待處理區(qū)域上的圖像 能夠被看到。如可在圖1中看到的那樣，該用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可包括計算機10，該計算 機10可與用戶接口 11結(jié)合，該用戶接口包括例如鍵盤、鼠標、觸摸屏、聲音識別引擎、繪圖板、手柄、和/或觸控板；該清單為非限制性的。計算機10可包括微型計算機以及例如使用微控制器、微處理器、和/或可編程邏輯陣列制成的模擬和/或數(shù)字的更通用的任何計算裝置?？梢砸砸粋€或多個裝置的形式制成計算機10，并且當使用電子成像器時，適當?shù)兀?該成像器可執(zhí)行全部或一些計算。計算機10也可與顯示裝置12結(jié)合，顯示裝置12例如為 彩色屏幕，例如為LCD、等離子體、OLED或陰極射線類型，任選為觸摸屏。如下所述，該顯示 裝置12可用于在處理期間顯示被處理區(qū)域，使得處理能夠被控制和/或使得能夠顯示模 擬。計算機10也可與數(shù)據(jù)存儲裝置13結(jié)合，數(shù)據(jù)存儲裝置13例如為硬盤、磁帶、光 盤、和/或閃存，該數(shù)據(jù)存儲裝置可被集成到計算機10、輻照器3內(nèi)，和/或至少部分遠離的 在外部數(shù)據(jù)存儲系統(tǒng)中。計算機10可與網(wǎng)絡接口 14結(jié)合，網(wǎng)絡接口 14用于例如下載屬于光敏化妝的數(shù)據(jù) 或致使關于正在被施用或已經(jīng)被施用的光敏化妝的數(shù)據(jù)被傳輸至第三方或傳輸至服務器。適當?shù)?，計算機10可有利控制產(chǎn)生用于形成圖像的光的光源，使得該圖像通過預 先限定的發(fā)光體形成。如下所述，成像器有利為電子可尋址矩陣成像器，計算機可將數(shù)據(jù)發(fā)送至該成像 器，從而使預先限定的圖像被投影在待處理區(qū)域Z上。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被設置有至少一個使得圖像能夠被手動或自動聚焦 的光學和/或電子系統(tǒng)，以及有利地設置有防止移動的裝置。為了保持被處理區(qū)域相對于輻照器靜止，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可包括用于保 持人靜止的裝置，這意味著可避免移動和模糊效果。當在臉上形成圖像時，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成檢測臉是否放松，并 且根據(jù)該檢測控制成像器。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)1可包括平坦部分，或它可遵循身體一部分的形狀并且 該部分可被定位成緊靠著待處理區(qū)域。在一個變型中或附加地，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可包括用于矯正移動的系統(tǒng)， 例如，與用于在靜止或運動電影攝影機中穩(wěn)定圖像的系統(tǒng)相同類型的系統(tǒng)。當處理臉時，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可包括用于以腮托形式固定待處理個體的 裝置8，如可在圖2中看到的那樣。在一個變型中，例如，輻照器3為便攜式的并且可被固定在由待處理的個體所攜 帶的托架上，從而照亮臉。如在下文中詳述描述的那樣，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)1可包括光學獲取裝置 16，在本發(fā)明的一個實施方式中，該光學獲取裝置可將數(shù)據(jù)傳輸給計算機10，以便使它提供 光敏化妝妝容和/或以便控制其產(chǎn)品。光學獲取裝置16可有利地具有觀察軸，該觀察軸大 體上平行于圖像的投影方向。該光學獲取裝置可以是單像素或多像素的，并且它可直接接 收由成像器所發(fā)射的光，或者它可接收由待處理區(qū)域Z反射的光。任選的光學獲取裝置、輻照器、任選的計算機、以及任選的觀察屏可以以分立元件 的形式產(chǎn)生或者它們可以被集成在同一殼體中。輻照器和任選的光學獲取裝置可有利地被 集成在同一殼體中，或者它們可以由其他裝置固定在一起。
觀察屏可被固定在輻照器的殼體的后面或被集成在該殼體內(nèi)。適當?shù)?，光學獲取 裝置包括用于關閉獲取的內(nèi)部發(fā)光裝置。例如，輻照器的殼體也可以是可移動的并且可被應用到皮膚上，或者它可被把持 在手中。在本發(fā)明的一個實施方式中，輻照器的殼體可以例如被放在桌子上。隨后，臉可被 移動接近，以例如通過傾斜被放在該殼體上。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被設置有用于檢測眼睛和/或嘴張開或閉合的裝置， 以在眼睛和/或嘴張開時停止或不開始照射。光學獲取裝置16可提供通過計算機10為此 目的而進行分析的圖像。
當在臉上形成圖像時，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成識別臉，并且可以至 少根據(jù)該識別來控制成像器。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)有利地被設計成允許使用者以可視或其他方式評估光 敏化妝的進程。為此，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可包括允許在照射期間直接觀察被處理區(qū)域的窗 口，該觀察適當?shù)赝ㄟ^紫外線防護來執(zhí)行。為了允許室內(nèi)的人直接觀察，光可以從偏移位置 發(fā)出，并且可使用光纖或至少一個鏡子或棱鏡來引導光線并將輻射聚焦在待處理區(qū)域上。圖3為示出用于進行光敏化妝的系統(tǒng)的一部分的示意圖，該系統(tǒng)包括兩個朝向待 處理區(qū)域Z分別發(fā)射紫外線光和可見光的成像器4a和4b。在這兩個成像器4a與4b之間 設置有窗口 403，以允許在處理期間觀察區(qū)域Z。如可在圖4中看到的那樣，使用鏡子404或任何其他光學系統(tǒng)、例如光纖或棱鏡， 觀察區(qū)域也可以被偏置。在存在光學獲取裝置例如攝像機或數(shù)字攝影裝置的情況下，可在屏幕上觀察被處 理的區(qū)域Z，該屏幕可被置于輻照器上或可被偏置。圖5示出通過偏置光束產(chǎn)生輻照器3的可能性，通過使用鏡子18來引導光束朝向 待處理區(qū)域Z，該鏡子18允許使用者通過輻照器的窗口 20觀察被處理區(qū)域Z。圖6示出產(chǎn)生具有兩個分別發(fā)射紫外線和可見光的光源2a和2b的輻照器3的可 能性。在圖6中示出的輻照器包括置于光源2b前面的顏色過濾器302，例如綠色過濾器； 可調(diào)整的校準光學裝置303 ；以及可移動的鏡子304。在本示例中的輻照器3允許底片308 被置于光路上?？烧{(diào)整的校準光學裝置303使底片的圖像出現(xiàn)在距輻照器3的光學出口一 定距離處，例如在大約二十厘米處。輻照器3設置有兩個開關306和307。第一個開關驅(qū)動光源2a和2b?？梢苿拥?鏡子被布置成使得對于第二開關的給定位置只有可見光被引導朝向光學出口。例如通過觸 發(fā)微型電動機或電磁鐵，驅(qū)動開關移動可移動的鏡子，并且隨后紫外線照射被引導朝向底 片 308。如上所述，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)有利地包括電子可尋址矩陣成像器。電子可尋址矩陣成像器作為示例，可尋址矩陣成像器適用于投影像素化的圖像，該圖像的分辨率大于 IOX 10像素，優(yōu)選大于IOX 100像素。當所述成像器為電子可尋址矩陣成像器時，形成在待處理區(qū)域上的圖像通過亮或 滅的像素形成，任選地，每個像素處于預先設定的灰度級。作為一個示例，圖2A示出圖2的細節(jié)，其中，所產(chǎn)生的光敏化妝P由嘴唇輪廓構(gòu)成。圖2A示出所投影的圖像的各個像素的位置；只有相應于待產(chǎn)生的輪廓的像素被點亮。熱穩(wěn)定光致變色組合物的顯色匹配于像素 的狀態(tài)。離開可尋址矩陣成像器的光可以是單色的或多色的；優(yōu)選地，該可尋址矩陣成像 器能夠有選擇地發(fā)射紫外線或近紫外線以及超出近紫外線的可見光，所發(fā)射的可見光可以 是白光或有色光，任選為單色光。計算機10可確定數(shù)字圖像，特別是每個像素的灰度級，以及任選地在每個像素處 的光的主波長，其中，基于所述數(shù)字圖像控制電子成像器?？墒褂枚喾N技術產(chǎn)生該可尋址矩陣成像器?？墒褂糜蒚EXAS INSTRUMENTS發(fā)明的被稱為DLP (數(shù)位光處理)的技術，DLP使用 DMD (數(shù)字微鏡裝置)芯片，該芯片由數(shù)千個通過使用電脈沖分別控制的定向微鏡構(gòu)成，并 且根據(jù)微鏡的方向，微鏡可任選地反射入射光束，從而將它傳輸或不傳輸至成像器的光學 出口。待投影的圖像被形成在鏡子的矩陣上。每個像素中的灰度級(例如256個灰度級) 可通過調(diào)整線圈間隙因數(shù)來控制。圖7示出使用采用具有參考標號111的DMD芯片的該技術產(chǎn)生的電子成像器4的 示例。該芯片可被固定在壓板112上，該壓板12也可包括用于控制該芯片的處理器113以 及任選的存儲器114。在所示的示例中，芯片與處理器113以及存儲器114在同一壓板上， 然而，這些器件可被置于其他位置。圖7中示出的成像器4接收來自光源2的光，該光源2可以為能夠發(fā)射紫外線和 /或可見光的光源，或者可以為能夠有選擇地發(fā)射可見光或紫外線的光源。例如，光源2可以是發(fā)射紫外線和可見光光譜的鹵素燈、放電燈、或者一個或多個 能夠發(fā)射紫外線并能夠發(fā)射白光或給定顏色的光的LED。如圖所示，成像器4可包括分別用于聚集光、將光聚焦在DMD芯片上、并將光引至 待處理區(qū)域的光學裝置118、119和120。當光源2具有紫外線和可見光的發(fā)射光譜時，如圖所示，例如，成像器4可具有濾 光輪130，該濾光輪130與聚集光學裝置118和聚焦光學裝置119之間的光束相交。根據(jù)濾 光輪130的位置，所述芯片接收隨后被引導朝向光學出口的紫外線或可見光。因此，可以在 待處理區(qū)域上有選擇地形成來自可見光和/或紫外線光的圖像。在圖8的變型中的輻照器使用多個被固定在棱鏡上的DMD芯片，該棱鏡將來自光 源2的入射光分成至少兩個具有不同主波長的光束，例如分別為紫外線或近紫外線光束以 及可見光光束。被DMD芯片反射的光束被朝向待處理區(qū)域投影。通過控制與紫外線或近紫外線光束相關的DMD芯片以及與可見光光束相關的芯 片，紫外線光束或可見光光束、或者可能是兩個光束可立即被投影到待處理區(qū)域上；當顯色 發(fā)生的相對緩慢時，這可以是有用的，從而能夠以可視的方式監(jiān)控用作執(zhí)行顯色的光的正 確位置。輻照器也可使用液晶顯示(IXD)技術。在圖9所示的示例中，光源2被引導向分光鏡125上，所述分光鏡產(chǎn)生至少兩個具 有不同主波長的光束，例如，所述光束中的一個具有紫外線或近紫外線內(nèi)的主波長，而另一個光束具有在可見光內(nèi)的主波長。光束被鏡子125和126引導朝向IXD矩陣屏127，在IXD矩陣屏127上形成待投影 的圖像，產(chǎn)生被引導朝向棱鏡系統(tǒng)128的單色圖像，使得該圖像能夠通過投影光學裝置120 被傳送至待處理的表面上。根據(jù)屏127的不透明度，所發(fā)射的光在可見光區(qū)域內(nèi)或在紫外 線區(qū)域內(nèi)。在圖10中示出的輻照器3包括IXD矩陣屏132以及光源2，該光源2照亮屏132。 其上形成的圖像利用投影光學裝置120被投影到待處理區(qū)域上。作為示例，光源2能夠選 擇性地發(fā)射紫外線或可見光。在一個變型中，屏132可取代圖6所示的示例中的底片308。投影系統(tǒng)也可基于硅基液晶(LCOS)技術。IXD技術被稱為透射式，因為光穿過IXD 屏，而DLP技術被稱為反射式，因為光被DMD芯片的微鏡反射。在LCOS技術中，DMD芯片的 鏡子被覆蓋有液晶層的反射表面取代，該液晶層可在光通過狀態(tài)與光阻隔狀態(tài)之間切換。 通過調(diào)整頻率，可改變像素的灰度級，在所述頻率上液晶被開啟和關閉。作為示例，可使用圖7和圖8中所示的布置，用LCOS芯片取代DMD芯片。圖IOA示出一種LCOS芯片輻照器。鏡片系統(tǒng)901可被置于光源2 (例如，紫外線 燈)和半透明鏡子903之間。這將光從光源反射至芯片900。該芯片再次將光反射至將像 素化的圖像投影到待處理區(qū)域上的聚焦系統(tǒng)120。通常，由可尋址矩陣成像器傳送的圖像包括可獨立尋址的灰度級的像素矩陣，例 如，每個灰度級被編碼成至少4比特，優(yōu)選為8比特。與每個像素相關的光也可被適當?shù)鼐?碼。待投影的圖像可以視頻信號的形式或以視頻或數(shù)字圖像文件的形式提供給電子 成像器，該視頻信號符合VGA、SVGA、合成的、HDML、SVIDEO、YCbCk、光學視頻信號、或其他標 準，所述視頻或數(shù)字圖像文件例如是.jpeg、. pdf、. ppt等文件。當這些圖像不是單色的時， 例如，文件中的圖像上的預先限定的顏色可控制紫外線或近紫外線的量。電子成像器被有利地產(chǎn)生，以便能夠在不改變圖像的情況下改變所發(fā)射的光的性 質(zhì)；作為一個示例，圖像的像素保持其灰度級，而只有在上游使用的光源的發(fā)射光譜改變。 這使得圖像能夠在待處理區(qū)域上被可視化，并且隨后通過簡單地調(diào)整光源的發(fā)射光譜，可 使該區(qū)域顯色。成像器可用于投影可見光，從而有選擇地擦除一種或多種光致變色劑以及產(chǎn)生源 于處在顯色狀態(tài)下的熱穩(wěn)定光致變色組合物的光敏化妝妝容。例如，該成像器則可以是傳 統(tǒng)的視頻投影儀。投影圖像的選擇特別地，當使用電子可尋址成像器時，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)優(yōu)選被設置有用 于選擇投影圖像的裝置。這可通過從圖像庫中選擇來實現(xiàn)，可能通過連續(xù)顯示所述庫中的 圖像并且用戶選擇顯示的圖像來從圖像庫中選擇。圖像可以以數(shù)字或攝影的形式被存儲在 例如數(shù)據(jù)存儲裝置中。該圖像庫可被包括在用于進行光敏化妝的系統(tǒng)中，或者可被下載。在本發(fā)明的一個實施方式中，所使用的圖像始于將要接受光敏化妝的個體，或者 始于諸如名人的模特或給定類型的個體，所述圖像可能取自化妝過的或未化妝的人。也可 使用源自圖片、表格、素描、或漫畫的圖像來產(chǎn)生投影圖像。
計算機可在其存儲器中具有或可下載至少一個線條或畫筆筆畫形式的圖畫模型， 或者甚至是單個的點或一系列線條、筆畫、或點。所形成的圖像可根據(jù)所獲取的圖像被自動確定。這使得投影圖像能夠適用于形態(tài) 學和/或適用于臉的顏色。從所捕獲的臉的位置開始，計算機可準確地定位旨在產(chǎn)生光敏化妝妝容的圖像。因此，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可用在包括下述步驟的方法中·獲取至少一個待化妝對象的區(qū)域的圖像；·根據(jù)所獲取的圖像控制成像器。作為一個示例，可使用光學獲取裝置16來獲取該圖像，光學獲取裝置16可用于捕 獲臉的全部或一部分、或者身體的任何其他被處理區(qū)域。作為一個示例，為了在上眼瞼上產(chǎn)生光敏化妝，可執(zhí)行下述步驟·捕獲臉部圖像，并且以此推斷眼瞼區(qū)域；· 一旦熱穩(wěn)定光致變色組合物已被施用到眼瞼區(qū)域上，就照射將在眼瞼區(qū)域上產(chǎn) 生的圖畫模型；因此，所產(chǎn)生的光敏化妝被形成在正確的位置上。在當所有的像素被點亮 時圖像能夠覆蓋更大的延伸區(qū)域的情況下，在待處理區(qū)域位置處的照射可通過僅點亮相應 的像素進行。為通過更好的分辨率獲益，被處理區(qū)域可以例如涉及圖像的像素總數(shù)的至少 2/3。計算機也可調(diào)整圖畫模型的形狀，從而使它適應臉部的形狀。因此，例如，若希望 給嘴唇化妝，則可執(zhí)行下述步驟·捕獲臉部的圖像，并且以此推斷嘴唇的區(qū)域；·比較嘴唇的形狀和待復制的圖畫模型；·調(diào)整圖畫模型，使得它被內(nèi)接在嘴唇的形狀內(nèi)；· 一旦熱穩(wěn)定光致變色組合物已被施用在嘴唇上，就照射它們以產(chǎn)生調(diào)整過的圖 畫模型。該方法也可被應用于身體的其他區(qū)域。因此，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可設置有下述四個功能·捕獲待處理的臉部或身體的任何其它區(qū)域的圖像；·通過分析待處理的臉部或任何其他部分的圖像，將待產(chǎn)生的圖畫模型的位置鎖 定在將要接受它的身體的臉部的部分上；·任選地，調(diào)整圖畫模型的形狀，以使它適應臉部的形狀；·控制旨在產(chǎn)生光敏化妝的圖像的投影。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可包括用于獲得臉部的3D形狀的裝置。用于進行光敏 化妝的系統(tǒng)可包括光學獲取裝置，用于例如通過投影邊緣來檢測浮凸，和/或用于檢測光殼。在本發(fā)明的一個實施方式中，自動確定所使用的圖畫模型。該選擇可以以隨機方 式或通過使用程序邏輯執(zhí)行，所述程序邏輯使用優(yōu)化臉部外觀的規(guī)則，例如與臉部的顏色 協(xié)調(diào)方案或自然協(xié)調(diào)方案一致。因此，例如，對于白皮膚的臉部，可能產(chǎn)生雀斑。還可通過應用邏輯來做選擇，從而為不對稱的臉部恢復對稱性，和/或通過應用 光和影以使棱角太分明的臉部變得較圓或反之亦然，或從而修正天生的或不吸引人的比 例。
在本發(fā)明的一個實施方式中，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)提出多個圖畫模型，留給 使用者自由選擇一個。這些提議可以被生動地表示，例如通過在屏幕上顯示。所提出的圖 畫模型可被疊加在將要接受光敏化妝的對象的圖像上，或該模型可以被顯示在通過圖形描 述臉部的屏幕上。可使用任何允許使用者選擇圖畫模型的接口。作為一個示例，提供給使 用者的圖畫模型的描述可通過描述用于進行光敏化妝的系統(tǒng)計劃執(zhí)行的動作而以口頭形 式給出ο用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成自動檢測在待處理區(qū)域上的皮膚瑕疵，并且 可根據(jù)檢測到的瑕疵的性質(zhì)來控制成像器。例如，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被設置有旨在識別瑕疵的特殊識別功能，所述 瑕疵例如為 斑、黑頭、粉刺、草莓斑、疙瘩；·皺紋、裂紋、妊娠紋、條紋； 明顯的凸起或凹陷部分，例如疤痕；·不對稱性·蛻皮；·無光澤的或發(fā)亮的皮膚；·體毛?？赏ㄟ^圖像分析和/或形狀分析檢測瑕疵。該圖像分析可以是3D圖像分析。該 圖像分析可包括顏色和/或光亮的分析。用于進行光敏化妝的化妝系統(tǒng)也可設置有允許圖畫模型被計算或被選擇用以限 制所述瑕疵的明顯性的功能。可提及的這些圖畫模型的示例是旨在模糊被探測到具有瑕疵 的部分的圖畫模型以及旨在改變某些部分、特別是疤痕或不對稱性的輪廓的圖畫模型。在本發(fā)明的另一個實施方式中，使用者或第三人可限定待產(chǎn)生的圖畫模型。因此， 使用者或第三人可發(fā)送由用于進行光敏化妝的系統(tǒng)解釋的命令。這些命令可以是圖形的， 并且用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可包括觸摸屏類型的人機接口。使用者通過在臉部的圖像上 或在臉部的圖形上指定待產(chǎn)生化妝線的區(qū)域來發(fā)送化妝命令。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可 被配置成解釋來自使用者的指令，以使它們適應臉部的形勢，并且隨后產(chǎn)生光敏化妝妝容。命令可以是描述，例如“在嘴唇區(qū)域涂上紅色”或者命令可以是直觀的，例如“眼瞼 化妝”。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)隨后將以傳統(tǒng)的或特殊編程的方式采取行動，以解釋所要 使用的默認圖畫模型。命令可被編程，并且程序可以是個性化的。從推薦的圖畫模型中選擇或確定待產(chǎn)生的圖畫模型的人可以是正在被化妝的人 或其他人，例如專業(yè)化妝師?？稍诋a(chǎn)生光敏化妝妝容的位置或者遠程地選擇或產(chǎn)生圖畫模 型。當遠程操作時，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可設置有通信裝置，使得處理區(qū)域的圖像可被 傳遞，例如上述的網(wǎng)絡接口 14。任選地，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可設置有用于從雜志或其他媒體中捕獲化妝妝 容的裝置，以及從所捕獲的化妝妝容制成圖畫模型并且隨后將其重現(xiàn)在待處理區(qū)域上的裝 置，例如掃描儀或RFID芯片閱讀器，該芯片包含對化妝妝容的描述或允許它被下載的網(wǎng)絡 鏈接。該芯片可被包含在包含用于產(chǎn)生光敏化妝妝容的組合物的包裝中，或被包含在服裝的物件或其他具有特定圖案的配飾中，該圖案可用光敏化妝來重現(xiàn)。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成以模擬的形式連續(xù)顯示許多類別的圖畫模 型，從而允許人從中選擇待重現(xiàn)的模型。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可提供直接在臉上快速試用許多類別的模型的可能性。 因此，人可以以真實形式發(fā)現(xiàn)所述模型是否將適合他或她。這些模型可以是通過可見光投 影在臉上的圖像，所述圖像不使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色，或者是使用熱穩(wěn)定光致變色 組合物產(chǎn)生的光敏化妝妝容，該熱穩(wěn)定光致變色組合物也可例如通過可見光的照射而被擦 除。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可有利地具有在存儲器裝置13中的其存儲器中的多個 預先記錄的模型，并且可記住它已經(jīng)能夠產(chǎn)生的圖畫模型。通過這種方式，使用者可使用或 更換所記錄的圖畫模型。在本發(fā)明的一個實施方式中，一旦已選擇了圖畫模型，就自動執(zhí)行調(diào)整圖畫模型 以適應人的臉部的形勢以及通過投影圖像產(chǎn)生光敏化妝。分隔捕獲臉和產(chǎn)生圖像的時間間 隔可變得相對短，例如小于一秒。
在本發(fā)明的另一個實施方式中，在執(zhí)行操作時，接受光敏化妝的人或第三人可干 預。則產(chǎn)生化妝可能比之前更慢。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成便于允許該接受光 敏化妝的人或第三人例如在屏幕12上觀察光敏化妝的進程，從而減慢或停止其進程。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可任選定期地重新捕獲臉部，從而重新開始鎖定和調(diào)整 圖畫模型以適應臉部的操作，因此消除在意圖使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色期間由于人的 移動而可能產(chǎn)生的任何問題?？蛇B續(xù)地產(chǎn)生多個部分光敏化妝妝容。因此，在產(chǎn)生光敏化妝妝容的過程中，可確 定每個圖畫模型，可通過眼睛評估其效果，隨后可選擇下一個圖畫模型等，因此逐步構(gòu)建光 敏化妝。如上所述，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成利用一個或多個專用程序評估最 合適于臉部或臉部的一部分的圖畫模型。因此，可通過產(chǎn)生第一圖畫模型，隨后通過第二次 評估臉部以由此推斷新的待產(chǎn)生的圖畫模型等等，來產(chǎn)生光敏化妝?？梢砸园胱詣臃绞教幚砟槻康囊徊糠?，而以自動方式處理另一部分。還可以以自 動方式處理臉的一部分至某種程度，隨后以半自動方式繼續(xù)該光敏化妝，反之亦然。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成例如使用上述的光學獲取裝置來獲得圖像， 任選地提取相應于待處理區(qū)域的部分，并且適當?shù)爻C正該圖像，以因此提高投影后的效果。所使用的用于進行光敏化妝的系統(tǒng)優(yōu)選被配置成允許使用者從投影在臉上或任 何其他待處理區(qū)域上的圖像開始、例如通過在一維或二維上放大或收縮來矯正形狀。所述 修改也可以更復雜。因此，例如，可以矯正圖像的一部分，拉伸特別區(qū)域，改變線條的尺寸 等。為此，可使用通常存在于用于產(chǎn)生或編輯圖像的軟件中的工具，例如Photoshop 。適 當?shù)?，可通過經(jīng)由光學獲取裝置的反饋來編輯圖像；計算機能獲知投影圖像的效果并自動 修改它直至利用執(zhí)行程序循環(huán)的用于進行光敏化妝的系統(tǒng)獲得所期望的效果。逐步產(chǎn)生光敏化妝光敏化妝可通過執(zhí)行下述步驟產(chǎn)生，包括·將熱穩(wěn)定光致變色組合物施用到待處理區(qū)域上；
·用選擇用于逐步使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色、或用于逐步擦除熱穩(wěn)定光致變色組合物的光照射該區(qū)域；·當實現(xiàn)所期望的外觀時，中斷和/或修改照射的特征，例如，該外觀要么相應于 熱穩(wěn)定光致變色化合物的部分顯色，要么相應于熱穩(wěn)定光致變色組合物的部分擦除。因此，更容易獲得想要的強度的化妝效果。在逐步發(fā)光期間，使用者和/或用于進 行光敏化妝的系統(tǒng)可監(jiān)控光敏化妝的進程，并且一旦實現(xiàn)所期望的效果就可以讓它停止變 化。類似地，若熱穩(wěn)定光致變色組合物允許，可執(zhí)行編輯，以在進行光敏化妝時或之后 進一步精致該光敏化妝。照射可至少一次被中斷隨后重新開始。在實現(xiàn)所期望的外觀前，可修改照射的主波長和/或強度。作為一個示例，通過修 改照射的強度，可改變熱穩(wěn)定光致變色組合物的顯色或擦除速率。通過調(diào)整主波長，可調(diào)整 施加在光致變色劑上的照射能量和/或效果?？梢灾鸩教幚碚麄€圖像，但也可以逐步的方式對圖像進行一部分接一部分地處 理，例如以自動的、程序化的、或可編程的方式?？墒褂霉饷艋瘖y連續(xù)產(chǎn)生多個圖案。已經(jīng)實現(xiàn)所期望的外觀的至少一個圖案可停 止被照射，而至少一個其他圖案仍然在被照射。所述圖案例如為雀斑，所述圖案可被連續(xù)地產(chǎn)生。因此，如圖13所示，可執(zhí)行特定程序以產(chǎn)生雀斑。該程序可通過合適的逐步照射 導致出現(xiàn)雀斑，所述雀斑的出現(xiàn)是從區(qū)域中心朝向區(qū)域外側(cè)(圖13A至圖13C)，或是從稀疏 分布至密集分布(圖14A至圖14C)，或是從小雀斑分布至大雀斑分布，或是以隨機的方式 (未示出)。照射可以足夠微弱，從而不會在緊隨照射開始的時刻內(nèi)引起主要的顯色。為允許足夠慢的顯色，每秒照射的能量E可小于或等于0. 5E0,優(yōu)選為0. ，其中 E0為使80%的熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色的每秒所需的能量。對于2E0是可能的。 當與未顯色狀態(tài)相比的顏色改變ΔΕ相應于最大可達到的顏色改變的80%時，認為80%的 熱穩(wěn)定光致變色組合物已經(jīng)顯色。類似地，當進行擦除時，每秒照射的能量Ε’可為0. 5Ε’ ^或更小，其中E’ ^為擦除 80%的熱穩(wěn)定光致變色組合物的每秒所需的能量。對于E’ ^ 0. 2Ε’ ^是可能的。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成分析待處理區(qū)域的顏色，隨后該分析的結(jié)果 可用于自動控制照射。作為一個示例，可在施用熱穩(wěn)定光致變色組合物之后并在實現(xiàn)所期 望的外觀之前分析顏色。這可以例如允許光敏化妝在已實現(xiàn)所期望的外觀時被自動停止。 例如，可通過分析形成在被處理區(qū)域上的圖像像素的顏色來測量顏色。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成執(zhí)行圖像的預先限定區(qū)域的分析，并且根據(jù) 相應區(qū)域中的顏色，可通過調(diào)整所觀察的各個區(qū)域內(nèi)的照射強度來控制照射。當用可尋址 矩陣成像器執(zhí)行照射時，則可精確地監(jiān)控被處理區(qū)域的多個像素中的照射。照射可以是恒定的或可變的。特別地，對于被稱為“培養(yǎng)”時間的給定時間，照射 可以是相當強的，隨后對于“微調(diào)”階段，照射被減弱。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被編程為間歇地傳送照射，一個示例為恒定的照射后為停止時期，例如為30秒或更短的時期，等等。當滿意時使用者可停止該過程。當使用者干預以停止照射并隨后重新開始照射時，照射可以足夠慢，以允許使用 者看見顏色變化，例如在CIE空間實驗室中，照射以每秒3個或更少單位的E的速率改變， 例如每秒大約2個單位的E。當照射的強度可調(diào)整時，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可設置有控制構(gòu)件，以調(diào)整減 少或增加照射的速度和/或幅度，控制構(gòu)件例如為可作用在照射的強度上的按鈕、傳感器、 手柄、聲音控制接口、或控制墊，特別地，在成像器的上游。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，使用者可根據(jù)需要停止或減弱照射，從而考慮和/或觀 察效果。根據(jù)照射程序的執(zhí)行由用于進行光敏化妝的系統(tǒng)為待執(zhí)行的照射做準備，并且在 程序執(zhí)行期間使用者可以中斷或停止該程序，或者從一個程序換成另一程序。該程序使得 照射隨時間的改變能夠由使用者限定或指定，例如從而調(diào)整照射增加或減少的速率。照射強度的增大或減小不一定造成圖像形狀或大小的改變。因此，為了調(diào)整照射， 可使用調(diào)整所產(chǎn)生的光通量的電學和/或光學系統(tǒng)，例如至少一個濾光器、光圈、和/或偏 光器、和/或用于改變電功率從而控制光源的裝置。照射的強度也可取決于圖像的像素的 灰度級。
用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成根據(jù)待產(chǎn)生的光敏化妝自動確定逐步發(fā)光 程序。作為一個示例，若在給定區(qū)域上的光敏化妝以產(chǎn)生相當?shù)惋柡投鹊念伾珵橹?，則用于 進行光敏化妝的系統(tǒng)可提供和/或應用指定微弱發(fā)光的程序。若在另一區(qū)域上的光敏化妝 以產(chǎn)生強烈顏色為主，則用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可提供和/或應用以首先發(fā)光較強隨后 發(fā)光較弱為主的程序，以允許使用者對光敏化妝效果進行微調(diào)。最初執(zhí)行的發(fā)光的能量密 度是隨后應用的發(fā)光的能量密度的至少兩倍。為確定照射的強度，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可以基于待施加的劑量的計算，從 而產(chǎn)生最終的光敏化妝妝容，并且應用規(guī)則以從中推斷出發(fā)光程序。作為一個示例，若計算 出需要XJ的劑量，則可快速施加X的80% (例如，通過一秒鐘)，隨后例如以每秒5%來施 加最后的20%。如上所述，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可設置有光學獲取裝置，該裝置允許在照射 開始時或在光敏化妝期間測量皮膚或其他角質(zhì)材料的顏色?？墒褂迷撔畔⒂嬎慊蛘{(diào)整逐步 發(fā)光。作為一個示例，可使用該信息，從而確定需要減少或停止發(fā)光的時間。用于光學獲取裝置的傳感器可以是單色的或多色的，具有單像素或多像素測量。表示光敏化妝進程的信息可被以各種方式傳遞給使用者，例如通過顯示表示產(chǎn)生 的光敏化妝的顏色的值，或表示過程完成度的值、例如百分比。表示所測量的顏色的顏色也 可被顯示在屏幕上。逆向過程用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可進行逐步降低光敏化妝的強度，從而通過使用適于將 光致變色劑恢復成未顯色狀態(tài)的發(fā)光使得光敏化妝的一個或多個部分消失或退化。通過這種方式，使用者可返回至之前的步驟并且更好的調(diào)整最終效果。有利地產(chǎn) 生用于進行光敏化妝的系統(tǒng)，使得使用者在期望的時候可停止逆向過程，重新開始光敏化
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對于某些光致變色劑，例如選自二芳基乙烯和俘精酸酐的光致變色劑，可通過用 可見光發(fā)光(例如，白光)取代全部或部分紫外線發(fā)光使光敏化妝逆向進行。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)優(yōu)選被配置成使得該可見光發(fā)光至少在與紫外線發(fā)光 相同的表面上延伸。肺斜Φ1致·誦翻絲致·當熱穩(wěn)定光致變色組合物包括多種在各不同波長處具有最大敏感度的光致變色 劑時，通過調(diào)整波長可有選擇地使所述光致變色劑中的一種或多種顯色。還可使用具有多種不同的光致變色劑的熱穩(wěn)定光致變色組合物，所述光致變色劑 處于顯色狀態(tài)并且在各不同波長處可被最大程度地擦除。適當?shù)?，這些光致變色劑可通過 相同的紫外線光顯色，但在可見光區(qū)域內(nèi)具有不同的擦除率，所述擦除率根據(jù)波長改變，使 得通過選擇波長，有利地擦除一種光致變色劑而非另一種。類似地，當光致變色劑能夠通過 紫外線光顯色時，它們可以以不同的速率顯色，該速率取決于紫外線區(qū)域內(nèi)的波長，并且通 過調(diào)整該紫外線波長，一種光致變色劑的顯色可優(yōu)于其他的光致變色劑。
光敏化妝的改變的樽擬在本發(fā)明的一個實施方式中，除了用于觀察光敏化妝的改變的系統(tǒng)外，用于進行 光敏化妝的系統(tǒng)還設置有用于模擬光敏化妝妝容的改變的系統(tǒng)，或者用該模擬光敏化妝妝 容的改變的系統(tǒng)取代用于觀察光敏化妝的改變的系統(tǒng)。因此，在光敏化妝之前和/或期間，使用者可觀察該模擬，并且可使用該模擬來決 定是否減慢或停止化妝或甚至逆向進行。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成使它在施用熱穩(wěn)定光致變色組合物之后且 在實現(xiàn)所期望的外觀之前可以模擬化妝效果。模擬的進程可與在待處理區(qū)域上的照射的進 程相關聯(lián)，不管該照射是用于使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色，還是相反地，用于將它擦除。 當所使用的輻照器允許時，光敏化妝的外觀的改變的模擬可被顯示在屏幕上和/或被投影 在被處理的區(qū)域上。該模擬可以用至少在長的足夠讓觀察者決定如何繼續(xù)處理的短時期內(nèi) 不會造成熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色或被擦除的光線來投影。工具的使用當用于進行光敏化妝的系統(tǒng)包括電子成像器時，可根據(jù)由使用者操作的工具來控 制它，計算機能夠根據(jù)該工具的移動修改投影圖像和/或照射的強度。該工具可包括將被 定位在待處理區(qū)域前面或上面的部分或?qū)⒈欢ㄎ辉谟糜谟^察待處理區(qū)域的屏幕前面或上 面的部分。該工具也可控制在用于觀察待處理區(qū)域的屏幕上或在待處理區(qū)域上形成的圖像 內(nèi)的指針的移動。用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成允許使用者控制將用逐步照射處理的特定 區(qū)域，并且為此允許使用者使用顯示裝置，該顯示裝置可以例如包括觸摸屏，使用者通過該 觸摸屏可通過按屏幕的特定區(qū)域來控制照射的進程。更優(yōu)選地，觸摸屏對使用者施加的壓 力強度敏感，并且用于進行光敏化妝的系統(tǒng)分析施加在屏幕上的壓力，并通過控制光的強 度和/或在相應于待處理區(qū)域的范圍內(nèi)的照射持續(xù)時間將該壓力轉(zhuǎn)化成光敏化妝的強度。 因此，例如，施加在觸摸屏上的較強壓力被轉(zhuǎn)化成增加的顏色強度。在本發(fā)明的一個實施方式中，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可檢測被置于觸摸屏上面 或前面的工具，并且使用者可使用該工具調(diào)整光敏化妝妝容。
作為一個示例，使用者可具有多個可用工具，每個工具都設置有辨認裝置，例如條形碼或FRID芯片，使得它能夠被用于進行光敏化妝的系統(tǒng)辨認。當使用者取得特定工具 時，它被辨認，并且每個工具可通過用于進行光敏化妝的系統(tǒng)與特定類型的化妝關聯(lián)。作為一個示例，使用者將具有相應于化妝線的多個工具，所述化妝線的粗度不同 和/或顏色強度不同、或者甚至化妝顏色不同。使用者拿著所選擇的工具，并且可在顯示裝 置上的圖像上方移動該工具，從而改變化妝妝容。化妝模擬可出現(xiàn)在觀察屏幕上，并且在由 用戶進行所需的確認后，出現(xiàn)在顯示裝置上的化妝妝容可由通過控制輻照器進行的光敏化 妝自動產(chǎn)生。圖像內(nèi)容的調(diào)整和/或修改在本發(fā)明的一個實施方式中，用與以可見光投影的模擬圖像相同的圖像產(chǎn)生光敏 化妝層。為此，用于進行光敏化妝的系統(tǒng)可被配置成將表示模擬的圖像傳輸至待處理區(qū)域， 例如臉部，由使用者決定將該圖像鎖定在臉上，或甚至去修改它。隨后，一旦該圖像已被正 確調(diào)整和限定，就使用同一光學裝置或類似的光學系統(tǒng)來傳輸不同于先前圖像的圖像，其 中，不同之處僅在于它是由紫外線光或近紫外線光形成的。特別地，當從可見光發(fā)光變成紫 外線光發(fā)光時，用于限定圖像的保護膜、底片、或可尋址像素的矩陣不需要已被修改。為此， 設置有紫外線光源和可見光光源的用于進行光敏化妝的系統(tǒng)適于使用一個或兩個成像器。若從幻燈片中獲得圖像，則可設計成允許用可見光光源和紫外線光源產(chǎn)生圖像。 為此，該幻燈片可以由過濾紫外線和可見光的材料制成。若通過電子成像器的可尋址像素的至少一個矩陣獲得圖像，多種配置是可能的·兩個光源，即紫外線光源和可見光光源，以及單個矩陣； 分別為紫外線和可見光的兩個光源，以及分別為紫外線和可見光的兩個矩陣。圖 像例如通過X棱鏡、或從被處理區(qū)域的任何一側(cè)的位置被投影來合成；·既發(fā)射紫外線又發(fā)射可見光的光源，以及具有例如分光鏡、可移動的鏡子、或選 擇向外的輻射的濾光器的紫外線或可見光成像器；·既發(fā)射紫外線又發(fā)射可見光的光源以及分別用于紫外線和可見光的兩個矩陣。投影圖像可被限制輪廓或一些參考點。隨后產(chǎn)生的光敏化妝可被內(nèi)接在這些點或 該輪廓內(nèi)。作為一個示例，當處理嘴唇時，可利用兩個參考點。使用者施用熱穩(wěn)定光致變色組 合物層。所述兩個點以可見光波長被投影，該可見光波長不能產(chǎn)生光敏化妝效果，例如在 450nm至800nm范圍內(nèi)的波長，并且優(yōu)選在500nm至700nm范圍內(nèi)。使用者將這兩個點定位 在嘴唇的兩個角處。一旦已執(zhí)行定位，紫外線照射就形成在這兩個點之間包括的嘴唇的圖像。在紫外線發(fā)光期間，可見光的圖像可被剪裁、縮減、或限制于參考點或被保留在與 它在可見光投影階段期間的狀態(tài)相同的狀態(tài)下。使用光敏化妝產(chǎn)生在瞼上的處理模板隨后使用它來處理區(qū)域?qū)⒐庵伦兩珓┦┯玫皆搮^(qū)域，該光致變色劑選自例如二芳基乙烯和俘精酸酐，以 便具有對于產(chǎn)生的圖像來說足夠保持至少20秒、優(yōu)選為至少1分鐘的熱穩(wěn)定性。如圖11 所示，該模板可以是包括點和/或參考線條的圖像，圖11示出限定由光敏化妝產(chǎn)生的區(qū)域 A、B以及C的線條。若需要，可以以相同的方式產(chǎn)生指示器，例如文字數(shù)字指示器，用以告知使用者在該區(qū)域中將要使用的組合物和/或施用器。根據(jù)這樣產(chǎn)生的模板，使用者可以產(chǎn)生化妝妝容或其他處理。為此，使用者可使用 傳統(tǒng)的化妝工具。使用者也可使用由光敏化妝所產(chǎn)生的模板施用護理產(chǎn)品。作為一個示例，例如通過圖像分析和/或使用一個或多個對皮膚狀況敏感的傳感器來對需要特殊護理的區(qū)域執(zhí)行診斷，并且產(chǎn)生待執(zhí)行的處理的可被存儲的圖。接下來，使 用用于進行光敏化妝的系統(tǒng)致使模板出現(xiàn)在臉上，其中，需要護理的區(qū)域至少暫時地用顏 色顯示出來。隨后，使用者可將護理產(chǎn)品施用到已經(jīng)示出的區(qū)域。卜.劍■就_#_另丨丨_辦碰果鍵胃使用者可通過光敏化妝在臉上定位參考點。一旦參考點被置于待處理區(qū)域上，就可使用設置有用于讀取參考點的裝置的設 備；若需要還優(yōu)選能夠解釋參考點。在一個實施方式中，該設備可設置有多像素傳感器、內(nèi) 部光源、以及施用器裝置，例如噴墨打印頭。例如，所述點表示線條。使用者在皮膚上移動該設備，該設備被配置成對表面進行 光學分析。作為一個示例，假設待處理區(qū)域由閉合輪廓限定，則當該設備確定它第一次通過 線條時，它開始沉積有色材料，隨后當它第二次通過線條時，它停止沉積該有色材料。當點被連接起來時可表示形狀。該設備可設置有可識別這些點和相應的形狀的裝 置。該設備可沉積有色材料，從而產(chǎn)生該形狀。為此，該設備可從通過執(zhí)行幾何矯正而與這 些點一致的模型開始。所沉積的有色材料可限定曲線或內(nèi)接在曲線內(nèi)的表面。線條和/或表面的曲率可以是同質(zhì)的、隨機異質(zhì)的、或幾何異質(zhì)的，即包括重復圖案。存在于待處理區(qū)域上的點可限定編碼。該設備可設置有用于解釋相應于這些點的 編碼、以及用于施用所選擇的和/或以取決于所識別的編碼的方式施用的組合物的裝置。作為一個示例，某些點形成第一圖案而其他點形成不同的圖案。該設備根據(jù)檢測 到的圖案，施用兩種不同的組合物或不同濃度的相同的組合物。光保護組合物如上所述，一旦已實現(xiàn)所期望的外觀，就將光保護組合物施用到熱穩(wěn)定光致變色 組合物上。該光保護組合物可作為至少對用于使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色的波長的防 護，特別地，當用于使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色的照射為紫外線照射時，該光保護組合物 可作為對紫外線輻射的防護。適當?shù)?，若需要，為了降低擦除光致變色劑的風險，光保護組合物也可作為對于可 見光中至少一個預先限定的波長的防護?？墒褂靡环N或多種光學劑，所述光學劑為光致變色組合物提供針對日光輻射 (290nm至400nm)的、在2至20范圍內(nèi)的、優(yōu)選在4至10范圍內(nèi)的防護力F。適當?shù)?，所述光保護組合物可以是上光組合物、油性或潤膚組合物、爽膚組合物、 腮紅霜、腮紅粉、擦光劑、或拋光組合物。光學劑形成對用于、昆代前輻射、Φ寺勘丨是紫夕卜線禾Π近紫夕卜線的防護的光學齊Π上述的光學劑可以選自防護物和擴散微?；蚱渌拗谱贤饩€、特別是UVA和/或UVB的傳輸?shù)脑噭?。所述光學劑可選自無機防護物(特別微粒形式的以及在納米范圍內(nèi)的)、以及有 機防護物。所述光學劑可以是親水的或親脂的。有機濾光器可選自氨基苯甲酸鹽衍生物、肉桂衍生物、水楊酸衍生物、莰酮衍生 物、苯并咪唑衍生物、苯并三唑衍生物、亞芐基丙二酸衍生物、咪唑啉、雙-苯并惡唑基衍生 物、苯并惡唑衍生物、三嗪衍生物、苯甲酮衍生物、二苯甲酰甲烷衍生物、β 二苯基丙烯酸鹽 衍生物、對氨基苯甲酸衍生物、在申請W093/04665中描述的聚合物防護物以及硅樹脂防護 物、源自α “烷基苯乙烯的二聚體、4，4- 二芳基丁二烯、以及其混合物。親水防護物可選自在申請EP-A-O 678 292中描述的那些，例如3_苯亞甲基2_莰 酮，特別是Mexoryl SX (麥素寧濾光環(huán))?？商峒暗挠H脂防護物的示例為在公開FR-A-2 326 405、FR-A-2 440 933, EP-A-O 114 607中描述的二苯甲酰甲烷衍生物、來自Givaudan的pai*Sol 1789、來自Merck的 Eusolex0還可以提及被稱為奧克立林以及可從BASF獲得的商品名稱為Uninul N 539的 2-乙基己基2-氰基-2，2- 二苯基丙烯酸酯。還可提及以Eusolex EX 6300為商品名稱由Merck出售的對甲基苯亞甲基莰酮。從以下選出的防護物也可被用作光學劑苯甲酮_3(氧苯酮)、苯甲酮_4(舒利 苯酮)、苯甲酮_8( 二羥苯宗)、雙-乙基己氧苯酚甲氧苯基三嗪(BEMT或Tinosorb S)、 二乙基氨基羥基苯甲酰苯甲酸己酯(Uvinul+)、甲氧基肉桂酸辛酯、水楊酸辛酯、乙基己基 三嗪宗、氨基苯甲酸甲酯(meradimate)、(4_)甲基亞芐亞基樟腦(Parsol 5000)、亞甲基 雙苯并三唑基四甲基丁基苯酚(TinosorbM)、對氨基苯甲酸鹽(PABA)、苯基苯并咪唑磺酸 (Ensulizole)、聚硅氧烷-15 (Parsol SLX)、三乙醇胺水楊酸鹽。所使用的光學劑也可由擴散微粒形成，例如鈦或鋅氧化物納米顏料，所述擴散微 粒適用于作為防護物使用，并根據(jù)所選擇的介質(zhì)進行各種表面處理。納米顏料具有5nm至 IOOOnm的典型平均尺寸。相對于光保護組合物在施用前的重量，所述光學劑的總濃度(以重量計)可在 0. 001 %至30%的范圍內(nèi)，或?qū)τ诟傻幕蚪傻呐浞缴踔粮唷?yōu)選地，防護物或組合被用在用作對從320nm至400nm范圍內(nèi)的、優(yōu)選在320nm至 420nm范圍內(nèi)的輻射的防護的組合物中。旨在限制可見光和紅外線光朝向光致變代劑的的傳播的光學劑當使用能夠被紫外線照射而顯色的熱穩(wěn)定光致變色組合物時，盡管用作對紫外線 輻射的防護的光學劑起到保護未顯色區(qū)域的作用，但是也可將一種或多種防護可見光的光 學劑施用在熱穩(wěn)定光致變色組合物上，從而保護顯色區(qū)域，并且有利地，可以結(jié)合這兩者， 即防護紫外線且防護可見光?？墒褂迷S多著色劑或顏料。特別地，優(yōu)選使用具有接近皮膚顏色的著色劑，例如黃 色著色劑、橙色著色劑或能夠產(chǎn)生黃色、橙色、赭色、褐色、或栗色色彩的混合物，或甚至例 如優(yōu)選以小劑量使用或與白色或黃色擴散劑混合使用的紅色著色劑，從而提供色彩柔和的 外觀，例如粉紅色或嫩粉紅色。對于白皮膚優(yōu)選使用具有淡粉紅色色彩的著色劑，對于白皮 膚使用淡黃色色彩、以及對于被稱為黑色的皮膚使用栗色或褐色色彩。
單獨的或作為混合物，著色劑可具有接近皮膚色度的色度。它們優(yōu)選具有小于40的色度C* (在HVCf系統(tǒng)中)。所述著色劑可選自 被編纂在顏色索引(Color Index)中的黃色顏料，具有編號CI 11680,11710, 15985、19140、20040、21100、21108、47000、47005 ； 被編纂在顏色索引中的橙色顏料，具有編號CI 11725、15510、45370、71105 ；以 及 被編纂在顏色索引中的紅色顏料，具有編號CI 12085、12120、12370、12420、 12490、14700、15525、15580、15620、15630、15800、15850、15865、15800、17200、26100、 45380、45410、58000、73360、73915、75470。在光保護組合物中，可使用有機顏料的顏料漿，例如H0ECHST以下述商品名稱出 售的產(chǎn)品‘ JAUNE COSMENYL IOG 顏料 5t 黃色 3 (Cl 11710)；‘ JAUNE COSMENYL G 顏料黃色 1 (Cl 11680)；‘ ORANGE COSMENYL GR 顏料橙色 43 (Cl 71105)?？墒褂蒙?lakes)，特別是那些通過名目被已知的D & C紅色21 (Cl 45380)，D & C 橙色 5 (Cl 45370)，D & C 紅色 27 (Cl 45 410)，D & C 橙色 10 (CI45 425)，D & C 紅色 3 (Cl 45 430)，D & C 紅色 7 (Cl 15 850:1)，D & C 紅色 4 (Cl 15 510)，D & C 紅色 33 (Cl 17 200)，D & C 黃色 5 (Cl 19 140)，D & C 黃色 6 (Cl 15 985)，D & C 黃色 10 (Cl 77 002)。著色劑可以是離子的或中性的。中性著色劑和顏料是特別有利的，因為它們與自然膚色很好地結(jié)合，并且它們中 的一些隨著時間失去它們的顏色。它們例如從植物或天然分子中提取，所述天然分子已經(jīng) 被人工復制，選自例如黑色素、花色素、多酚、嚇啉、以及姜黃色素。它們例如可以是通過吲哚和/或苯酚衍生物的氧化聚合獲得的顏料，例如在公開 FR-2 679 771中描述的那些。具有補充紫外線防護的離子性質(zhì)的著色劑和顏料是特別有利的，例如具有陰離子 功能的著色劑，例如某種食品著色劑和陽離子過濾器。也可使用IR濾光器或在反應時變成有色的化合物，例如DHA。也可使用在與空氣接觸的情況下趨于變得逐步著色的變色著色劑，例如顏色隨著 時間增強的著色劑，若可能、則緩慢地增強，例如DHA或多酚。這使得光保護組合物的防護 力逐步增強。熱不穩(wěn)定光致變餼劑用在光保護組合物中的光學劑可以是熱不穩(wěn)定光致變色著色劑。這不用于產(chǎn)生光 敏化妝妝容，而是為了在曝光于過強的光線下時保護它，例如在非常強的日光下或在人工 效應下，例如用在電視演播室中的照明、某些醫(yī)療處理、諸如曬黑間的某些化妝處理，例如， 閃光攝影術、或某些節(jié)日會場。熱不穩(wěn)定光致變色劑在非常強的發(fā)光期間呈現(xiàn)其顏色，并且以某種方式，它可限 制基礎光敏化妝的可視性。然而，由于一旦該非常強的發(fā)光被停止，熱不穩(wěn)定光致變色劑就 快速恢復成其無色形式，因此該現(xiàn)象是短暫的。
優(yōu)選地，所使用的熱不穩(wěn)定光致變色劑在25°C的黑暗中在60秒內(nèi)失去其顏色的 至少一半。特別地，優(yōu)選為無機熱不穩(wěn)定光致變色劑。能夠反射入射光的光學劑特別是為減弱紫外線光或可見光，所使用的光學劑可以是形成金屬鏡的光學劑， 或是基于多層干涉結(jié)構(gòu)或衍射光柵的光學劑。適合單獨使用的或作為以上列出的光學劑的補充的光學劑為能夠反射入射光的光學劑。反射發(fā)生在反射層與光波的傳播介質(zhì)之間。形成反射層的材料可具有大于1.5的 折射率，若可能，則大于1.8。光學劑可包含金屬或由金屬形成。作為一個示例，通過減少銀鹽或通過應用銀納米顆粒的分散，在施用光保護組合物時形成銀層。光保護組合物的反射度可以大于5%，并且若可能，則大于10%。優(yōu)選地，反射度 小于50%，從而不損害光敏化妝效果。作為一個示例，光保護組合物可包括銀納米顆粒的 水或乙醇的懸漂液，例如，來自Mppon Paint的銀納米顆粒，那些銀納米顆粒根據(jù)樣品具有 IOnm至60nm的尺寸，并且通過聚合系統(tǒng)被穩(wěn)定。干燥時，該穩(wěn)定性不妨礙顆粒接觸，并且利 用這些接觸確保足夠的電導率，以為最終材料提供接近于用銀鏡所獲得的反射能力?？墒褂冒ǘ鄬痈缮娼Y(jié)構(gòu)的光學劑。該干涉結(jié)構(gòu)利用在由該結(jié)構(gòu)的各個層反射的光波之間的相消干擾現(xiàn)象來過濾光 線。優(yōu)選選擇多層結(jié)構(gòu)，以便具有在可見光中的高的傳輸因子，使得它不產(chǎn)生可見光 中的明顯顏色，并且使得它具有所期望的透明度。該多層結(jié)構(gòu)可包括低折射率和高折射率交替的層。作為示例，高折射率層和低折 射率層之間的折射率差為0. 1或更大，優(yōu)選為0. 15或更大，更優(yōu)選為0. 6或更大。在上述多層結(jié)構(gòu)中層的數(shù)目優(yōu)選至少為2，更優(yōu)選為4或6，或甚至至少為12，該數(shù) 目便于產(chǎn)生對入射光較不敏感的并且具有所需的選擇性的結(jié)構(gòu)。該多層結(jié)構(gòu)可任選為對稱 的，并且可允許視情況過濾與光進入該結(jié)構(gòu)的主要面無關的入射光。具有高折射率的材料可以是礦物質(zhì)，例如，銳鈦礦或金紅石形式的二氧化鈦、氧化 鐵、二氧化鋯、氧化鋅、硫化鋅、氯氧化鉍、以及其混合物，或所述材料是有機物，選自例如 PEEK (聚醚醚酮)、聚酰亞胺、PVN(聚(2-萘乙烯))、PVK (聚(N-乙烯基咔唑))、PF (酚醛樹 脂)、PSU(聚砜樹脂)、PaMes (聚(α -甲基苯乙烯))、PVDC(聚(偏二氯乙烯))、MeOS(聚 (4-甲氧苯乙烯))、PS (聚苯乙烯)、BPA (雙酚-A聚碳酸酯)、PC (聚碳酸酯樹脂)、PVB (聚 (苯甲酸乙烯酯))、PET(聚(對苯二甲酸乙二醇酯))、PDAP(聚(鄰苯二甲酸二烯丙酯))、 PPhMA(聚(苯基異丁烯酸酯))、SAN(苯乙烯/丙烯腈共聚物)、HDPE(高密度聚乙烯)、 PVC(聚氯乙烯)、NYLON 、P0M(聚(縮水甘油醚)或聚甲醛)、PMA(聚(丙烯酸甲酯)) 等、以及其混合物。具有低折射率的材料可以是礦物質(zhì)，例如選自二氧化硅、氟化鎂、氧化鋁以及其混 合物，或所述材料可以是有機物，例如選自聚合物，例如，聚甲基丙烯酸甲酯或聚苯乙烯、聚 亞安酯以及其混合物。為產(chǎn)生具有多層結(jié)構(gòu)的干擾顆粒，技術人員將特別參考一些處理薄層沉積的出版 物，例如來自綜述 Applied Optics 的 2002 年 6 月 1 日的文章"OvercoatedMicrospheresfor Specific Optical Powers”，Vol. 41，n° 6，通過參考合并到本文中；并且參考名稱為 FLEXPRODUCTS 的專利。光學劑可包括衍射結(jié)構(gòu)，例如至少一個衍射光柵，所述衍射光柵可以是包括大體 上重復的表面圖案的光柵，以便衍射光。光柵的周期以及可能其深度確定光柵的衍射特性等。衍射光柵的線圈間隙因數(shù) (mark space ratio)可以被選擇為統(tǒng)一的。優(yōu)選地，衍射光柵在至少一個方向上的周期有利為足夠低的，以降低在光保護組 合物中產(chǎn)生著色效果的風險。則光柵周期有利地被選擇成使得不衍射在可見光區(qū)域內(nèi)的 光，特別是在從400nm至780nm范圍內(nèi)的光。用于避免可見光內(nèi)的衍射級的光柵周期的最大值可以至少近似通過下列關系式 確定H1 sin^ H--= n2 sin ψ
Λ其中，θ為相對于光柵板法線測量的入射角，Ψ為傳播角，A為光柵的周期，m為 衍射級，Ii1和II2分別為入射和傳播介質(zhì)的折射率。II1和II2可取第一近似值1.5。對于θ =0°，最大周期為入/111 = 400/1.5，即約267歷。不限制入射角，則周期小于一半。因此， 優(yōu)選地，選擇270nm或更小、優(yōu)選為140nm或更小的光柵的周期。例如，可通過連續(xù)測試來選擇光柵的深度d及其周期Λ，從而獲得UVA中的傳播 最小值。可以矢量形式執(zhí)行光柵特征的計算，例如使用來自GRATINGSOLVER DEVELOPMENT COMPANY 的 GS0LVER 軟件。用于產(chǎn)生衍射光柵的該層或各層可以被任選地放置在有機性或無機性的基底上， 該基底為可用的基底或可隨后承受溶解處理。因此，光柵的結(jié)構(gòu)可以被蝕刻在材料的主體內(nèi)、或者在將材料沉積在有機或無機 基底上之后被蝕刻，該基底的形狀是球狀的或薄層狀的?？梢赃M行蝕刻，使得可見光區(qū)域內(nèi)的光衍射被最小化，從而降低顏色效應。蝕刻的 周期性以及其厚度決定系統(tǒng)在減弱紫外線輻射方面的效率。干涉過濾劑可任選地包括兩個在不平行的方向上、例如在兩個大體上垂直的方向 上延伸的衍射光柵，所述光柵可特別增加被循環(huán)極化的入射光在紫外線內(nèi)的吸收，并且可 降低濾光器的防護性能對入射角度的依賴性。這兩個衍射光柵可具有大體上相等的周期A1和A2 ；特別地，兩個都為270nm或 更小，優(yōu)選為140nm或更小。當這兩個衍射光柵具有表面起伏時，它們的深度也可大體上相等，并且所述起伏 可產(chǎn)生光柵因子的周期性變化。光柵的周期可以是恒定的或變化的，并且深度可以是恒定的或變化的。光柵可在 直線或曲線方向上延伸。衍射光柵可包括具有不同折射率的重疊的層。衍射光柵可至少部分由電介質(zhì)材料 制成。光柵可使用各種圖案；所述圖案可以例如在截面中具有矩形或三角形開垛口、或 正弦曲線波動、或階梯式開垛口。
衍射結(jié)構(gòu)可被形成在顆粒的主要面的至少一部分上方，優(yōu)選在顆粒的兩個主要面 上方。衍射結(jié)構(gòu)可包括覆蓋光柵的保護和非衍射層。也可提及具有干涉效應并且未被固定到基底上的顏料，例如液晶(來自Wacker的 Heliciones HC)，以及干涉全息片(來自 Spectratrek 的 GeometricPigment 或 Spectraf/
<formula>formula see original document page 31</formula>組合物可包括用于防護UVA和/或UVB的干涉成分的混合物，例如具有不同周期 和/或深度的衍射光柵的顆粒。能夠改變?nèi)肷涔獠ㄩL的光學劑光保護組合物可包括熒光化合物。術語“熒光”化合物表示吸收紫外線光譜中的光線并且可能吸收可見光光譜中的 光線、并且將吸收能改變成具有更長的波長的在光譜的紫外線或可見光部分中發(fā)射的熒光 的化合物。該化合物可以是光學增白劑，該光學增白劑可以是透明和無色的，不吸收可見光 而僅吸收紫外線，并且將吸收能改變成更長波長的熒光，例如增加20nm，或優(yōu)選增加50nm， 或甚至增加lOOnm，該熒光在光譜的可見光部分中被發(fā)射；因此通過所述增白劑產(chǎn)生的顏 色效果可通過占主導地位的具有400nm至500nm波長的純藍色熒光唯一地產(chǎn)生。所述化合物可以在溶液中或為顆粒。該熒光化合物可以是具有下列分子式的二酮吡咯并吡咯
<formula>formula see original document page 31</formula>其中，R1, R2, R3和R4相互獨立，表示氫原子；鹵素原子；C6_C3(1芳基；羥基；氰基； 硝基；磺基；氨基；酰氨基；二 (C1-C6)烷胺基；二羥基(C1-C6)烷胺基；(C1-C6)烷基羥基 (C1-C6)烷胺基；(C1-C6)烷氧基；(C1-C6)烷氧羰基；(C1-C6)羧基烷氧基；哌啶磺酰基；吡咯 基；(C1-C6)鹵代烷基(C1-C6)烷胺基；苯甲酰(C1-C6)烷基；乙烯基；甲酸基；c6-c3Q芳基，可 被一個或多個選自下列基團的基團取代羥基，直鏈、支鏈或環(huán)C1-C6烷氧基，包含1至22 個碳原子的任選地被一個或多個羥基、氨基、C1-C6烷氧基取代的直鏈、支鏈或環(huán)烷基；包含 1至22個碳原子的直鏈、支鏈或環(huán)烷基，任選地被一個或多個選自羥基，氨基，直鏈、支鏈或 環(huán)C1-C6烷氧基的基團取代，任選地被芳基、羧基、磺基、鹵素原子取代，所述烷基可被雜原 子中斷。熒光化合物可以是具有下列分子式的萘酰亞胺<formula>formula see original document page 31</formula>其中
禮、R2、R3相互獨立，表示氧原子；鹵素原子；C6-C3Q芳基；輕基；氰基；硝基；磺基； 氨基；酰氨基；二(C1-C6)烷胺基；二羥基(C1-C6)烷胺基；(C1-C6)烷基羥基(C1-C6)烷胺基； (C1-C6)烷氧基；(C1-C6)烷氧羰基；(C1-C6)羧基烷氧基；哌啶磺?；贿量┗?；(C1-C6)鹵代 烷基(C1-C6)烷胺基；苯甲酰(C1-C6)烷基；乙烯基；甲酸基；c6-c3(l芳基，任選地被一個或多 個選自下列基團的基團取代羥基，直鏈、支鏈或環(huán)C1-C6烷氧基，包含1至22個碳原子的任 選地被一個或多個羥基、氨基W1-C6烷氧基取代的直鏈、支鏈或環(huán)烷基；包含1至22個碳原 子的直鏈、支鏈或環(huán)烷基，任選地被一個或多個選自羥基，氨基，直鏈、支鏈或環(huán)C1-C6烷氧 基的基團取代，任選地被芳基、羧基、磺基、鹵素原子取代，這5個烷基可被雜原子中斷；取 代基禮、R2、和R3與它們附著到的碳原子可形成包括總共5至30個鍵以及1至5個雜原子 的芳香族或非芳香族的C6-C3tl或雜環(huán)的環(huán)；所述環(huán)可任選地被縮合，可任選地具有被插入 的羰基，以及可被一個或多個選自C1-C4燒基、(C1-C4)烷氧基(C1-C4)烷基、氨基、二(C1-C4) 烷胺基、鹵素、苯基、羧基，以及三(C1-C4)烷銨基(C1-C4)烷基的基團取代或不被取代。熒光化合物可以是均二苯代乙烯衍生物，例如
<formula>formula see original document page 32</formula>其中，分子式R表示甲基或乙基；R’表示甲基，X-表示氯化物、碘化物、硫酸鹽、甲 硫酸鹽、醋酸鹽、高氯酸鹽類型陰離子?？商峒暗脑擃愋偷幕衔锏氖纠秊閁BICHEM出售的Photosensitizing DyeNK-557，其中，R表示乙基，R，表示甲基，以及X-表示碘化物。 熒光化合物可以是次甲基衍生物，例如<formula>formula see original document page 32</formula>或具有下列通式的噁嗪或噻嗪衍生物
<formula>formula see original document page 32</formula>還可提及二氰基吡嗪衍生物(來自Nippon Paint)、萘內(nèi)酰亞胺、氮代內(nèi)酯衍生 物、若丹明、以及氧雜蒽。還可使用礦物質(zhì)(Mg0、Ti02、Zn0、Ca(0H)2等)或有機(乳膠等)顏料或在顆粒內(nèi) 部或表面上包括所述化合物的顆粒。熒光化合物也可以是具有熒光效應的半導體化合物，例如小顆粒形式的被稱為量 子點的半導體化合物。量子點是在光激發(fā)下能夠發(fā)射波長在400nm至700nm范圍內(nèi)的輻射的發(fā)光半導體納米顆粒。這些納米顆?？筛鶕?jù)例如下列方法制造專利US-A-6 225 198或US-A-5 990 479中描述的方法、這兩篇專利匯總引用的出版物中描述的方法、以及在下述出版物中描 述白勺方法Dabboussi B. 0. et al “ (CdSe) ZnS core-shell quantum dots-synthesis and characterization of a size series of highly luminescentnanocrystallites" Jou rnal of Physical Chemistry B, vol 101,1997, pp 9463-9475, L^l^ Peng, Xiaogang et al, " Epitaxial Growth of Highly Luminescent CdSe/CdSCore/shell Nanocrystals with Photostability and Electronic Accessibility " Journal ofthe American Chemical Society, vol 119，N。30，pp 7019-7029。
例如，優(yōu)選的熒光化合物為發(fā)射橙色和黃色的化合物。優(yōu)選地，本發(fā)明中作為光學劑使用的熒光化合物在500nm至650nm波長范圍內(nèi)、優(yōu) 選在從550納米至620納米波長范圍內(nèi)具有最大反射系數(shù)。熒光化合物的示例為屬于下述族的那些化合物萘酰亞胺類；陽離子或非陽離子 的香豆素類；占噸并二喹嗪(例如特別是磺酰羅丹明)；氮雜占噸酮；萘內(nèi)酰亞胺類；吖內(nèi) 酯類；噁嗪類；噻嗪類；二惡嗪類；單獨或混合使用的偶氮、甲亞胺或次甲基類熒光聚陽離 子著色劑。更特別地，可提及下述化合物· SANDOZ 出售的具有下列結(jié)構(gòu)的 Jaune Brilliant B6GL · PR0LAB0、ALDRICH 或 CARLO ERBA 出售的具有下列結(jié)構(gòu)的 BasicYellow 2 或 Auramine 0
χΛι所使用的熒光化合物可以是氨苯次乙基芳基化合物，其中芳基為可任選地被取代 的吡啶或可以任選地被取代的其他陽離子基團，例如咪唑啉鐺(imidazolinium)。作為一個示例，可使用的熒光化合物，例如2-[2-(4_ 二烷胺基)苯基次乙基]-1 烷基吡唳，其中，吡啶中心的烷基表示甲基或乙基，而苯環(huán)的烷基表示甲基。光學劑可在同一分子上包括多個熒光基團。示例為二聚物，例如<formula>formula see original document page 34</formula>其中，可以是相同或不同的RjPR2表示·氫原子； 包含1至10個碳原子、優(yōu)選1至4個碳原子的直鏈或支鏈烷基，可任選地被中斷 和/或被至少一個雜原子和/或包括至少一個雜原子的基團取代和/或被至少一個鹵素原 子取代；·芳基或芳烷基，芳基包含6個碳原子，烷基包含1至4個碳原子；芳基任選地被 一個或多個包含1至4個碳原子、任選地被中斷和/或被至少一個雜原子和/或包括至少 一個雜原子的基團取代和/或被至少一個鹵素原子取代的直鏈或支鏈烷基取代；· R1和R2可任選地被連接，從而形成具有氮原子的雜環(huán)并且包括一個或多個其他 雜原子，該雜環(huán)任選地被至少一個優(yōu)選包含1至4個碳原子的直鏈或支鏈烷基取代并且任 選地被中斷和/或被至少一個雜原子和/或包括至少一個雜原子的基團取代和/或被至少 一個鹵素原子取代；-R1或R2可任選地被接入包括氮原子的雜環(huán)中并且苯基的碳原子中的一個攜帶所 述氮原子；·可任選為相同的R3、R4表示氫原子或包含1至4個碳原子的烷基；·可以任選為相同的R5部分表示氫原子、鹵素原子、或包含1至4個碳原子、任選 地被至少一個雜原子中斷的直鏈或支鏈烷基；以及·可以任選為相同的R6部分表示氫原子；鹵素原子；包含1至4個碳原子、任選 地被至少一個雜原子和/或攜帶至少一個雜原子的基團取代和/或中斷和/或被至少一個 鹵素原子取代的直鏈或支鏈烷基。X 表示 包含1至14個碳原子的直鏈或支鏈烷基，或包含2至14個碳原子、任選地被至 少一個雜原子和/或包括至少一個雜原子的基團中斷和/或取代和/或被至少一個鹵素原 子取代的烯基； 包括5或6個與包含1-4個碳原子、任選地被至少一個雜原子取代的至少一個直 鏈或支鏈烴基，或與至少一個鹵素原子的連接、任選地被至少一個包含1至14個碳原子的 直鏈或支鏈烷基取代、任選地被至少一個雜原子取代的雜環(huán)； 芳基或二芳基，可任選地被包含1至4個碳原子的烷基縮合、斷開或不斷開，該芳 基任選地被至少一個鹵素原子或被至少一個包含1至10個碳原子、任選地被至少一個雜原 子和/或攜帶至少一個雜原子的基團取代和/或中斷的烷基取代；· 二羰基；·可能攜帶一個或多個陽離子電荷的基團X ；以及
3等于0或1?？梢匀芜x為相同的Y-表示有機或礦物質(zhì)陰離子，Π為最小等于2并且最大等于存在于熒光化合物中陽離子電荷數(shù)的整數(shù)。其他的二聚物是可能的，例如其中在兩個非陽離子基團之間形成附著點的那些二聚物，或例如其中吡啶基團被其他的諸如咪唑啉基團的芳基陽離子基團取代的那些二聚 物。二氰基吡嗪族可以提供發(fā)橙色熒光的化合物，其可用在本發(fā)明中。也可使用發(fā)橙色熒光的顏料。一個示例為SunChemical出售的Sunbrite_SG2515 黃橙色顏料。光保護組合物的施用如圖12所示，使用者可在充分涂布熱穩(wěn)定光致變色組合物層的整個被處理區(qū)域 上施用光保護組合物，或相反地，以局部化方式僅在特定區(qū)域上施用光保護組合物。在該圖 中，光敏化妝已經(jīng)產(chǎn)生，其中，熱穩(wěn)定光致變色組合物PC完全被光保護組合物PP覆蓋。光 保護組合物可以例如被定位至涂覆有熱穩(wěn)定光致變色組合物的區(qū)域的邊緣，由此，當光敏 化妝比熱穩(wěn)定光致變色組合物層的延伸小時，光保護組合物圍繞光敏化妝圖案。光保護組合物層也可以是柔韌薄膜的形式，以被粘合到諸如皮膚的角質(zhì)材料上。 該薄膜的物質(zhì)可作為光學劑和/或該薄膜可包括至少一種被散布在該薄膜的物質(zhì)中的光 學劑。該薄膜也可例如以壓印或多層干涉結(jié)構(gòu)的形式攜帶包含光學劑的涂層。使用者可將所述薄膜施用在整個熱穩(wěn)定光致變色組合物層上，或可剪切該薄膜， 以僅覆蓋未顯色區(qū)域，而不覆蓋顯色區(qū)域。可使用自動剪切系統(tǒng)，從光敏化妝的內(nèi)容、例如其輪廓開始，將保護薄膜剪切成合 適的形狀。隨后使用者將所剪切的保護薄膜放在未顯色區(qū)域上。在本發(fā)明的另一個實施方式中，通過將攜帶至少一種光學劑的支撐層施加到待處 理區(qū)域上來通過轉(zhuǎn)移沉積光保護組合物。使用者使該支撐層與涂覆有熱穩(wěn)定光致變色組合 物的角質(zhì)材料接觸，并且隨后使用摩擦或其他手段、例如加熱或溶劑，以使光學劑被轉(zhuǎn)移到 熱穩(wěn)定光致變色組合物層上。在本發(fā)明的一個實施方式中，光保護組合物層是可逆的，S卩，使用者可以移除它， 而不移除熱穩(wěn)定光致變色組合物的第一層。為此，第一層可被形成為使得它耐水或耐水與表面活性劑的混合物，而第二層可 被形成為使得它不耐水或不耐水與表面活性劑的混合物。也可產(chǎn)生可剝離的第二層。為此，可使用第二層，在第二層被施加到第一層上之前 或之后形成粘合涂層。當?shù)诙涌蓜冸x時，它例如包括彈性體材料。在本發(fā)明的一個實施方式中，例如通過熱穩(wěn)定光致變色組合物使用諸如硅膠或氟 化化合物的低表面張力的化合物將第二層更少地粘附在第一層上。在本發(fā)明的另一個實施 方式中，中間非粘性層被插入在第一和第二層之間，以便移除光保護組合物層。特別地，當光保護組合物層是可逆的時，它可具有非常高的防護力F，例如20或更 大?？沙练e包含光學劑的單一層或包含多種不同光學劑的多個層。作為一個示例，單一層可被沉積成確保保護熱穩(wěn)定光致變色層不受紫外線和可見光的影響。也可沉積特殊紫外線保護層以及用于額外防護紫外線和/或可見光的額外層，例 如，所述額外層包括著色劑或熱不穩(wěn)定光致變色劑。也可使用一個紫外線保護層以及包括確保額外防護紫外線的熒光化合物的額外層。在一種特別的可能性中，施用包括第一層和第二層的多層薄膜，第一層為熱穩(wěn)定 光致變色組合物層，第二層為包括光學劑的光保護層，該光學劑形成針對熱穩(wěn)定光致變色 組合物的顯色輻射的防護。該薄膜可以是自支持的或它可以通過轉(zhuǎn)移被施加。熱穩(wěn)定光致變色組合物可被施用到角質(zhì)材料上，或它可在基層上，特別是如下文 中限定的基層。如上所述，第二組合物可被直接施用到熱穩(wěn)定光致變色組合物層上，或被施用到 在兩層之間的中間層上。適當?shù)?，第二組合物自身可被涂覆額外層。各層成分的詵擇在本發(fā)明的一個實施方式中，兩個相繼被施加的層可以是物理上互補的，所述兩 個層例如為熱穩(wěn)定光致變色組合物層和光保護組合物層，或是基層和熱穩(wěn)定光致變色組合 物層，或是熱穩(wěn)定光致變色層和旨在形成保護光敏化妝的材料的層，用以允許或便于第二 層穩(wěn)定在第一層上，和/或允許或便于第二層在第一層上的涂布。離子性質(zhì)互補可以是有利的。因此，例如，第一層可包含陰離子聚合物而第二層包 含陽離子化合物，例如陽離子過濾器、陽離子著色劑或陽離子熒光化合物。反之亦然。表面張力互補也可以是有利的。因此，例如通過使用至少一種親水聚合物，第一層 可具有優(yōu)選大于40mN ^nT1 (毫牛每米)的表面張力。例如通過使用主要是油性的硅膠、或 氟化組合物，或通過使用其中已引入一種或多種表面活性劑的含水組合物，第二層可具有 比第一層小的第二表面張力，優(yōu)選小于40。第二層的成分(溶劑、黏合劑等)可被選擇成使得它們不是第一層的溶劑。作為一個示例，可為第一層選擇有機溶劑(乙醇、丙酮、乙酸烷基酯、碳質(zhì)油(例如 異十二烷)、揮發(fā)性硅膠等)，而可為第二層選擇含水或水醇溶劑，或反之亦然。也可為這兩層選擇兩種有機溶劑或兩種含水溶劑，假設在干燥第一層時，發(fā)生轉(zhuǎn) 變。作為一個示例，使用包含乳膠的第一層。在干燥時，乳膠聯(lián)合并且使第一層不影響第二 層的施加。也可使用包含低水溶性丙烯酸/丙烯酸酯共聚物的第一層，通過與揮發(fā)性成分、 例如氨水中和而變成水溶性的。在干燥第一層后，氨水將蒸發(fā)并且使第一層變成耐水的。^M第一光保護組合物的基層可被施用在角質(zhì)材料上，該基層包含至少一種光學劑， 該光學劑能夠至少暫時形成對波長λ的防護，特別是對320nm至400nm范圍內(nèi)的波長的防 護，并且所述基層可具有被施用在其上的能夠通過曝光于波長至少為λ的輻射下而顯色 的熱穩(wěn)定光致變色第二組合物；所述光學劑可選自上文中描述的那些。作為示例，并且至少在光保護組合物被施用時，所施用的作為基層的光保護組合 物具有針對日光輻射的至少為2、優(yōu)選為5或10的防護力F。使用基層可通過使得熱穩(wěn)定光致變色組合物的光致變色劑朝向在下面的角質(zhì)材 料的遷移變得更困難來降低使皮膚染色的風險。
當?shù)谝缓偷诙M合物不相互混合時，該遷移可被進一步減慢或甚至被阻止，例如， 組合物中的一種是含水的、而另一種不含水，或反之亦然，從而形成兩種相。因此，可以為第二組合物選擇不是熱穩(wěn)定光致變色組合物的溶劑的成分(溶劑、 黏合劑等)，并且反之亦然。作為示例，對于光保護第二組合物，例如，有機溶劑選自醇類或 酮類，特別是乙醇或丙酮、乙酸烷基酯、碳質(zhì)油 ，特別是異十二烷、或揮發(fā)性硅膠，并且對于 第一熱穩(wěn)定光致變色組合物，選擇含水或水醇溶劑，或反之亦然。也可為這兩種組合物選擇兩種有機溶劑或兩種含水溶劑，使得在干燥時發(fā)生轉(zhuǎn) 變。作為示例，可使用包含乳膠的第一組合物。在干燥時，該組合物聯(lián)合并使該層不影響熱 穩(wěn)定光致變色組合物的施加。基層可被形成在比熱穩(wěn)定光致變色組合物更大的表面上。這便于熱穩(wěn)定光致變色 組合物的施用，因為使用者不再需要擔心要使兩種被施用的組合物的輪廓精確一致。當熱穩(wěn)定光致變色組合物適于通過曝光于紫外線輻射下而顯色時，則包含在基層 中的光學劑優(yōu)選是具有80%或更小的耐光因數(shù)的非耐光遮光劑。一個產(chǎn)生的優(yōu)點為當基層被施用到皮膚上時，使用者沒有被完全防止曬黑，即使 基層的范圍大體上超出熱穩(wěn)定光致變色組合物的范圍。在曝光于太陽下期間，該基層可能 隨后失去其防護紫外線的能力，這使得使用者至少在未被熱穩(wěn)定光致變色組合物覆蓋的區(qū) 域內(nèi)逐步被曬黑。若遮光劑是耐光的，使用者可能擔心施用的基層范圍過大，因為擔心在他 們被曬黑的皮膚上留下痕跡。為測量遮光劑的耐光性，該遮光劑被稀釋在商品名為FINSOLV 的C12-C15烷醇 苯甲酸酯溶劑中。防護物Parsol 1789為非耐光防護物的示例，具有30%的耐光等級，耐光 等級被定義為曝光在由來自SUNTEST的輻照器產(chǎn)生的UVA輻射下一小時后的防護力除以 初始防護力所得到的比例。較佳地，可在光敏化妝之前施用基層，例如，早于光敏化妝前15分鐘，這可具有給 基層留出時間干燥以及使它變成在被施加于其上的層中不溶解或幾乎不溶解的效果，如在 上文中提到的那樣。此外，在干燥時，基層可任選地形成相對平滑的表面，便于施用具有均 勻厚度的熱穩(wěn)定光致變色組合物的層。由此使皮膚光滑，并且因此第二層可以較薄以及厚 度不均勻的風險降低，這可能導致顯色后的令人不愉快的視覺效果。如需要，則可在基層上施用至少一個中間層，從而將該中間層置于熱穩(wěn)定光致變 色組合物與基層之間。例如，該中間層可具有提高熱穩(wěn)定光致變色組合物在基層上保持的效果，或相反 地，可具有在卸妝期間便于從基層上移除熱穩(wěn)定光致變色組合物的效果。該中間層可以是 聚合物或蠟層。特別地，該中間層不需要作為對用于使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色的波長λ的 防護。此外，可在基層下面施用另一組合物層，從而便于它粘合到皮膚。因此，基層不需 要直接與皮膚接觸。在一個變型中，基層被直接施用到皮膚或其他角質(zhì)材料上。光敏化妝的機械保護在角質(zhì)材料上可施用至少一層熱穩(wěn)定光致變色組合物，并且利用第二組合物或利 用附加的能量，它可形成機械地保護在熱穩(wěn)定光致變色組合物層中的光敏化妝的材料。
也可以在熱穩(wěn)定光致變色組合物層上沉積至少一個覆蓋層，這使得能夠形成確保 光敏化妝的機械保護的材料。通過選擇性地使熱穩(wěn)定光致變色組合物層顯色，可在形成為光敏化妝提供機械保 護的材料之前或之后產(chǎn)生光敏化妝。提高光敏化妝的機械保持可延遲所形成的圖像的惡化并且圖像的銳度隨著時間 的損失被減慢。此外，使得光敏化妝對摩擦和移動敏感性更低。也降低了熱穩(wěn)定光致變色 組合物轉(zhuǎn)移到服裝或身體的其他區(qū)域上的風險。因此，可在諸如被服裝覆蓋的區(qū)域上產(chǎn)生更持久的光敏化妝，例如在后背、腹部、 胸部、腿或股上。所述材料可通過不必需要被完成的溶劑蒸發(fā)或通過聚合或交聯(lián)反應形成。通過聚 合和/或交聯(lián)的表面硬化可驗證充分提高保持。提供光敏化妝的機械保護的材料有利為透明的。
當該材料覆蓋熱穩(wěn)定光致變色組合物層時，該材料形成磨損層，該磨損層通過在 白天期間逐漸的磨損保護光敏化妝。當該材料覆蓋熱穩(wěn)定光致變色組合物層時，該材料還可以通過提供額外的光學效 果、例如放大或著色效果而有助于光敏化妝的美學。當熱穩(wěn)定光致變色組合物提供通過以不同于用于使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色 的波長的波長照射熱穩(wěn)定光致變色組合物層來擦除光敏化妝的可能性時，如果希望，則該 材料可提高其保持，而不會以任何形式阻止光敏化妝被移除；為此，使用者不需要完全移除 化妝。為了形成為光敏化妝提供機械保護的材料，可在熱穩(wěn)定光致變色組合物和/或覆 蓋層中使用可聚合和/或可交聯(lián)的化合物。熱穩(wěn)定光致變色組合物可包括所有用于形成該材料的可聚合和/或可交聯(lián)的化 合物。任選地，用于使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色的照射用于聚合和/或交聯(lián)。熱穩(wěn)定光致變色組合物也可包括可潛在地聚合和/或交聯(lián)的第一試劑。在熱穩(wěn)定 光致變色組合物的光致變色劑顯色之后或之前，施用通過與第一試劑結(jié)合可執(zhí)行聚合或交 聯(lián)的第二化合物。照射也可任選地用于引起聚合和/或交聯(lián)。在其他實施方式中，在施用熱穩(wěn)定光致變色組合物和產(chǎn)生光敏化妝妝容之后，施 用第二組合物?？稍谟糜谑构庵伦兩珓╋@色的照射之前或之后施用覆蓋層。其平均厚度可至少為 2 μ m(微米)，若該材料是相當硬或彈性體的，若可能則平均厚度至少為5 μ m，若該材料具 有相當小的彈性系數(shù)，則平均厚度優(yōu)選至少為10 μ m。當角質(zhì)材料被包括光敏化妝的單一層覆蓋時，所述層的厚度優(yōu)選大于5 μ m,更優(yōu) 選大于10 μ m。該厚度優(yōu)選小于1mm。當熱穩(wěn)定光致變色組合物包含所有或一些可潛在地交聯(lián)的化合物時，在第二階段 中，可在干燥第一組合物之前或之后施用引起交聯(lián)或交聯(lián)所必需的第二化合物。第二層的 厚度(在任何溶劑蒸發(fā)之后所表現(xiàn)出的)優(yōu)選等于第一層的厚度的至少20%，優(yōu)選大于第 一層的厚度的50%。第二層的厚度優(yōu)選大于5 μ m。當熱穩(wěn)定光致變色組合物不包括任何可潛在地交聯(lián)的化合物時，在第二階段中，可施用包含產(chǎn)生交聯(lián)的化合物的第二組合物。第二層的厚度(在蒸發(fā)掉任何溶劑之后所表 現(xiàn)出的)優(yōu)選等于第一層的厚度的至少10%，并且優(yōu)選大于第一層的厚度的30%。第二層 的厚度為至少大于5 μ m，優(yōu)選小于1mm。允許形成該材料的聚合和/或交聯(lián)可以是化學的或物理的?；瘜W聚合和/或交聯(lián)術語“化學交聯(lián)”的意思是化合物、不管是單獨、或通過與第二化合物反應、或通過 輻射作用、或通過提供能量能夠產(chǎn)生分子之間共價化學鍵。結(jié)果是增強包括所述化合物的 材料的粘合。該化合物可以是簡單分子，或它可以已經(jīng)是多個分子結(jié)合的結(jié)果，例如寡聚物或 聚合物。該化合物可攜帶一個或多個反應官能。優(yōu)選的分子是那些在交聯(lián)之后提供固態(tài)和/或可變形但為彈性體材料的分子?；瘜W官能可與相同性質(zhì)的另一官能反應或可與另一化學官能反應。與相同件質(zhì)的另一官能的反應例如，這些是乙烯官能，特別是丙烯酸酯、丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸酯、甲基丙酸 烯、或苯乙烯。為了反應，這些分子通常需要外部形式的活化，例如光、熱、使用催化劑、或與光敏 引發(fā)劑以及可能的旨在擴大光敏引發(fā)劑的活動光譜的光敏劑結(jié)合。例如在專利CA-A-I 306 954和US-A-5 456 905中描述了光可聚合的和/或光可交聯(lián)的組合物。可使用如在專利EP-A-I 247 515中描述的攜帶乙烯官能的聚合化合物。乙烯官能可被吸引基活化，從而加速反應并提供任何外部活化剩余的供給。這是 氰基丙烯酸乙酯單體的特點，對于該單體，單獨存在的催化劑(例如水)允許反應發(fā)生。例如可通過吸引基適當?shù)鼗罨蚁┕倌堋?yōu)點為該反應需要外部活化(當控制該 反應的開始和產(chǎn)物時，這是重要的)，但不需要光敏引發(fā)劑。例如，它可以是氰基丙烯酸酯 單體，特別是在其中酯官能攜帶的基團包含至少2個、若可能為4個的碳連接的丙烯酸酯單 體。優(yōu)選需要外部活化(例如光)但不需要光敏引發(fā)劑的分子。因此，能夠通過光二 聚而反應的分子，例如在專利EP-A-I 572 139中描述的那些是特別優(yōu)選的，特別是那些攜 帶如下官能的分子1)芪其中· R表示氫原子、烷基或羥烷基；以及· R’表示氫原子或烷基；2)苯乙烯基唑鐵(styrylazoliums)<formula>formula see original document page 40</formula>其中A指定硫原子、氧原子或NR’或C(R’)2、基團、R和R’與在上文中所限定的一樣；3)查耳酮；4)(硫代)肉桂酸和(硫代)肉桂酰胺；5)馬來酰亞胺；6)(硫代)香豆酮；7)胸腺嘧啶；8)脲嘧啶；9) 丁二烯；10)蒽；11)吡啶酮；12)吡咯里嗪酮；13)吩嗪鐵鹽(acridizinium salts)；14)呋喃酮；15)苯基苯并噁唑；16)苯乙烯基吡嗪。在相同性質(zhì)的另一官能上進行的反應不限制于涉及乙烯官能的反應?？赏ㄟ^縮合而反應的化合物也是優(yōu)選的，例如·硅氧烷基，特別是二烷氧基_或二羥基_硅烷官能、三烷氧基_或三羥基_硅烷 官能?？墒褂脭y帶有烷基三烷氧基硅烷或二烷基三烷氧基硅烷官能、特別是烷基烷氧基硅 烷官能的分子，其中烷基攜帶水溶性官能例如胺，例如，所述分子為諸如氨基三乙氧基硅烷 或氨基三乙氧基硅烷的分子，或攜帶這樣的官能的分子。除了基于硅氧烷的小分子(單體 或寡聚物)，還可使用具有質(zhì)量的化合物，特別是在專利FR-A-2 910 315中描述的那些； 基于鈦的溶膠-凝膠。通過這些分子，可控制開始和反應產(chǎn)物。能夠通過氧化而反應的化合物也是優(yōu)選的，例如攜帶至少兩個羥基官能、或一個 羥基官能和一個胺官能、或一個羥基官能的芳香族化合物，例如兒茶酚(cathecol)或二羥 口引哚。例如，氧化劑可以是來自空氣的氧氣或諸如過氧化氫的其他氧化劑。與另一官能的反應在這種環(huán)境中反應的分子具有兩種互補的官能。它們可以是系統(tǒng)，在該系統(tǒng)中，攜 帶官能FA的分子被帶入與攜帶官能ra的分子接觸，官能ra能夠與官能FA反應。它們也可以是在相同結(jié)構(gòu)上攜帶一個或多個官能FA以及一個或多個官能FB的分子。官能FA可以選自例如·環(huán)氧化合物；·氮雜環(huán)丙烷；
·乙烯基以及被活化的乙烯基，特別是丙烯腈、丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；·巴豆酸和酯、肉桂酸和酯、苯乙烯以及衍生物、丁二烯；·乙烯醚、乙烯酮、馬來酸酯、乙烯砜、馬來酰亞胺； 羧酸酐、氯化物和酯； 醛；·縮醛、半縮醛； 縮醛胺、半縮醛胺； 酮、α-輕基酮、α-鹵代酮； 內(nèi)酯、硫代內(nèi)酯； 異氰酸酯； 硫氰酸酯；·亞胺；·酰亞胺，特別是琥珀酰亞胺、谷酰胺；· N-羥基琥珀酰亞胺酯；·亞胺鹽；·硫代硫酸鹽；·噁嗪和噁唑啉；·噁嗪鹽和噁唑啉鹽-C1至C3tl烷基或C6至C3tl芳基或具有分子式RX的芳烷基鹵化物，其中X = I、Br、 Cl ；·不飽和的碳環(huán)或雜環(huán)的鹵化物，特別是氯三嗪；·氯嘧啶、氯喹惡啉、氯苯并三唑；·硫酰鹵=RSO2-CL 或-F，R 是 C1 至 C3tl 烷基。作為實例，可提及下列攜帶具有基團FA的官能的分子·乙烯基甲醚和馬來酸酐共聚物，例如，特別是商品名為Gantrez的由ISP出售 的；·聚甲基丙烯酸縮水甘油酯，特別是由Polysciences出售的； 聚二甲基硅氧烷縮水甘油酯，特別是由Shinetsu出售的(編號X_2Z_173 FX或 DX)； 環(huán)氧聚酰胺，例如商品名為Delsette 101的由Hercules出售的產(chǎn)品、來自 Hercules 的 Kymene 450 ； 環(huán)氧_葡聚糖；以及·使用NaIO4通過多糖氧化獲得的聚醛基多糖(Bioconjugate Techniques ；Hermanson GT, Academic Press,1996)。官能FB可選自XHn官能，X = 0、N、S、COO并且η = 1或2，特別是乙醇、胺、硫醇
和羥酸。攜帶FB類型官能的分子的示例如下·PAMAM 樹狀分子，特別是由 Dendritech 出售的、DSM、Sigma_Aldrich (STARBURST， PAMAM DENDRIMER，來自 DENDRITECH 的 G (2，0))；
·具有羥基官能的樹狀分子，特別是由Perstorp出售的、DSM(例如HBPTMP core 2 Generation PERST0RP)；· PEI (聚乙烯-亞胺)，特別是商品名為Pupasol的由BASF出售的；· PEI-硫醇；·聚賴氨酸，特別是由Chisso出售的；· HP 纖維素，例如來自 AQUAL0N 的 KLUCELEF ；·氨基-葡聚糖，例如由Carbomer出售的；·氨基-纖維素，例如在來自BASF的W0-01/25283中描述的那些；· PVA (聚乙烯縮醛)，例如來自 AIRPRODUCTS CHEMICAL 的 AIRV0L540 ；·氨基PVA，例如由Carbomer出售的；以及·殼聚糖。該第二種情況也包括可通過硅氫化反應而反應的分子
<formula>formula see original document page 42</formula>(例如，W表示碳鏈或含硅鏈)。專利申請FR-A-2 910 315中描述了這兩種成分的細節(jié)、商業(yè)可用的分子、催化劑 的條件以及使用條件。在一個特殊的可能性中，已經(jīng)存在于皮膚上或由皮膚分泌出來的分子作為反應物 或催化劑使用。例如，典型為水，水可有助于氰基丙烯酸酯反應，或有助于涉及硅氧烷的特 定反應。在另一個特殊的可能性中，作為反應物或催化劑使用的分子存在于環(huán)境空氣中。 典型為特定油的交聯(lián)反應所涉及的氧氣，所述特定油例如干性油，特別是干性植物油，例如 亞麻籽油、中國木材油(或桐油)、奧蒂油、斑鳩油、罌粟籽油、石榴籽油、金盞花油、或醇酸 樹脂。例如，所述反應可通過使用催化劑被加速，所述催化劑例如為辛酸鹽、亞油酸鹽或碘 苯腈辛酸鹽形式的鈷、錳、鈣、鋯、鋅、鍶、鉛、鋰、鐵、鈰、鋇或錫鹽。在另一個特殊可能性中，所使用的分子通過重新安排相互接合。因此，可使用攜帶 內(nèi)二硫化物的分子。通過打開內(nèi)二硫化物并且使所述二硫化物反應，可在分子之間產(chǎn)生新 的共價鍵。催化劑可用于加速所述反應。作為示例，可使用金屬鹽，例如錳、銅、鐵、鉬、鈦酸鹽 或酶例如氧化酶或漆酶。通過與另一種相同或不同性質(zhì)的官能反應的化學官能，多種模式的應用是可能 的。作為示例，反應的所有成分都被并入熱穩(wěn)定光致變色組合物中，或除了一種或多 種化合物，例如化合物中的一種、或催化劑以外的所有成分都被并入熱穩(wěn)定光致變色組合 物中?？赡芩谐煞侄嘉幢徊⑷霟岱€(wěn)定光致變色組合物中；在施用熱穩(wěn)定光致變色組合物 之后并且優(yōu)選在產(chǎn)生光敏化妝妝容之后，它們被同時或在不同的時間施用。物理交聯(lián)當所使用的成分能夠在分子之間產(chǎn)生持久的物理鍵并賦予最終的材料抗水性時，交聯(lián)可以是物理的。這些非共價鍵是離子或氫類鍵。可以提及的示例為與具有二價或多價類鹽的混合物，例如鈣、鋅、鍶、或鋁鹽。作為一個示例，諸如藻酸鹽衍生物的化合物A與諸如鈣鹽的化合物B可被混合。作 為示例，藻酸鹽衍生物被包含在熱穩(wěn)定光致變色組合物中。在第二階段中，例如，氯化鈣的 水溶液以噴霧形式被施用，從而引起交聯(lián)。能夠產(chǎn)生強氫鍵的分子也可被提及，例如聚硅氧烷和聚脲嵌段共聚物，并且特別 是具有下列分子式的那些分子
-<formula>formula see original document page 43</formula>
其中表示包含1至20個碳原子的單價烴基，可被具有一個或多個氟或氯原子取代；·Χ表示包含1至20個碳原子的亞烷基，其中，非相鄰的亞甲基單元可被-0-原子 團取代；· A表示氧原子或氨基原子團-NR’ -；· Z表示氧原子或氨基原子團-NR’ -；· R’表示氫原子或包含1至10個碳原子的烷基；· Y表示包含1至20個碳原子的二價烴基，若需要則由氟或氯取代；· D表示包含1至700個碳原子的亞烷基，若需要則由氟、氯、C1-C6烷基、或C1-C6 烷基酯取代，其中，非相鄰的亞甲基單元可被原子團-o-、-coo-、-0C0-或-0C00-取代；· n是從1至4000的數(shù)；· a是至少為1的數(shù)；· b是從0至40的數(shù)；· 2是從0至30的數(shù)；以及是大于0的數(shù)。所述官能的細節(jié)、商業(yè)可用的分子、以及實施條件在專利EP-A-O 759 812中給
出ο翩有躺抵航力·棚德勿不管交聯(lián)是化學的還是物理的，交聯(lián)化合物都可被選擇成使得它們提供最大可能 的抵抗力，特別是抵抗水和濕氣。因此，例如，可產(chǎn)生高疏水性涂層，特別是為處理身體最易出汗的部分，例如婦女 的胸部或腋下。作為一個示例，可使用多元醇類的第一反應成分FA和全氟烷基三乙氧基硅烷類 的第二反應成分FB，所述第一反應成分FA例如為纖維素衍生物。在這種環(huán)境下，涂覆在兩 個階段中進行。該多元醇被引入到熱穩(wěn)定光致變色組合物中。包含成分FB的涂層組合物被施加到該熱穩(wěn)定光致變色組合物上。在另一個示例中，所采用的系統(tǒng)能夠產(chǎn)生交聯(lián)涂層；它也包含疏水顆粒。這些結(jié) 合的一個實例是疏水顆粒與縮合技術或硅氫化反應技術的結(jié)合，所述技術例如為在專利 FR-A-2 910 315中描述的那些?？墒褂玫墓腆w顆?？梢允堑V物質(zhì)或有機來源、多孔的或非 多孔的、有色的或無色的。它們可具有任何形態(tài)，優(yōu)選為球形。顆?？梢允翘烊皇杷?，例 如，PTFE粉末就是這樣，或這它們可通過涂層變成疏水的，特別是碳氫化合物、硅酮、氟代化 合物或氟硅酮的涂層。例如，基于氧化物或鋅鹽也可產(chǎn)生提供更好地耐皮脂性和耐脂肪性的涂層，或者 也可產(chǎn)生變得更耐拉伸或更耐撕開的涂層。這些改進可使用在對身體移動最多的部分的涂 覆，例如嘴唇、手、腋下、脖子、或接近關節(jié)的任何區(qū)域。通過使用例如產(chǎn)生具有彈性體性質(zhì)的材料的交聯(lián)成分可以獲得拉伸強度。也可將 提供彈性體性質(zhì)的非反應化合物并入所述組合物中，例如彈性體聚合物，如去蛋白的天然 乳膠或纖維。一個特殊的可能性是用交聯(lián)成分灌注編織的或非編織的織物?？梢栽谑┯霉饷艋?妝組合物之前或期間或之后，將編織的或非編織的織物施加在皮膚上。將組合物灌注到織 物中提供機械強度。也可以結(jié)合該織物和光敏化妝組合物，一旦已產(chǎn)生，隨后就通過使用或不使用黏 合劑來將它施加到皮膚上。潤滑活性成分可被并入所述組合物中，特別是例如固態(tài)潤滑劑，例如氮化硼或鋁。也可并入固態(tài)填料，特別是疏水的或變得疏水的填料，例如金屬氧化物顆粒、金屬 氫氧化物顆粒、金屬碳酸鹽顆粒、或有機物顆粒。這些填料可提供額外的抗磨損性。形成磨損層的覆蓋層涂層可在熱穩(wěn)定光致變色組合物層上形成機械保護材料并作為磨損層。在任何溶劑蒸發(fā)掉之后，該涂層有利地為內(nèi)聚的，并且它可在照射之前或之后施 加。術語“內(nèi)聚的”表示該層對接觸有抵抗力。作為一個示例，若具有l(wèi)cm2(平方厘 米)表面積的扁平探針被帶向涂層，使得它以ΙΟΝ/cm2 (牛頓每平方厘米)的壓力與該涂層 接觸，隨后在接觸5秒鐘后該探針被撤回，它不會帶走物質(zhì)。因此，油性化合物被排除。一旦溶劑已經(jīng)蒸發(fā)掉，涂層就是不黏的。術語“不黏的”表示該層不對撤回提供抵 抗力。作為一個示例，若具有Icm2表面積的扁平探針被帶向該層，使得它以ΙΟΝ/cm2的壓力 與該層接觸，并且隨后在接觸5秒鐘后它被撤回，則不需要用以完成該撤回的阻力。因此， 已知如PSA(壓敏粘著劑)的化合物被排除。形成該涂層的材料可具有小于500MPa(兆帕斯卡)并且大于IOOKPa(千帕斯卡) 的彈性系數(shù)，優(yōu)選在200MPa至IMPa的范圍內(nèi)。若該材料具有大于IOMPa的彈性系數(shù)，則其平均厚度為至少1 μ m,若可能則為至 少2μπι。若該材料具有小于IOMPa的彈性系數(shù)，則其平均厚度為至少2 μ m，若可能則為至 少 5 μ m0當形成該覆蓋層的材料是彈性體的，即在破裂前具有至少為400%的最大形變并 且在等待1分鐘之后具有至少90%的彈性恢復時，該平均厚度優(yōu)選為至少Ιμπι，即使彈性系數(shù)小于lOMPa。 術語“彈性恢復”指在發(fā)生40%的拉伸形變隨后釋放負荷之后，樣品恢復到初始長度的程度。因此，若樣品的初始長度為L0，以及在發(fā)生40%的拉伸形變并且釋放負荷之后 的長度為L(t)，則在自釋放后時間t處的恢復R(t)等于
100 X (1- (L (t) -L0) /LO) /0. 4)。因此，若 L(t) =L0jjR(t) = 100。若L(t) = 1. 4XL0，則 R(t) = O。通過最初制備大約200 μ m厚、6cm長、Icm寬的樣品來進行恢復測試。若需要，則 該樣品任選地被產(chǎn)生在支撐薄膜上；與該樣品的機械特性相比，該支撐薄膜的機械沖擊被 認定為是小的。該樣品承受速度為0. lmm/s (毫米每秒)的其長度的40%的拉伸形變。接下來，釋 放負荷并允許度過1分鐘。優(yōu)選地，為所述涂層應用與用于熱穩(wěn)定光致變色組合物層的溶劑完全不同的溶 齊U。然而，可避開該條件，特別是當使用用于熱穩(wěn)定光致變色組合物層的交聯(lián)或聚結(jié)化合物 時。作為一個示例，例如，若熱穩(wěn)定光致變色組合物層包含具有小于40°C的玻璃態(tài)轉(zhuǎn) 化溫度Tg的乳膠和水時，該涂層也可是水基的。例如，若熱穩(wěn)定光致變色組合物層包含溶劑以及如上所述的那些能夠交聯(lián)的化合 物時，該覆蓋層可包含相同的溶劑。為了有助于正確產(chǎn)生該覆蓋層，在其涂覆之前，例如可提供光或熱。也可沉積例如 由樹脂或任何其他有助于黏合的產(chǎn)品產(chǎn)生的中間層，所述其他有助于黏合的產(chǎn)品例如為黏 合粉末或特定粉末，特別是那些由于其顆粒尺寸而有助于抓牢上層的粉末。在涂覆該覆蓋層之后，可提供光和熱。該覆蓋層可被逐步消除。因此，光敏化妝層不會隨時間變化并且完全保持了光敏 化妝的精確度。形成磨損層的涂層中的成分可用于形成所述涂層的化合物為聚合物，例如聚(甲基_)丙烯酸樹脂、聚 (甲基_)丙烯酸酯、聚氨酯、聚酯、聚苯乙烯，或為可溶或分散形式的共聚物，例如選自 Mexomer, ultrahold Strong DR 25、28-29_30, Gantrez, Amerhold DR 25, amphomer, Luviset Si Pur, AQ 38，或 AQ 48。聚合物可攜帶側(cè)基或端基，從而調(diào)整其硬度。作為一個示例，例如，形成該涂層的 材料可包括具有硅膠官能的丙烯酸酯聚合物，如VS 80。聚合物可以是天然聚合物或被修飾過的天然聚合物，例如polyosic聚合物，如瓜 爾膠、carouba膠，或纖維素衍生物，如HPMCP (羥丙基甲基纖維素鄰苯二甲酸酯)或蛋白質(zhì)。所述聚合物可以是烴聚合物。例如，所述聚合物可以是硅膠，例如硅橡膠。因為多數(shù)聚合物的固有特性不能一直提供所需要的強度，因此添加增塑劑可以是 有用的。除了通常使用的增塑劑之外，還可包括某些非揮發(fā)性溶劑。所述通常使用的增塑劑例如乙二醇醚(三丙二醇單甲醚(稱為PPG3甲醚，來自DOWCHEMICAL))或甘油、所述非 非揮發(fā)性溶劑，例如碳酸丙烯酯、乙醇、硅膠或碳油。根據(jù)聚合物及其固有特性計算增塑劑的量。典型值如下(％相對于聚合物的重 量)乙二醇醚 甘油Ultrahold Strong DR 25 (BASF) 5%10%Mexomer (Chimex)4%8%AQ 48 (Eastman Chemicals)1%2%Luviset Si Pur(BASF)3%5%VS 80 (3M)5%10%組合物中可包括礦物質(zhì)顆粒或有機顆粒，它們可延長磨損層的使用壽命，而不會 導致它損失其特性。這些顆粒不會導致皮膚內(nèi)的不透氣性，但可能導致脫落或成球的現(xiàn)象。 因此，顆粒的濃度(以重量計)優(yōu)選不超過40% (不包括能夠聚結(jié)的顆粒)?？砂ㄓ兄谑┯玫牧髯儎Ｒ部砂ㄖT如表面活性劑的分散劑或具有在80°C至200°C范圍內(nèi)的沸點的某些 溶劑。這些溶劑具有減慢組合物在隨時間被清除時的結(jié)塊的優(yōu)點。干燥后的濃度和厚度各種成分的濃度可以被調(diào)整成使得干燥后的厚度在考慮到所施用的量時與如上 給出的規(guī)格一致。作為一個示例，假設施用20mg/cm2的用于分散的液態(tài)組合物，并且該組合物包含 10%的干燥物質(zhì)，則可以沉積大約2mg/cm2。若密度約為1，則這相應于大約20 μ m的厚度。在另一個示例中，若假設包括20%的干燥物質(zhì)的噴霧組合物在距臉30cm處被噴 灑4秒鐘，則大約0. 4g (克)將被沉積在400cm2上，即Img每cm2。若相對密度大約為1，則 沉積層的厚度將為約10 μ m。因此，根據(jù)施用模式以及植物制劑形式，干燥物質(zhì)濃度可為從至50%。涂層組合物可以是干燥的。其他成分除了上述成分以外，每種組合物還可包含使得下述內(nèi)容成為可能或更容易的成 分在角質(zhì)材料、更特別是皮膚上進行分散的成分；提供護理、舒適的成分，例如氣味或柔 和成分；有助于在清洗時清除的成分，例如一種或多種表面活性劑；限制成分滲入皮膚的 成分，例如收斂劑；或提供其他化妝功能的成分，例如保濕、著色、光澤；和/或限制紫外線 防護的沖擊的成分，例如仿曬劑或維他命D活化劑。Μ 當卸妝時，使用者可能留下未顯色的熱穩(wěn)定光致變色組合物的痕跡。然而，可能導 致這些痕跡隨后顯色，例如在環(huán)境光下經(jīng)過數(shù)小時后顯色。那時，使用者可能很難再次開始 卸妝。為克服該問題，可以在卸妝期間或之后，有利地施用至少一種光學劑，該光學劑 成對至少一個波長λ的防護并且用于使熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色。 適當?shù)兀龉鈱W劑可被多次重復施用。
該光學劑可以是卸妝組合物的一部分。術語“形成對波長λ的防護”表示該光學劑以至少為2的因子減弱具有波長λ的輻射，如上所述，使用可通過將照射光限制在具有以波長λ為中心的波長的區(qū)域中來測量 吸收光譜的裝置進行該測量。在卸妝期間、優(yōu)選在卸妝之后施用該光學劑，防止光致變色劑 的痕跡顯色，并且降低使角質(zhì)材料或服裝染色的風險。在施用光學劑后的一小時內(nèi)，角質(zhì)材料不應被清洗。隨后，當使用者清洗時，被該 光學劑保護的光致變色劑的未顯色的痕跡能夠被去除。與施用該光學劑有關的另一優(yōu)點為，當產(chǎn)生新的光敏化妝妝容時，該光學劑防止 仍然存在的前一次光敏化妝的某些未顯色部分在曝光于用于產(chǎn)生新的光敏化妝妝容的輻 射下時顯色?？稍谛秺y之后施用該光學劑。該光學劑還可形成用于卸妝的卸妝組合物的配方的 一部分。波長λ可落在紫外線或近紫外線光譜(290nm至400nm)內(nèi)，特別是在從320nm至 440nm范圍內(nèi)。卸妝組合物可以是傳統(tǒng)的基于表面活性劑的卸妝產(chǎn)品或用于來自熱穩(wěn)定光致變 色組合物的化合物的特定卸妝產(chǎn)品，并且可以包括溶劑，例如乙酸乙酯或乙酸丁酯、丙酮、 乙醇或其混合物，并且更通常為選自化妝可接受的有機溶劑(可接受的偏差、毒理學、以及 感覺)的任何溶劑。這些有機溶劑可等于組合物總重量的0%至98%。這些有機溶劑可選 自由親水性有機溶劑、親脂性有機溶劑、兩親溶劑、以及其混合物構(gòu)成的組。可提及的親水 性有機溶劑的示例為包含1至8個碳原子的直鏈或支鏈的低單醇，例如乙醇、丙醇、丁醇、 異丙醇、或異丁醇；包含6至80個環(huán)氧乙烷基元的聚乙二醇；多元醇，例如丙二醇、異戊二 醇、丁二醇、丙三醇、或山梨醇；包含1至5個碳原子的烷基的單或二烷基異山梨醇；諸如二 乙二醇單甲醚或二乙二醇單乙醚的乙二醇醚，以及諸如二丙二醇甲醚的丙二醇醚?？商峒暗膬捎H有機溶劑的示例為多元醇，例如聚丙二醇(PPG)的衍生物，例如聚 丙二醇的酯以及脂肪酸的酯，或PPG以及脂肪酸(例如PPG-23油醚或PPG-36油酸)?？?提及的親脂性有機溶劑的示例為脂肪酯，例如己二酸二異丙酯、己二酸二辛酯、烴基安息香 酸酯、十四酸異丙酯、十六酸異丙酯、硬脂酸丁酯、月桂酸己酯、異壬酸異壬酯、2-乙基己基 十六酸酯、2-己基癸基月桂酸酯、2-辛基癸基十六酸酯、2-辛基月桂基十四酸酯、二-(2-乙 基己基)琥珀酸酯、二異硬脂醇蘋果酸酯、2-辛基月桂基乳酸酯、甘油三異硬脂酸酯、或二 甘油三異硬脂酸酯。卸妝組合物還可包括·油，例如為微乳劑形式的；·ρΗ劑，若用于將光致變色劑保持在皮膚上的化合物是pH敏感的，如聚羧乙烯；或·離子液體?？杀惶貏e提及的可單獨或混合用于卸妝組合物中的陰離子表面活性劑的示 例為下列化合物的堿性鹽、銨鹽、胺鹽或氨基醇鹽烷基硫酸鹽(alkoylsulfates)，烷 基醚硫酸鹽(alkoylether sulfates)，烷基酰胺硫酸鹽(alkoylamide sulfates)和 醚硫酸鹽，烷基芳基聚醚硫酸鹽(alkoylarylpolyethersulfates)，硫酸單甘油酯，烷 基磺酸鹽(alkoylsulfonates)，烷基酰胺磺酸鹽(alkoylamide sulfonates)，烷基芳基磺酸鹽(alkoylarylsulfonates)，α -烯烴磺酸鹽，石蠟磺酸鹽，烷基磺基琥珀酸 鹽(alkoylsulfosuccinates),燒基醚磺基琥拍酸鹽(alkoylethersulfosuccinates), 烷基酰胺磺基琥珀酸鹽(alkoylamide sulfosuccinates)，烷基磺基琥珀酰胺酸鹽 (alkoylsulfosuccinamates),燒基磺基乙酸鹽(alkoylsulfoacetates),燒基聚甘油羧酸 酯(alkoylpolyglycerol carboxylates)，烷基磷酸鹽(alkoylphosphates)/ 烷基醚磷 酸鹽(alkoyletherphosphates)，?；“彼猁}，烷基多肽鹽(alkoylpolyp印tidates)， 烷基酰胺基多肽鹽(alkoylamidopolyp印tidates)，?；u乙磺酸鹽和烷基月桂酸鹽 (alkoyllaurates)。在所有這些化合物中的烷基(alkoyl)或酰基通常指定包含12至18個碳原子的 鏈。也可提及肥皂(soap)和脂肪酸鹽，例如油酸、蓖麻油酸、棕櫚酸、硬脂酸、椰干油 酸(coprah oil acid)或氫化椰干油酸、并且特別是胺鹽例如硬脂酸胺；包含8_20個碳原 子的?；訄F的酰乳酸鈉；以酸或鹽形式的具有下列分子式的聚乙醇醚的羧酸Alk-(OCH2-CH2)n-OCH2-COOH其中，取代基Alk相應于包含12至18個碳原子的直鏈，并且其中n為在5至15 范圍內(nèi)的整數(shù)?？杀惶貏e提及的且可單獨或混合使用的非離子表面活性劑為醇、烷基酚 (alkoylphenols)以及具有包含8至18個碳原子的脂肪鏈的聚乙氧基脂肪酸、聚丙氧基脂 肪酸或聚甘油基脂肪酸；環(huán)氧乙烯和環(huán)氧丙烯的共聚物、在脂肪醇上的環(huán)氧乙烯和環(huán)氧丙 烯的冷凝物、聚乙氧基脂肪醯胺、聚乙氧基脂肪胺、乙醇酰胺、具有乙二醇的脂肪酸的酯、具 有山梨聚糖的脂肪酸的酯(可任選地為氧乙烯基化的)、具有蔗糖的脂肪酸的酯、具有聚乙 二醇的脂肪酸的酯、磷三酯、具有葡萄糖衍生物的脂肪酸的酯；胺基化糖的烷基聚糖苷和烷 基酰胺；α “ 二醇、單醇、烷基酚(alkoylphenol)、具有縮水甘油的酰胺或二甘醇酰胺、或縮 水甘油的前體的縮合產(chǎn)品?？芍瞥砂鈱W劑的卸妝除組合物，以便允許該光學劑例如通過凝聚效應被沉積 在清水(rinsing)上，能夠例如通過使用表面活性劑以及具有互補的離子性質(zhì)的聚合物獲 得該效應，所述具有互補的粒子性質(zhì)的聚合物例如PC/PA、TC/TA、TC/PA、TA/PC，所述清水可 能具有兩性和非離子表面活性劑以方便沉積。PC通常為諸如陽離子瓜爾膠(例如Jaguar C13S)的化合物或諸如JR400或紫羅烯的人造化合物。TC通常為四鏈化合物(特別是三甲 基銨基團)以及脂肪鏈化合物(C6至C3tl)。PA可以是諸如丙烯酸酯的多陰離子聚合物或甲 基丙烯酸酯聚合物或共聚物或包含磺酸基的聚合物。TA為陰離子表面活性劑，例如羧基或 硫酸或磺酸基表面活性劑(LES、LS)?？墒褂萌魏魏线m的載體來施用卸妝組合物，該載體特別是能夠吸收的載體，例如 諸如編織的或非編織的、毛氈、脫脂棉、植絨薄膜、海綿、或小毛巾的纖維卸妝盤；用于卸妝 的載體在卸妝操作之后被有利地消除。卸妝組合物可被包含在容器內(nèi)，并且在每次需要卸妝時被取出。在一個變型中，卸 妝組合物浸漬用于卸妝的載體，然后該載體可被包裝，例如被包裝在密封包裝中。在使用卸 妝組合物之后，角質(zhì)材料不需要被沖洗。在一個變型中，角質(zhì)材料可被沖洗?？衫缡褂昧?水進行沖洗，而不加入肥皂。
MM測試在密閉空間中的環(huán)境光下進行。光致變餼組合物二芳基乙烯由Yamada Chemical (日本)出售的具有編號DAE_TZ)0. 4%PMMA(由 Wako Pure Chemical Industries, Ltd(日本)出售的聚甲基丙烯酸甲 酯聚合物)10%丙酮qsp 100
<formula>formula see original document page 49</formula>用光敏化妝講行化妝的系統(tǒng)建立圖5中示出的包括成像器、兩個傾斜鏡、以及由聚合材料(PMMA)制成的透明 窗的用光敏化妝進行化妝的系統(tǒng)。輻照器的光源為由Bioblock Scientific出售的具有編號VL 6L的木材燈 (WoodLamp)。該燈在約365nm、在約75cm2上傳送約6W(瓦特)。使用瓦特計測量接收到的功率。在距該裝置3cm處測量到2. 25mW/cm2。該輻照器 被設置有用于校準來自該輻照器的紫外線光的透鏡。用于接收光致變色組合物的載體為體現(xiàn)皮膚紋理的白色塑料(聚亞安酯)材料， 該材料由Beaulax以商品名稱Bioskin ref #white 061031-2出售。示例 1光致變色組合物被施用到所述表面上，并且隨后允許它干燥1分鐘。將用于照明被處理區(qū)域的輻照器置于相應位置上，并且開啟光源。當光敏化妝逐 步顯色時，觀察到該光敏化妝。當使用者實現(xiàn)所期望的顏色時，停止照明。示例 2使用示例1的裝置，具有被包括在光源的電源中的可變電壓調(diào)節(jié)器。使用者使用 該可變電壓調(diào)節(jié)器，以加速或減慢化妝的外觀的光誘導的變化。示例 3通過在光路上放置可變孔徑光闌來改進示例1的裝置，該光闌設置有用于打開或 關閉其孔徑的環(huán)。使用者使用該光闌加速或減慢化妝的外觀的光誘導的變化。示例 4通過使用PMMA板以及在所述表面上沉積由紫外線過濾(Parsol 1789、凝膠、 以及乙醇的混合物)制成的組合物產(chǎn)生紫外線底片。因此該組合物被沉積在整個表面 (3cmX3cm)上。允許紫外線底片干燥。隨后，掛掉紫外線過濾層，以形成大約十個小孔，每 個小孔大約為1mm。該紫外線底片被放置光的路徑上，在涂敷有光致變色組合物的載體的前面。在本示例中，成像器產(chǎn)生均勻的光線。使用者使用該裝置，以使相應于該底片的圖像慢慢出現(xiàn)。在表面上形成小點。當 認為小點具有正確的顏色強度時，使用者停止照明。使用者能夠在同一區(qū)域上以及以同一 底片重新開始該操作，但產(chǎn)生更低強度的小點。為此，使用者比較在該過程中產(chǎn)生的小點的 顏色與已經(jīng)產(chǎn)生的小點的顏色。示例 5建立與示例2中的系統(tǒng)相同的系統(tǒng)，不同之處在于，還使用可見光光源。并排放置可見光光源與紫外線光源，并且鏡子被定向，使得光線終止在同一區(qū)域上。該裝置設置有三個按鈕，一個用于啟動紫外線光源，另一個用于啟動可見光光源， 以及第三個用于關閉這兩個光源。使用者操作按鈕，以引起光敏化妝的外觀進化或退化。示例 6Logitech Quick Cam Pro 9000照相機與紫外線矩陣投影儀被連接到便攜式計算 機上。半透明60/40鏡被定位，使得由投影儀發(fā)射的光通過該鏡并且平行于該投影儀的 入射光被以90°朝向照相機反射。該紫外線矩陣投影儀包括五部分DLP部件，被配置成操作紫外線光線，例如來自Texas Instruments的DMDO. 7英寸 XGA ；10瓦紫外線燈，在340nm至400nm范圍內(nèi)發(fā)射；控制器，用于控制DLP的鏡，例如來自Texas Instruments的DDC 4100數(shù)字控制 器；用于上述部件的接口和電源，例如Texas Instruments的DAD 2000 DMP電源與復 位驅(qū)動器；光學系統(tǒng)，用于將來自矩陣投影儀的光聚焦在約30cm處。該便攜式計算機被編程以捕獲照相機圖像；處理所述圖像以檢測臉部；確定待處 理區(qū)域，例如前額與兩頰；隨后在每個區(qū)域內(nèi)檢測最暗部分。所捕獲的圖像被顯示在屏幕 上，并且當最暗部分存在時被突出顯示。若軟件未檢測到暗區(qū)域，則顯示諸如“無處理可能” 的消息。該軟件被配置成提示使用者接受或拒絕處理所述區(qū)域。若使用者接受，該軟件以 選擇的方式控制DLP照亮位于暗部分之間的亮部分。隨后，由DLP顯示的圖像被紫外線光 線投影。控制面板允許使用者停止照明，以降低強度或重新開始照明。在操作前，使用者設置該光學系統(tǒng)，以光學校準照相機和紫外線投影儀，并且檢測 放大率，使得區(qū)域被重疊。光致變色產(chǎn)品(保存在黑暗中)由YAMADA CHEMICALS公司以編號DAE-TZ出售的二芳基乙烯品紅顏料 0. 06g由YAMADA CHEMICALS公司以編號DAE 2BT出售的二芳基乙烯黃色顏料 0. 28g
由YAMADA CHEMICALS公司以編號DAE 2BT出售的二芳基乙烯藍色顏料 0. 06g由WAKO PURE CHEMICALS Ltd公司出售的PMMA (甲基丙烯酸甲酯聚合物) IOg丙酮89. 6g保護產(chǎn)品來自LANC0ME 的 Sun DNA Guard SP50。該方法被實施在具有皮膚缺陷、例如棕色變色癥的人身上。光致變色產(chǎn)品被施用在一個或多個具有缺陷的區(qū)域上，以不限制缺陷的方式施用在整個區(qū)域上，例如對于諸如前額的區(qū)域施用0. 5g。待處理的人被定位成沿著紫外線投影 儀以及照相機的光軸(相對于投影儀被定位成偏移90° )。在人閉上眼睛后開始圖像獲取。示出“推薦區(qū)域”的界面允許選擇一個或多個待處理區(qū)域。隨后開始照明。操作 員監(jiān)控化妝進程，并且當需要時使用控制面板降低照明強度，當顏色開始變得同質(zhì)，即具有 皮膚缺陷的部分趨于獲得與其他部分類似或相同的顏色時，隨后操作者使用控制面板停止 照明。若效果是令人滿意的，則操作者在所有施加有光致變色產(chǎn)品的部分上施用保護產(chǎn)品。示例 7使用與示例6中的裝置相同的裝置。計算機被編程，用以捕獲來自照相機的圖像；處理圖像，以限定臉部以及檢測前額和兩頰；在這些部分中檢測最亮的區(qū)域；在屏幕上顯示來自照相機的圖像并且若存在最亮的區(qū)域，則突出顯示最亮的區(qū) 域。若程序未檢測到這樣的區(qū)域，則顯示相應的消息。該軟件被配置成提示使用者接受或拒絕處理所述區(qū)域。若使用者接受，該軟件以 選擇的方式控制DLP照亮位于暗部分之間的亮部分。隨后，由DLP顯示的圖像被紫外線光 線投影?？刂泼姘逶试S使用者停止照明，以降低強度或重新開始照明。在操作前，使用者設置該光學系統(tǒng)，以光學校準照相機和紫外線投影儀，并且檢測 放大率，使得區(qū)域被重疊。處理具有色素脫失(白癜風)的對象。與示例1中相同的光致變色產(chǎn)品通過定位缺陷但超出繞缺陷的邊界延伸大約2cm 而被施用到具有缺陷的一個或多個部分上，例如以約0. lg/cm2的量被施用。待處理的人被定位成沿著紫外線投影儀以及照相機的光軸(相對于投影儀被定 位成偏移90° )。在人閉上眼睛后開始圖像獲取。示出“推薦區(qū)域”的界面允許選擇一個或多個待處理區(qū)域。隨后開始照明。操作 員監(jiān)控化妝進程，并且當需要時使用控制面板降低照明強度，當顏色開始變得同質(zhì)，即具有 皮膚缺陷的部分趨于獲得與其他部分類似或相同的顏色時，隨后操作者使用控制面板停止照明。若效果是令人滿意的，則操作者在所有施加有光致變色產(chǎn)品的部分上施用保護產(chǎn)品。示例 8使用與示例6中的裝置相同的裝置。計算機被配置成捕獲照相機的圖像并且檢測臉、嘴唇、眼睛以及眉毛的輪廓。其產(chǎn)生相應于嘴唇的模板，該模板為其輪廓為嘴唇的自然輪廓的圖像；和/或相應于眼睛與眉毛之間的部分的模板，該模板為其輪廓在底端由上眼瞼的頂部限定而在頂端曲眉毛的底部限定的圖像。以可見光投影模板的圖像。操作者能夠檢測推薦圖像的質(zhì)量。計算機配備有圖像修整軟件，允許完善每個模板，例如重畫圖像的輪廓。該程序被配置成使得使用者能夠選擇用于圖像的填充圖案，并且圖像的填充圖案 可以是均勻的或包含幾何圖案。界面允許使用者接受或拒絕處理一個或多個部分。在操作前，使用者設置該光學系統(tǒng)，以光學校準照相機和紫外線投影儀，并且檢測 放大率，使得區(qū)域被重疊。光致變色產(chǎn)品被以例如約0. 5g的量施用到嘴唇上。光致變色產(chǎn)品被施用到眼睛和眉毛之間的部分上。上眼瞼被該產(chǎn)品覆蓋。藍色光致變色產(chǎn)品(保存在黑暗中)由YAMADA CHEMICALS公司以編號DAE 2BT出售的二芳基乙烯藍色顏料 0. 3g由WAKO PURE CHEMICALS Ltd公司出售的PMMA (甲基丙烯酸甲酯聚合物) IOg丙酮89. 7g紅色光致變色產(chǎn)品(保存在黑暗中)由YAMADA CHEMICALS公司以編號DAE-TZ出售的二芳基乙烯品紅顏料 0. 06g由YAMADA CHEMICALS公司以編號DAE 2BT出售的二芳基乙烯黃色顏料 0. 28g保護產(chǎn)品來自LANC0ME 的 Sun DNA Guard SP50。丙酮99. 66待處理的人被定位成沿著紫外線投影儀以及照相機的光軸(相對于投影儀被定 位成偏移90° )。紅色或藍色光致變色產(chǎn)品(例如約0. 5g)被施用到嘴唇上以及眼睛與眉毛之間的 部分內(nèi)。上眼瞼也被該產(chǎn)品覆蓋。在人閉上眼睛后開始圖像獲取。示出“推薦區(qū)域”的界面允許選擇一個或多個待處理區(qū)域。若需要，則界面允許使 用者修整圖像。隨后開始照明。操作員監(jiān)控化妝進程，并且當需要時使用控制面板降低照明強度。當顏色開始達到所期望的顏色時，隨后操作者使用控制面板停止照明。若效果是令人滿意的，則操作者在所有施加有光致變色產(chǎn)品的部分上施用保護產(chǎn)品。示例 9裝置與示例#6中的裝置相同，以及程序與示例#8中的程序相同。此外，計算機配備有產(chǎn)生模板的程序，該模板起源于考慮到臉部的元素而定為的 裝飾性圖像。例如，檢測到眼睛，并且以遵循眼睛的輪廓的線或以與眼睛成一線被定位的圖案 產(chǎn)生模板。在后一種情況下，程序檢測每只眼睛的位置；確定眼睛的主軸；以及沿著主軸在 外眼角處定位鄰近該眼角的圖案?？刂仆队皟x以投影該模板并且使裝飾性圖像顯現(xiàn)。紫外線矩陣投影儀包括五部分-DLP部件，被配置成操作紫外線光線，例如來自Texas Instruments的DMD0. 7英 寸 XGA ；-10瓦紫外線燈，在340nm至400nm范圍內(nèi)發(fā)射；-控制器，用于控制DLP的鏡，例如來自TexasInstruments的DDC 4100數(shù)字控制 器；_用于上述部件的接口和電源，例如Texas Instruments的DAD 2000 DMP電源與 復位驅(qū)動器；_光學系統(tǒng)，用于將來自矩陣投影儀的光聚焦在約30cm處。所有部件通過USB線連接到便攜式計算機。該計算機被配置成-使得使用者可從圖像或照片庫中選擇圖像；_通過網(wǎng)絡訪問圖像；-產(chǎn)生或修改圖像。該計算機也被配置成用于控制矩陣投影儀，從而以可見光或不可見光以及紫外線 光線投影所選擇的圖像。在操作前，使用者設置該光學系統(tǒng)，以光學校準照相機和紫外線投影儀，并且檢測 放大率，使得區(qū)域被重疊。人可使用諸如二芳基乙烯的光致變色產(chǎn)品，例如以編號DAE-TZ、DAE-2BT出售的 那些?？梢砸詮募s0.001%至約10% (以重量計)的范圍內(nèi)的濃度使用這些產(chǎn)品，優(yōu)選總 量范圍為從0. 至3%。待處理的人在無環(huán)境紫外線光的環(huán)境中施用包含光致變色劑的組合物。隨后，在 選擇圖像后，她優(yōu)選以可見光在其皮膚上投影該圖像。該圖像被聚焦并且使用者將可見光 切換成紫外線光線，并且當她對顏色強度效果滿意時停止投影。可施用紫外線防護組合物，以停止該處理。在另一示例中，掃描儀被連接到計算機上。使用該掃描儀捕獲隨后被投影到身體 上的圖像。該被投影的圖像可選自各種圖像-其復制化妝，例如用于復制腮紅效果的幾厘米的點或用于復制嘴唇化妝的彩色 表面；
-其復制自然效果，例如用于模仿雀斑的小缺陷；-其復制修飾，例如通常以永久或臨時方式紋的圖像，并且其可以是自然圖示，例 如動物或花、符號、字母、句子、幾何圖案等。顯然，本發(fā)明不限于所示的示例。特別地，可處理除了臉部以外的身體的其他區(qū) 域。有關處理臉部的所有示例同樣對處理其他區(qū)域有效。表述“包括”應被理解為與“包括至少一個” 同義。
權(quán)利要求
一種施加光敏化妝的方法，所述方法包括下述步驟a.·將熱穩(wěn)定光致變色組合物施用到被處理的區(qū)域上；b.·以逐步的方式用選擇用于使所述熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色或被擦除的光照射所述區(qū)域；以及c.·中斷和/或修改所述照射的特征，以實現(xiàn)所期望的外觀，該外觀相應于所述熱穩(wěn)定光致變色組合物的部分顯色或擦除。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，所述照射被中斷隨后被重新開始至少一次。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，所述照射的主波長和/或強度在實現(xiàn)所期望的外觀前 被修改。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，一旦實現(xiàn)所期望的外觀，光保護組合物就被施用到所 述熱穩(wěn)定光致變色組合物上，該光保護組合物形成至少對用于使所述熱穩(wěn)定光致變色組合 物顯色的波長λ的防護。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，每秒照射的能量E小于或等于0.SEtl，其中Etl為使80% 的熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色的每秒所需的能量。
6.根據(jù)前一權(quán)利要求所述的方法，其中2Ε0Ο
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，待處理區(qū)域的顏色被分析，隨后該分析的結(jié)果用 于自動控制照射。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，在施用熱穩(wěn)定光致變色組合物之后并在實現(xiàn)所期望的 外觀之前分析所述顏色。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，用紫外線光線照射被處理區(qū)域，并且所述光線使得所 述熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，照射可至少在兩個主波長處發(fā)生，一個主波長(X1) 使得熱穩(wěn)定光致變色組合物逐步顯色，而另一主波長(λ2)造成光敏化妝退化。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，所述兩個主波長分別為紫外線光和可見光，所述熱 穩(wěn)定光致變色組合物包括光致變色劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在施用組合物之后并在實現(xiàn)所期望的外觀之 前，模擬光敏化妝的效果。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，模擬的進展被關聯(lián)到被處理區(qū)域上的照射的進展。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，使用光敏化妝順序地產(chǎn)生多個圖案，至少一個實現(xiàn)所 期望的外觀的圖案的位置停止被照射，而至少一個其他還未實現(xiàn)所期望的外觀的位置或圖 案繼續(xù)被照射。
15.一種裝置，包括a.·用于照射存在于被處理區(qū)域上的熱穩(wěn)定光致變色組合物的輻照器；以及b.·用于模擬在照射期間光敏化妝的外觀改變的模擬器裝置。
16.一種裝置，包括a. 用于作用于光敏化妝的輻照器；以及b. 用于根據(jù)至少一個在光敏化妝期間來自被處理區(qū)域的數(shù)據(jù)的獲取來自動控制該輻 照器的控制裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供施加光敏化妝的方法，所述方法包括下述步驟將熱穩(wěn)定光致變色組合物施用到被處理的區(qū)域上；以逐步的方式用選擇用于使所述熱穩(wěn)定光致變色組合物顯色或被擦除的光照射所述區(qū)域；以及中斷和/或修改所述照射的特征，以實現(xiàn)所期望的外觀，該外觀相應于所述熱穩(wěn)定光致變色組合物的部分顯色或擦除。
文檔編號A61Q1/08GK101810396SQ20101012514
公開日2010年8月25日 申請日期2010年2月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月23日
發(fā)明者亨利·薩曼, 弗蘭克·吉隆, 馬克西姆·德博尼 申請人:歐萊雅