專利名稱：主泵水力部件專用去污裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及去污裝置，具體涉及一種主泵水力部件專用去污裝置。
背景技術：
在反應堆運行一定周期后，或者在出現(xiàn)故障后，需要對一回路主冷卻劑泵(以下 簡稱主泵)進行解體檢修。由于長期處于一回路冷卻劑的放射性環(huán)境中，主泵水力部件積 累了很高的放射性劑量水平，必須通過去污將放射性劑量降低到適于檢修的水平后，才能 開始檢修作業(yè)。主泵水力部件去污裝置專門用于主泵水力部件的去污，它的設計既要考慮 主泵水力部件特有的結構特點，又要考慮主泵水力部件的高放射性水平。限于主泵水利部件的結構特點，不能將整個部件投入去污箱中去污，一般的化學 浸泡去污存在去污死角。限于主泵水利部件的高放射性水平，一般的化學浸泡去污所需的去污周期長，而 且難以達到理想的去污效果。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種去污周期短、去污效果好，二次放射性廢物量小的主 泵水力部件專用去污裝置。實現(xiàn)本發(fā)明目的的技術方案—種主泵水力部件專用去污裝置，包括去污箱，位于去污箱內的除鹽水接管、溢流 管、排風支管、試劑接管；溢流管和排風支管分別與去污箱底部排風總管及排水口相通；除 鹽水接管和試劑接管分別與外部的除鹽水系統(tǒng)和去污試劑系統(tǒng)相通；還包括循環(huán)加熱噴淋 回路，該循環(huán)加熱噴淋回路包括安裝在去污箱內部上端的噴淋管、安裝在去污箱外部的循 環(huán)泵，以及連通噴淋管、去污箱內去污液和循環(huán)泵的循環(huán)管。如上所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，循環(huán)加熱噴淋回路還包括位于去污 箱外部、用于加熱循環(huán)管內介質的加熱裝置。如上所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，去污箱內壁和/或底部設有若干組 超聲波去污裝置。如上所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，噴淋管由環(huán)形管和若干噴射器組 成。如上所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，噴淋管由環(huán)形管和若干噴射器組 成。如上所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，超生波去污裝置工作頻率為20 30kHz。本發(fā)明的效果在于通過加設循環(huán)加熱噴淋回路，使去污溶液可以覆蓋主泵水力 部件的整個污染表面，避免存在去污盲區(qū)，使去污溶液始終維持在所需的溫度，使去污溶液 保持均勻。在不增加去污箱總體容積的前提下，在去污箱內側壁和/或底部增加浸入式超聲波去污裝置，通過采用超聲波去污技術，使超聲波的空化效應和化學去污相結合，大幅度 提高了去污效率，減少了去污周期，同時超聲波作用提高了去污溶液的飽和閾值，提高去污 溶液的利用率，有效減少了二次廢物的產生量。


圖1為發(fā)明所提供的一種主泵水力部件去污箱裝置工作原理圖；圖2為發(fā)明所提供的一種主泵水力部件去污裝置結構示意圖。圖2中1.去污箱；2.除鹽水接管；3.溢流管；4.排風支管；5.排風總管；6.排水 接管；7.試劑接管；8.噴淋管；9.側壁超生波去污裝置；10.底部超聲波去污裝置；11.電 加熱器；12.循環(huán)泵；13.循環(huán)管；14.裙座。
具體實施例方式下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步描述。如圖2所示，一種主泵水力部件專用去污裝置，包括去污箱1，位于去污箱1內的除 鹽水接管2、溢流管3、排風支管4、試劑接管7。溢流管3和排風支管4分別與去污箱1底 部排風總管5及排水口相通。除鹽水接管2和試劑接管7分別與外部的除鹽水系統(tǒng)和去污 試劑系統(tǒng)相通。本裝置還包括循環(huán)加熱噴淋回路，該循環(huán)加熱噴淋回路包括安裝在去污箱 1內部上端的噴淋管8、安裝在去污箱1外部的循環(huán)泵12，以及連通噴淋管8、去污箱1內去 污液和循環(huán)泵12的循環(huán)管13。噴淋管8由環(huán)形管和若干噴射器組成。循環(huán)加熱噴淋回路 還包括位于去污箱1外部、用于加熱循環(huán)管13內介質的加熱裝置。去污箱1內設有側壁超 聲波去污裝置9和底部超生波去污裝置10。去污箱1用于容納主泵水力部件和去污溶液，其結構尺寸和內部構件的布置與主 泵水力部件的結構尺寸相適應，以保證容納主泵水力部件和適宜的去污溶液。去污箱1通 過裙座14坐落在設備基礎上。側壁超聲波去污裝置9呈環(huán)形布置在去污箱1內側，底部超 生波去污裝置10水平布置在去污箱1底部。本裝置中的超聲波去污裝置9和10選用超聲 波振盒，但并不僅限于此類設備，可以選用其它類型的超聲波去污裝置，配套的超聲波發(fā)生 器提供所需的高頻電源，超聲波的工作頻率可在20 30kHz之間選擇一種工作頻率，也可 以是兩種以上頻率的組合，通常的選擇是28kHz。在去污箱內設置超聲波去污裝置的目的是 通過超聲波在水中產生的空化效應去除主泵水力部件表面的附著性污染。去污箱1的內部管路設置如下除鹽水接管2用于接收來自除鹽水系統(tǒng)的供水； 溢流管3用于將去污箱1溢流水排往工藝系統(tǒng)的排水管線；排風支管4用于對去污箱1上 部空間進行持續(xù)排氣，各排風支管匯總至位于去污箱1底部的排風總管5，排風總管5連接 至放射性廢氣處理系統(tǒng)；排水接管6用于將去污產生的廢液排往放射性廢液收集和處理系 統(tǒng)，同時作為循環(huán)加熱噴淋回路的入口管，通過循環(huán)管13連接至去污箱1外部的循環(huán)泵12 的入口 ；試劑接管7用于接收來自試劑制備系統(tǒng)的化學試劑；噴淋管8通過循環(huán)管13連接 至去污箱1外部的電加熱器12的出口。外部循環(huán)管路與去污箱1連通，通過電加熱器對去 污溶液進行持續(xù)加熱，并通過設在去污箱1上部位置的噴淋管8對去污溶液浸沒不到的部 位進行噴淋去污。噴淋管8由一條環(huán)形管和若干的噴射器組成。設置噴淋管8的目的是對 主泵水力部件上正常液位浸沒不到的下法蘭面和法蘭頸部區(qū)域進行噴射去污，避免了原有單純依靠化學浸泡去污存在的去污盲區(qū)。去污箱1內部的所有管道沿去污箱側壁呈環(huán)形布置。 顯然，本領域的技術人員可以對發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神 和范圍。倘若這些修改和變型屬于本發(fā)明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發(fā)明也 意圖包含這些改動和變型在內。
權利要求
一種主泵水力部件專用去污裝置，包括去污箱(1)，位于去污箱(1)內的除鹽水接管(2)、溢流管(3)、排風支管(4)、試劑接管(7)；溢流管(3)和排風支管(4)分別與去污箱(1)底部排風總管(5)及排水口相通；除鹽水接管(2)和試劑接管(7)分別與外部的除鹽水系統(tǒng)和去污試劑系統(tǒng)相通；其特征在于還包括循環(huán)加熱噴淋回路，該循環(huán)加熱噴淋回路包括安裝在去污箱(1)內部上端的噴淋管(8)、安裝在去污箱(1)外部的循環(huán)泵(12)，以及連通噴淋管(8)、去污箱(1)內去污液和循環(huán)泵(12)的循環(huán)管(13)。
2.按照權利要求1所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，其特征在于所述的循環(huán) 加熱噴淋回路還包括位于去污箱(1)外部、用于加熱循環(huán)管(13)內介質的加熱裝置。
3.按照權利要求1或2所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，其特征在于所述的 去污箱(1)內壁和/或底部設有若干組超聲波去污裝置。
4.按照權利要求3所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，其特征在于所述的噴淋 管(8)由環(huán)形管和若干噴射器組成。
5.按照權利要求1或2所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，其特征在于所述的 噴淋管(8)由環(huán)形管和若干噴射器組成。
6.按權利要求3所述的一種主泵水力部件專用去污裝置，其特征在于所述的超生波 去污裝置工作頻率為20 30kHz。全文摘要
本發(fā)明涉及去污裝置，具體涉及一種主泵水力部件專用去污裝置。它包括去污箱，位于去污箱內的除鹽水接管、溢流管、排風支管、試劑接管；還包括循環(huán)加熱噴淋回路，該循環(huán)加熱噴淋回路包括噴淋管、循環(huán)泵，以及連通噴淋管、去污箱內去污液和循環(huán)泵的循環(huán)管。本裝置通過加設循環(huán)加熱噴淋回路，使去污溶液可以覆蓋主泵水力部件的整個污染表面，避免存在去污盲區(qū)，并通過持續(xù)的加熱和混合使去污溶液維持在所需的溫度和保持溶液均勻。在不增加去污箱總體容積的前提下，在去污箱內側壁和底部增加超聲波去污裝置，使超聲波的空化效應和化學去污相結合，大幅度提高了去污效率，減少了去污周期，有效減少了二次廢物的產生量。
文檔編號B08B3/08GK101954362SQ20101023761
公開日2011年1月26日 申請日期2010年7月27日 優(yōu)先權日2010年7月27日
發(fā)明者劉天斌, 周洪琦, 孫奕昀, 王鵬, 金青 申請人:中國核電工程有限公司