專利名稱：掩模版的潔凈裝置和掩模版的潔凈方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及掩模版的清洗，尤其涉及掩模版的潔凈裝置和潔凈方法。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)領(lǐng)域，硅片曝光是將掩模版上的集成電路圖形印刷到硅片上的過程，掩模版上的顆粒污染物會(huì)導(dǎo)致曝光線條的缺失；掩模版下表面的分子污染物硫酸銨薄霧會(huì)影響光的透射，從而影響成像質(zhì)量。因此在曝光之前掩模版上的污染物必須盡可能去除。公開號(hào)為CN1448796A的中國(guó)專利，提供了一種清潔裝置，包括一個(gè)具有工具尖端的清潔工具，以一所需的距離被定位于待清洗的掩模版表面上方，在掩模版和基臺(tái)之間施加一個(gè)電勢(shì)差。掩模版表面上的污染物通過電場(chǎng)被吸附到工具尖端上。為提高去除效率， 可以設(shè)置一個(gè)電離裝置，發(fā)射出UV射線或電子束到掩模版表面上靠近清潔工具的地方，負(fù)電荷污染物能更快的被吸附到帶正電荷的工具尖端上。用一個(gè)抽氣的真空泵在工具尖端附近保持一個(gè)低壓的環(huán)境，污染物通過清潔工具提供的排氣管排出。上述清潔裝置可集成到光刻機(jī)上使用，一旦發(fā)現(xiàn)污染可立即將其去除，通過施加電勢(shì)差、增加電離裝置達(dá)到去除污染物的目的，去除污染物的效率較高。但是所述清洗裝置也存在一個(gè)較嚴(yán)重的缺點(diǎn)施加電場(chǎng)后容易引起放電，容易引起掩模版損壞，并且因?yàn)樵撉鍧嵮b置位于光刻機(jī)內(nèi)部，放電還可能引起其他精密元件的損壞。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的解決現(xiàn)有清潔裝置容易導(dǎo)致掩模版損壞，以及光刻機(jī)中其他精密元件的損壞的技術(shù)問題，達(dá)到有效去除掩模版上污染物的目的。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種掩模版的潔凈裝置，包括壓縮氣體源，用于向所述潔凈裝置提供壓縮氣體；潔凈裝置主體，所述潔凈裝置主體密封并且耐壓；輸送管道，連接所述壓縮氣體源與所述潔凈裝置主體；真空泵，用于降壓并排出所述潔凈裝置內(nèi)的污染物；抽排管道，連接所述潔凈裝置主體與所述真空泵；卡槽，位于所述潔凈裝置主體內(nèi)，用于固定掩模版。在所述的掩模版的潔凈裝置中，安全閥，設(shè)置于所述潔凈裝置主體外，當(dāng)所述潔凈裝置主體內(nèi)壓強(qiáng)超過預(yù)值時(shí)，所述安全閥被擊穿從而保護(hù)所述掩模版和所述潔凈裝置。在所述的掩模版的潔凈裝置中，所述潔凈裝置主體能承受100帕斯卡-300000帕斯卡的絕對(duì)壓強(qiáng)在所述的掩模版的潔凈裝置中，所述輸送管道與所述抽排管道設(shè)置于所述潔凈裝置主體的相對(duì)兩側(cè)，所述掩模版的表面與所述壓縮氣體的流動(dòng)方向平行。在所述的掩模版的潔凈裝置中，所述輸送管道包括多個(gè)并行的輸入口，相應(yīng)的，所述抽排管道包括多個(gè)并行的輸出口，所述卡槽為多個(gè)，位于所述輸入口和所述輸出口之間。在所述的掩模版的潔凈裝置中，所述壓縮氣體源為惰性壓縮氣體源。在所述的掩模版的潔凈裝置中，所述惰性氣體為氮?dú)?。在所述的掩模版的潔凈裝置中，所述氮?dú)獾募兌葹?N-9N。在所述的掩模版的潔凈裝置中，所述預(yù)值為350000帕斯卡。在所述的掩模版的潔凈裝置中，還包括臭氧裝置，與所述輸送管道連接，用于向所述潔凈裝置提供臭氧，從而分解所述潔凈裝置內(nèi)的有機(jī)污染物。在所述的掩模版的潔凈裝置中，還包括紫外燈，設(shè)置于所述潔凈裝置主體內(nèi)。在所述的掩模版的潔凈裝置中，所述卡槽為中空卡槽，使所述掩模版正反兩面暴 Mo為達(dá)到本發(fā)明的目的，本發(fā)明還提供一種掩模版的潔凈方法，包括如下步驟掩模版安裝步驟，將掩模版放入潔凈裝置的卡槽內(nèi)；加壓步驟，打開壓縮氣體源，所述壓縮氣體源產(chǎn)生的氣體充入所述潔凈裝置，使所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第一時(shí)間內(nèi)增加到第一壓強(qiáng)；減壓步驟，打開真空泵，所述真空泵將所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第二時(shí)間內(nèi)降低到第二壓強(qiáng)；循環(huán)步驟，重復(fù)加壓步驟和減壓步驟；壓強(qiáng)調(diào)整步驟，打開所述壓縮氣體源，使所述潔凈裝置內(nèi)的壓強(qiáng)與潔凈裝置外壓強(qiáng)達(dá)到預(yù)定差值；準(zhǔn)備待用步驟，使所述掩模版處于待用狀態(tài)。在所述的掩模版的潔凈方法中，所述第一時(shí)間與所述第二時(shí)間均為2秒，所述第一壓強(qiáng)為300000帕斯卡，所述預(yù)定差值和所述第二壓強(qiáng)均為100帕斯卡。在所述的掩模版的潔凈方法中，所述壓縮氣體源為氮?dú)庠础Ｔ谒龅难谀０娴臐崈舴椒ㄖ?，所述氮?dú)獾募兌葹?N-9N。在所述的掩模版的潔凈方法中，在所述掩模版安裝步驟和加壓步驟之間還包括 打開臭氧發(fā)生器，向所述潔凈裝置提供臭氧；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括 關(guān)閉所述臭氧發(fā)生器。在所述的掩模版的潔凈方法中，在所述掩模版安裝步驟和加壓步驟之間還包括 打開紫外燈；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述紫外燈。在所述的掩模版的潔凈方法中，所述加壓步驟還包括打開臭氧發(fā)生器，向所述潔凈裝置提供臭氧；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述臭氧發(fā)生器。在所述的掩模版的潔凈方法中，所述加壓步驟還包括打開紫外燈；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述紫外燈。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明掩模版的潔凈裝置，可集成到光刻機(jī)上，即替代目前光刻機(jī)上的掩模盒，使得掩模盒不僅有儲(chǔ)存掩模版的功能，還具有清潔掩模版的作用。通過使用壓縮氣體源和真空泵對(duì)所述潔凈裝置加壓和減壓，可以很方便的在光刻機(jī)中完成掩模版的清潔過程；通過設(shè)置安全閥，可以保護(hù)所述掩模版和所述潔凈裝置不受損壞；通過在所述潔凈裝置主體內(nèi)設(shè)置卡槽，代替吸盤，使所述潔凈裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明掩模版的潔凈方法，通過對(duì)所述潔凈裝置加壓和減壓，可以很方便的在光刻機(jī)中完成掩模版的清潔過程；且所述潔凈方法步驟簡(jiǎn)單，可以根據(jù)污染物的種類和數(shù)量來設(shè)置加壓和減壓的次數(shù)，達(dá)到有效清除掩模版上污染物的目的。


圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模版的潔凈裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的卡槽和掩模版的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模版的潔凈方法的流程圖；圖4是本發(fā)明又一個(gè)實(shí)施例掩模版的潔凈裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模版的潔凈方法的流程圖；圖6為本發(fā)明又一個(gè)實(shí)施例掩模版的潔凈裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模版的潔凈方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容作詳細(xì)的描述，以使本發(fā)明權(quán)利要求的內(nèi)容得到解釋。實(shí)施例1圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模版的潔凈裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。參照?qǐng)D1所示，所述掩模版的潔凈裝置100包括壓縮氣體源2，用于向所述潔凈裝置100提供清潔氣體；潔凈裝置主體1，所述潔凈裝置主體1密封并且耐壓，在本實(shí)施例中，所述潔凈裝置主體1能承受100帕斯卡-300000帕斯卡的絕對(duì)壓強(qiáng)；輸送管道4，連接所述壓縮氣體源2與所述潔凈裝置主體1 ；真空泵3，用于降壓并排出所述潔凈裝置100內(nèi)的污染物；抽排管道5，連接所述潔凈裝置主體1與所述真空泵3 ；卡槽6，位于所述潔凈裝置主體1內(nèi)，用于固定掩模版8。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，所述潔凈裝置100還包括安全閥9，設(shè)置于所述潔凈裝置主體1外，當(dāng)所述潔凈裝置主體1內(nèi)壓強(qiáng)超過預(yù)值時(shí)，所述安全閥9被擊穿從而保護(hù)所述掩模版8和所述潔凈裝置100。上述掩模版的潔凈裝置100可以集成到光刻機(jī)上，在光刻機(jī)上完成掩模版的清潔過程，在所述潔凈裝置主體1外設(shè)置安全閥，不會(huì)由于所述潔凈裝置100內(nèi)壓強(qiáng)過大而對(duì)掩模版8造成損壞。掩模版8用卡槽直接卡固定，無需真空吸盤，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且容易實(shí)現(xiàn)。優(yōu)選的，在所述的掩模版的潔凈裝置100中，所述輸送管道4與所述抽排管道5設(shè)置于所述潔凈裝置主體1的相對(duì)兩側(cè)，有利于氣體對(duì)流；所述掩模版8的表面與所述壓縮氣體的流動(dòng)方向平行，有利于掩模版8上污染顆粒的脫落，以及所述壓縮氣體帶走所述污染顆粒。優(yōu)選的，參照?qǐng)D1所示，在所述的掩模版的潔凈裝置100中，所述輸送管道4包括多個(gè)并行的輸入口，相應(yīng)的，所述抽拍管道5包括多個(gè)并行的輸出口，所述卡槽6為多個(gè)，位于所述輸入口和所述輸出口之間。這樣，可以實(shí)現(xiàn)壓縮氣體從多處進(jìn)氣和排氣，有利于氣流均勻分布，使所述潔凈裝置100內(nèi)的多個(gè)掩模版8可以同時(shí)得到很好的清潔。
優(yōu)選的，在所述的掩模版的潔凈裝置100中，所述壓縮氣體源2為惰性壓縮氣體源，所述惰性氣體可以為氮?dú)?、氬氣、氦氣、氙氣、二氧化碳中的一種或組合，當(dāng)然，所述壓縮氣體源也可以是其他壓縮氣體源。優(yōu)選的，在所述的掩模版的潔凈裝置100中，所述惰性氣體為氮?dú)?，因?yàn)楝F(xiàn)階段的氮?dú)獾某杀据^低，容易得到。優(yōu)選的，在所述的掩模版的潔凈裝置100中，所述氮?dú)獾募兌葹?N-9N，這樣能保證所述壓縮氣體不會(huì)給所述潔凈裝置100帶來新的污染物。其中，6N為99.9999%，9N為 99. 9999999%。當(dāng)然，如果是惰性氣體的混合物，則保證各惰性氣體的純度達(dá)到6N-9N即可。優(yōu)選的，在所述的掩模版的潔凈裝置100中，所述預(yù)值為350000帕斯卡，此預(yù)值的選擇可以保護(hù)所述掩模版8和所述潔凈裝置100，其值比所述潔凈裝置100能承受的最大壓力略小。圖4是本發(fā)明又一個(gè)實(shí)施例掩模版的潔凈裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D4所示， 在所述的掩模版的潔凈裝置100中，還包括臭氧裝置10，與所述輸送管道4連接，用于向所述潔凈裝置100提供臭氧，從而分解所述潔凈裝置100內(nèi)的有機(jī)污染物，達(dá)到去除有機(jī)污染物的目的。圖6為本發(fā)明又一個(gè)實(shí)施例掩模版的潔凈裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D6所示， 在所述的掩模版的潔凈裝置100中，還包括紫外燈11，設(shè)置于所述潔凈裝置主體內(nèi)。所述紫外燈11發(fā)出的紫外光，波長(zhǎng)為200-400nm，具有很高的能量，能氧化分解一般方法難以處理的有機(jī)物，并且可以根據(jù)污染物的性質(zhì)不同，可調(diào)節(jié)波長(zhǎng)，波長(zhǎng)越短能量越高。尤其是所述紫外燈11和所述臭氧裝置10結(jié)合，可以更有效的去除所述掩模版8上的有機(jī)物。圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的卡槽和掩模版的結(jié)構(gòu)示意圖。優(yōu)選的，請(qǐng)參照?qǐng)D2所示，在所述的掩模版的潔凈裝置100中，所述卡槽為中空卡槽，使所述掩模版正反兩面暴露。同時(shí)清潔所述掩模版8的正反兩面，可以節(jié)約成本和工序。實(shí)施例2圖3為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模版的潔凈方法的流程圖。請(qǐng)參照?qǐng)D3所示，所述掩模版的潔凈方法，包括如下步驟掩模版安裝步驟，將掩模版放入潔凈裝置的卡槽內(nèi)；加壓步驟，打開壓縮氣體源，所述壓縮氣體源產(chǎn)生的氣體充入所述潔凈裝置，使所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第一時(shí)間內(nèi)增加到第一壓強(qiáng)；減壓步驟，打開真空泵，所述真空泵將所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第二時(shí)間內(nèi)降低到第二壓強(qiáng)；循環(huán)步驟，重復(fù)加壓步驟和減壓步驟；壓強(qiáng)調(diào)整步驟，打開所述壓縮氣體源，使所述潔凈裝置內(nèi)的壓強(qiáng)與潔凈裝置外壓強(qiáng)達(dá)到預(yù)定差值；準(zhǔn)備待用步驟，使所述掩模版處于待用狀態(tài)。上述掩模版的潔凈方法，通過對(duì)掩模版的潔凈裝置進(jìn)行加壓和減壓，可以有效去除掩模版上的污染物，且不會(huì)對(duì)所述掩模版造成損傷。實(shí)現(xiàn)上述掩模版的潔凈方法的裝置可以是但不限于，圖1、圖4和圖6所示的掩模版的潔凈裝置。迅速對(duì)所述潔凈裝置加壓和降壓，會(huì)使掩模版的正反面的氣流形成紊流，所述紊流沖刷掩模版正反面的污染物，使得污染物脫落。優(yōu)選的，上述掩模版的潔凈方法中，所述第一時(shí)間與所述第二時(shí)間均為2秒，所述第一壓強(qiáng)為300000帕斯卡，所述預(yù)定差值和所述第二壓強(qiáng)均為100帕斯卡。經(jīng)試驗(yàn)驗(yàn)證， 選擇所述的壓強(qiáng)和時(shí)間參數(shù)來值完成掩模版的清洗，比選擇其他參數(shù)值要清洗效果好，清洗后掩模版的潔凈度高。優(yōu)選的，上述掩模版的潔凈方法中，所述壓縮氣體源為氮?dú)庠?。?yōu)選的，上述掩模版的潔凈方法中，所述氮?dú)獾募兌葹?N-9N。優(yōu)選的，上述掩模版的潔凈方法中，在所述掩模版安裝步驟和加壓步驟之間還包括打開臭氧發(fā)生器，向所述潔凈裝置提供臭氧；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述臭氧發(fā)生器。具體的，請(qǐng)參照?qǐng)D5所示，圖5為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模版的潔凈方法的流程圖。所述掩模版的潔凈方法，包括如下步驟掩模版安裝步驟，將掩模版放入潔凈裝置的卡槽內(nèi)；掩模版安裝步驟1，打開臭氧發(fā)生器，向所述潔凈裝置提供臭氧；加壓步驟，打開壓縮氣體源，所述壓縮氣體源產(chǎn)生的氣體充入所述潔凈裝置，使所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第一時(shí)間內(nèi)增加到第一壓強(qiáng)；減壓步驟，打開真空泵，所述真空泵將所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第二時(shí)間內(nèi)降低到第二壓強(qiáng)；循環(huán)步驟，重復(fù)加壓步驟和減壓步驟；循環(huán)步驟1，關(guān)閉所述臭氧發(fā)生器；壓強(qiáng)調(diào)整步驟，打開所述壓縮氣體源，使所述潔凈裝置內(nèi)的壓強(qiáng)與潔凈裝置外壓強(qiáng)達(dá)到預(yù)定差值；準(zhǔn)備待用步驟，使所述掩模版處于待用狀態(tài)。其中，循環(huán)步驟中，重復(fù)加壓步驟和減壓步驟的次數(shù)，視不同的污染物種類和污染程度而定，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以通過有限次的試驗(yàn)或經(jīng)驗(yàn)得到。優(yōu)選的，上述掩模版的潔凈方法中，在所述掩模版安裝步驟和加壓步驟之間還包括打開紫外燈；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述紫外燈。優(yōu)選的，上述掩模版的潔凈方法中，所述加壓步驟還包括打開臭氧發(fā)生器，向所述潔凈裝置提供臭氧；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述臭氧發(fā)生器。在所述掩模版的潔凈方法中，加入打開臭氧發(fā)生器，向所述潔凈裝置提供臭氧的步驟，由于臭氧是強(qiáng)氧化劑，可以氧化掩模版的潔凈裝置內(nèi)的污染物，尤其是掩模版上的有機(jī)污染物，可有效提高所述潔凈方法的清潔效果。優(yōu)選的，上述掩模版的潔凈方法中，所述加壓步驟還包括打開紫外燈；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述紫外燈。具體的，請(qǐng)參照?qǐng)D7所示，圖7為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模版的潔凈方法的流程圖。所述掩模版的潔凈方法，包括如下步驟掩模版安裝步驟，將掩模版放入潔凈裝置的卡槽內(nèi)；
掩模版安裝步驟1，打開臭氧發(fā)生器和紫外燈，向所述潔凈裝置提供臭氧；加壓步驟，打開壓縮氣體源，所述壓縮氣體源產(chǎn)生的氣體充入所述潔凈裝置，使所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第一時(shí)間內(nèi)增加到第一壓強(qiáng)；減壓步驟，打開真空泵，所述真空泵將所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第二時(shí)間內(nèi)降低到第二壓強(qiáng)；循環(huán)步驟，重復(fù)加壓步驟和減壓步驟；循環(huán)步驟1，關(guān)閉所述臭氧發(fā)生器和所述紫外燈；壓強(qiáng)調(diào)整步驟，打開所述壓縮氣體源，使所述潔凈裝置內(nèi)的壓強(qiáng)與潔凈裝置外壓強(qiáng)達(dá)到預(yù)定差值；準(zhǔn)備待用步驟，使所述掩模版處于待用狀態(tài)。以上為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，但是本發(fā)明并不限于上述實(shí)施例，本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員，可以在本發(fā)明的精神的基礎(chǔ)上對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行改進(jìn)，
權(quán)利要求
1.掩模版的潔凈裝置，其特征在于，包括 壓縮氣體源，用于向所述潔凈裝置提供壓縮氣體； 潔凈裝置主體，所述潔凈裝置主體密封并且耐壓； 輸送管道，連接所述壓縮氣體源與所述潔凈裝置主體； 真空泵，用于降壓并排出所述潔凈裝置內(nèi)的污染物； 抽排管道，連接所述潔凈裝置主體與所述真空泵； 卡槽，位于所述潔凈裝置主體內(nèi)，用于固定掩模版。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，還包括安全閥，設(shè)置于所述潔凈裝置主體外，當(dāng)所述潔凈裝置主體內(nèi)壓強(qiáng)超過預(yù)值時(shí)，所述安全閥被擊穿從而保護(hù)所述掩模版和所述潔凈裝置。
3.如權(quán)利要求1所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，所述輸送管道與所述抽排管道設(shè)置于所述潔凈裝置主體的相對(duì)兩側(cè)，所述掩模版的表面與所述壓縮氣體的流動(dòng)方向平行。
4.如權(quán)利要求2所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，所述輸送管道包括多個(gè)并行的輸入口，相應(yīng)的，所述抽排管道包括多個(gè)并行的輸出口，所述卡槽為多個(gè)，位于所述輸入口和所述輸出口之間。
5.如權(quán)利要求1所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，所述壓縮氣體源為惰性壓縮氣體源。
6.如權(quán)利要求4所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，所述惰性氣體為氮?dú)狻?br> 7.如權(quán)利要求5所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，所述氮?dú)獾募兌葹?N-9N。
8.如權(quán)利要求6所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，所述預(yù)值為350000帕斯卡。
9.如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，還包括臭氧裝置， 與所述輸送管道連接，用于向所述潔凈裝置提供臭氧，從而分解所述潔凈裝置內(nèi)的有機(jī)污染物。
10.如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，還包括紫外燈， 設(shè)置于所述潔凈裝置主體內(nèi)。
11.如權(quán)利要求10中任一項(xiàng)所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，所述卡槽為中空卡槽，使所述掩模版正反兩面暴露。
12.如權(quán)利要求11所述的掩模版的潔凈裝置，其特征在于，所述潔凈裝置主體能承受 100帕斯卡-300000帕斯卡的絕對(duì)壓強(qiáng)。
13.掩模版的潔凈方法，其特征在于，包括如下步驟 掩模版安裝步驟，將掩模版放入潔凈裝置的卡槽內(nèi)；加壓步驟，打開壓縮氣體源，所述壓縮氣體源產(chǎn)生的氣體充入所述潔凈裝置，使所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第一時(shí)間內(nèi)增加到第一壓強(qiáng)；減壓步驟，打開真空泵，所述真空泵將所述潔凈裝置內(nèi)的絕對(duì)壓強(qiáng)在第二時(shí)間內(nèi)降低到第二壓強(qiáng)；循環(huán)步驟，重復(fù)所述加壓步驟和所述減壓步驟；壓強(qiáng)調(diào)整步驟，打開所述壓縮氣體源，使所述潔凈裝置內(nèi)的壓強(qiáng)與潔凈裝置外壓強(qiáng)達(dá)到預(yù)定差值；準(zhǔn)備待用步驟，使所述掩模版處于待用狀態(tài)。
14.如權(quán)利要求13所述的掩模版的潔凈方法，其特征在于，所述第一時(shí)間與所述第二時(shí)間均為2秒，所述第一壓強(qiáng)為300000帕斯卡，所述預(yù)定差值和所述第二壓強(qiáng)均為100帕斯卡。
15.如權(quán)利要求13所述的掩模版的潔凈方法，其特征在于，所述壓縮氣體源為氮?dú)庠础?br> 16.如權(quán)利要求15所述的掩模版的潔凈方法，其特征在于，所述氮?dú)獾募兌葹?N-9N。
17.如權(quán)利要求15所述的掩模版的潔凈方法，其特征在于，在所述掩模版安裝步驟和所述加壓步驟之間，還包括打開臭氧發(fā)生器，向所述潔凈裝置提供臭氧；在所述循環(huán)步驟和所述壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間，還包括關(guān)閉所述臭氧發(fā)生器。
18.如權(quán)利要求17所述的掩模版的潔凈方法，其特征在于，在所述掩模版安裝步驟和加壓步驟之間還包括打開紫外燈；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述紫外燈。
19.如權(quán)利要求18所述的掩模版的潔凈方法，其特征在于，所述加壓步驟還包括打開臭氧發(fā)生器，向所述潔凈裝置提供臭氧；在所述循環(huán)步驟和壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述臭氧發(fā)生器。
20.如權(quán)利要求19所述的掩模版的潔凈方法，其特征在于，所述加壓步驟還包括打開紫外燈；在所述循環(huán)步驟和所述壓強(qiáng)調(diào)整步驟之間還包括關(guān)閉所述紫外燈。
全文摘要
本發(fā)明提供掩模版的潔凈裝置和掩模版的潔凈方法。通過壓縮氣體源和真空泵，對(duì)所述潔凈裝置進(jìn)行加壓和減壓，從而實(shí)現(xiàn)掩模版的清洗；并通過安全閥來保護(hù)所述潔凈裝置和所述掩模版。所述潔凈方法，通過在短時(shí)間內(nèi)對(duì)潔凈裝置加壓和減壓，在掩模版表面形成紊流，從而有效去除掩模版上的污染物。
文檔編號(hào)B08B11/00GK102247964SQ201010181409
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2010年5月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月21日
發(fā)明者俞蕓 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司