專利名稱：一種硅片預清洗設備的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于太陽能硅片清洗技術領域，具體涉及一種用于切割后太陽能硅片的預清洗設備，清除切割后硅片表面殘留的大量砂漿。
背景技術：
傳統(tǒng)的硅片預清洗方法依靠水的沖刷來達到清除硅片表面砂漿的目的，在太陽能行業(yè)初興時期，該方法取得了較好的效果，但是，隨著行業(yè)的進一步發(fā)展，對硅片產品的質量要求越來越高，為了降低切割成本，回收砂、回收液的大量導入，硅片清洗的壓力和困難越來越大，傳統(tǒng)預清洗設備的缺陷越發(fā)突顯。首先，傳統(tǒng)預清洗方法設備構造簡單，如圖1所示一套工裝，用于懸掛切割后的晶棒；兩只帶有密集針孔的噴管置于工裝兩側，用于提供噴淋水；一只水壓表，用于調節(jié)噴淋水壓。預清洗過程始終處于晶棒靜止狀態(tài)，因此只能沖刷到硅片局部，效果較差，只能通過調高水壓或者延長清洗時間來達到更好的清洗效果，但是這種方法會帶來其它負面影響，例如若水壓過大或沖洗時間過長，硅片會從粘結基體上脫落，造成硅片崩邊等不良，甚至產生碎片。其次，傳統(tǒng)預清洗方法水溫不受控，隨季節(jié)變化較大。通常剛切割完畢的晶棒表面溫度達30-50°C，而冬天預清洗的水溫僅能達到10°C甚至更低，硅晶體在低溫時有較大的熱膨脹系數(shù)，因此切割完的晶棒立刻進行預清洗，容易造成大量裂片。另外，傳統(tǒng)預沖洗方法完全依靠沖洗進行，然而吸附在硅片表面的雜質有物理吸附和化學吸附兩種，化學吸附作用力較強，僅靠沖洗雜質難以從硅片表面解吸，從而難以達到脫膠前所需的硅片潔凈表面，因此容易在脫膠過程中產生污片。
發(fā)明內容本實用新型針對現(xiàn)有技術的不足，提供了一種硅片預清洗設備，提高了出片率，降低了硅片污染，具有良好的清洗效果。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型的具體技術路線是—種硅片預清洗設備，包括一套用于懸掛晶棒的工裝和帶有水壓表的用于提供噴淋水的噴管，其特征在于所述工裝含有擺動機械臂。所述預清洗設備包含溫控輔助儲液槽。所述預清洗設備包含超聲漂洗槽。所述預清洗設備設有PLC系統(tǒng)。本實用新型采用包含可上下擺動機械臂的工裝，因此可以從上到下沖洗晶棒，而非局限在一個部位，克服了現(xiàn)有技術清洗部位單一的缺點。優(yōu)化地，本實用新型可設有溫控型輔助儲液槽，一來可以自動補水，二來內設的溫控儀通過加熱管控制和調節(jié)儲液槽的溫度，從而控制預沖洗的水溫。本實用新型預清洗設備除了有單純的沖洗功能外，還可增設超聲清洗功能，通過超聲漂洗槽進行超聲漂洗。
3[0014]另外，本實用新型的特點之一是采用全自動預清洗設備代替了傳統(tǒng)的預清洗設備，設有PLC系統(tǒng)，實現(xiàn)整個預清洗過程的自動化控制，整個預清洗過程經噴淋和超聲漂洗的多次循環(huán)，能達到良好的預清洗效果。本實用新型預清洗設備自動完成預清洗整個過程，溫度可以控制，避免了因環(huán)境溫度降低造成晶片脫落和裂片現(xiàn)象，因此提高了硅片出片率；改變了傳統(tǒng)靜止和單純依靠噴淋沖刷清洗的方法，實現(xiàn)了動靜結合、噴淋沖洗和超聲漂洗相結合，因此沖洗效果大大提高，硅片脫膠前的表面潔凈度大大提高，可以有效降低硅片臟污率。PLC系統(tǒng)Programmable logic Controller，可編程邏輯控制器，一種數(shù)字運算操作的電子系統(tǒng)，專為在工業(yè)環(huán)境應用而設計的。它采用一類可編程的存儲器，用于其內部存儲程序，執(zhí)行邏輯運算，順序控制，定時，計數(shù)與算術操作等面向用戶的指令，并通過數(shù)字或模擬式輸入/輸出控制各種類型的機械或生產過程。工裝即生產過程工藝裝備，指制造過程中所用的各種工具的總稱，包括刀具/夾
具/模具/量具/檢具/輔具/鉗工工具/工位器具等。

圖1為現(xiàn)有技術預清洗設備結構示意圖圖2為本實用新型預清洗設備結構示意圖圖3為本實用新型漂洗槽內結構示意圖圖4為硅片臟污率對比圖圖5為硅片出片率對比圖其中PLC系統(tǒng)1，工裝2，機械臂3，漂洗槽4，儲液槽5，震動板6，噴管7，噴嘴70， 水壓表a，噴管b，工裝C。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型做進一步的描述。如圖2所示，本方案硅片預清洗設備，包括用于懸掛晶棒的工裝2和帶有水壓表的用于提供噴淋水的噴管7，所述工裝2包含可上下擺動的機械臂3，因此可以從上到下沖洗晶棒，而非局限在一個部位，克服了現(xiàn)有技術清洗部位單一的缺點；噴管7設置于漂洗槽4 內，可對稱設置，漂洗槽4內還可設有超聲震動板6，具體結構如圖3所示?？稍O有溫控型輔助儲液槽5，一來可以自動補水，二來內設的溫控儀通過加熱管控制和調節(jié)儲液槽的溫度，從而控制預沖洗的水溫。本實用新型預清洗設備除了有單純的沖洗功能外，還可增設超聲清洗功能，通過超聲漂洗槽進行超聲漂洗。另外，本實用新型的特點之一是采用全自動預清洗設備代替了傳統(tǒng)的預清洗設備，設有PLC系統(tǒng)1，實現(xiàn)整個預清洗過程的自動化控制，整個預清洗過程經噴淋和超聲漂洗的多次循環(huán)，能達到良好的預清洗效果。本方案其中一種的硅片預清洗過程如下1.在PLC系統(tǒng)時間設定畫面設定預清洗時間，見表1。表1預清洗過程時間程序設定(單位s)
權利要求1.一種硅片預清洗設備，包括一套用于懸掛晶棒的工裝和帶有水壓表的用于提供噴淋水的噴管，其特征在于所述工裝含有擺動機械臂。
2.根據(jù)權利要求1所述的設備，其特征在于所述預清洗設備包含溫控輔助儲液槽。
3.根據(jù)權利要求1所述的設備，其特征在于所述預清洗設備包含超聲漂洗槽。
4.根據(jù)權利要求1所述的設備，其特征在于所述預清洗設備設有PLC系統(tǒng)。
專利摘要本實用新型屬于太陽能硅片清洗技術領域，具體涉及一種用于切割后太陽能硅片的預清洗設備，清除切割后硅片表面殘留的大量砂漿。包括一套用于懸掛晶棒的工裝和帶有水壓表的用于提供噴淋水的噴管，其特征在于所述工裝含有擺動機械臂。本實用新型提高了出片率，降低了硅片污染，具有良好的清洗效果。
文檔編號B08B3/02GK202018950SQ20102061521
公開日2011年10月26日 申請日期2010年11月19日 優(yōu)先權日2010年11月19日
發(fā)明者黨鵬, 唐世文, 王雪芹, 鐘偉, 陳寶增 申請人:浙江昱輝陽光能源有限公司