專利名稱：清洗裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于打印機中有機硅光導體的清洗裝置。
背景技術：
激光打印機是現(xiàn)在打印機中最常用的一種，清晰的打印質量是衡量激光打印機質 量的一個基本標準，而其中的有機硅光導體制成的硒鼓就是決定激光打印機打印是否清晰 的關鍵部件。有機硅光導體硒鼓質量好壞的評定主要依據(jù)外觀及光電性能。好的有機硅光 導體硒鼓外觀光亮；沒有能引起印品不良的大的藍點、白點等缺陷以及劃痕、手痕、磕碰傷 等缺陷。而在有機硅光導體硒鼓從生產(chǎn)線下線時，鼓身上沾滿柴油、煤油等油漬及粉塵顆 粒，這些都會影響硒鼓的光電性能。在對硒鼓的清洗過程中，既要去除這些污漬，同時又不 能在鼓身上留下劃痕、手痕。目前對硒鼓進行清洗，先用純水浸洗，以去除鼓身上的粉塵，再 將鼓身浸泡在鋁材清洗劑(粉狀)中進行刷洗，緊接著對鼓身進行反復多次的純水漂洗，漂 洗次數(shù)一般在6、次。上述清洗過程都是人工手動完成，既增加生產(chǎn)成本，又降低了生產(chǎn)效 率。

發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是將提供一種自動清洗且用較少清洗液就能清洗干 凈有機硅光導體的清洗裝置。為解決上述問題，本發(fā)明采用的技術方案是一種清洗裝置，包括清洗槽，所述清 洗槽外側設置有擺動氣缸，清洗槽內設置有Z形擺動架，擺動架的一端從清洗槽中伸出并 與清洗槽外側的擺動氣缸的活塞桿相連，位于清洗槽內的擺動架上設置有清洗座，清洗座 上設置有若干個用于放置有機硅光導體的塔型插座，沿插座的軸向外表面上至少開設有一 條泄水槽，塔型插座上方對應設置有導軌，導軌上滑動設置有一對滑塊，滑塊上分別設置有 噴淋裝置，清洗槽外側還設置有兩個移動氣缸，兩移動氣缸位于清洗槽兩側，且分別與之對 應的滑塊相連，清洗槽的底部設置有排水管，排水管上設置有排水閥門。所述噴淋裝置包括噴淋管，噴淋管上對應有機硅光導體的管壁上開設有噴淋孔； 所述噴淋裝置包括噴淋管和設置在噴淋管上的噴嘴；
所述清洗槽的中部槽壁上設置有溢流口； 所述清洗槽的底部設置有排污法蘭。本發(fā)明的有益效果是采用了頂部定位噴淋，使得有機硅光導體在垂直方向進入 清洗槽，在噴淋過程中沖洗下來的清洗液可以輕松隨著清洗液沿有機硅光導體內壁下滑， 并沿途清洗有機硅光導體的內壁，減少了清洗液的用量。


圖1是本發(fā)明清洗裝置的結構示意圖； 圖2是圖1的左視圖；圖3是圖1中A向示意圖。圖中1、清洗槽，2、擺動氣缸，3、擺動架，4、活塞桿，5、清洗座，6、導軌，7、左滑塊， 8、右滑塊，9、左噴淋管，10、右噴淋管，11、噴嘴，12、左移動氣缸，13、右移動氣缸，14、排水 管，15、排水閥門，16、溢流口，17、有機硅光導體，18、插座，19、泄水槽，20、排污法蘭。
具體實施例方式下面結合附圖，對本發(fā)明清洗裝置作進一步的詳細描述。如圖1、圖2所示，一種清洗裝置，包括清洗槽1，清洗槽1外側設置有擺動氣缸2， 清洗槽1內設置有ζ形擺動架3，擺動架3的一端從清洗槽1中伸出并與清洗槽1外側的擺 動氣缸2的活塞桿4相連，位于清洗槽1內的擺動架3上設置有清洗座5，清洗座5上設置 有若干個用于放置有機硅光導體17的塔型插座18，如圖3所示，沿插座18的軸向外表面上 至少開設有一條泄水槽19，根據(jù)生產(chǎn)需要，可以多開設幾條泄水槽。塔型插座18上方對應 設置有導軌6，導軌6上滑動設置有一對滑塊——左滑塊7和右滑塊8，左滑塊7和右滑塊 8上分別設置有左噴淋管9和右噴淋管10，左噴淋管9和右噴淋管10上分別設置噴嘴11 ； 或者僅在左滑塊7和右滑塊8上分別設置有左噴淋管9和右噴淋管10，且左噴淋管9和右 噴淋管10的管壁上對應有機硅光導體開設有噴淋孔；清洗槽1外側還設置有兩個移動氣 紅——左移動氣缸12和右移動氣缸13，左移動氣缸12和右移動氣缸13分別位于清洗槽1 兩側，且左移動氣缸12和右移動氣缸13分別與左滑塊7和右滑塊8相連，清洗槽1的底部 設置有排水管14，排水管14上設置有排水閥門15。為了防止排水管14被清洗下來的污垢 堵塞后，導致清洗液從清洗槽1溢出，可在清洗槽1的中部槽壁上設置專門用于清洗液溢出 的溢流口 16。為了便于將長時間積累在清洗槽1底部的油污和碎渣清理掉，可在清洗槽1 的底部設置有排污法蘭20。本發(fā)明的工作原理是將需要清洗的有機硅光導體17 —端套在清洗座5上的插座 18上，啟動擺動氣缸2，擺動氣缸2的活塞桿4收縮，使擺動架3連同清洗座5 —起降至清 洗槽1的下部，然后分別啟動左移動氣缸12和右移動氣缸13，將左滑塊7和右滑塊8分別 沿導軌6向中間推動，直至左噴淋管9和右噴淋管10上的噴嘴11位于有機硅光導體17的 正上方，然后打開排水管14上的排水閥門15，同時啟動外部控制裝置，通過噴嘴11對有機 硅光導體17進行清洗。清洗液沿有機硅光導體17內壁向下流動，同時清洗有機硅光導體 17的內壁，并通過插座18上的泄水槽19流入清洗槽1底部，減少了專門針對有機硅光導體 內壁清洗而使用的清洗液，且自動化清洗，避免了人工清洗帶來的一系列問題，從而達到節(jié) 約生產(chǎn)成本的目的，流入清洗槽1底部的清洗液隨油污一起從排水管14排出。
權利要求
1.清洗裝置，包括清洗槽，其特征在于所述清洗槽外側設置有擺動氣缸，清洗槽內設 置有Z形擺動架，擺動架的一端從清洗槽中伸出并與清洗槽外側的擺動氣缸的活塞桿相 連，位于清洗槽內的擺動架上設置有清洗座，清洗座上設置有若干個用于放置有機硅光導 體的塔型插座，沿插座的軸向外表面上至少開設有一條泄水槽，塔型插座上方對應設置有 導軌，導軌上滑動設置有一對滑塊，滑塊上分別設置有噴淋裝置，清洗槽外側還設置有兩個 移動氣缸，兩移動氣缸位于清洗槽兩側，且分別與之對應的滑塊相連，清洗槽的底部設置有 排水管，排水管上設置有排水閥門。
2.根據(jù)權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于所述噴淋裝置包括噴淋管，噴淋管上 對應有機硅光導體的管壁上開設有噴淋孔。
3.根據(jù)權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于所述噴淋裝置包括噴淋管和設置在 噴淋管上的噴嘴。
4.根據(jù)權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于所述清洗槽的中部槽壁上設置有溢 流口。
5.根據(jù)權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于所述清洗槽的底部設置有排污法蘭。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用較少清洗液就能清洗干凈有機硅光導體的清洗裝置，包括清洗槽，所述清洗槽外側設置有擺動氣缸，清洗槽內設置有Z形擺動架，擺動架的一端從清洗槽中伸出并與清洗槽外側的擺動氣缸的活塞桿相連，位于清洗槽內的擺動架上設置有清洗座，清洗座上設置有若干個用于放置有機硅光導體的塔型插座，沿插座的軸向外表面上至少開設有一條泄水槽，塔型插座上方對應設置有導軌，導軌上滑動設置有一對滑塊，滑塊上分別設置有噴淋裝置，清洗槽外側還設置有兩個移動氣缸，兩移動氣缸位于清洗槽兩側，且分別與之對應的滑塊相連，清洗槽的底部設置有排水管，排水管上設置有排水閥門。本發(fā)明適用于清洗硒鼓的場所。
文檔編號B08B3/02GK102139271SQ20111004937
公開日2011年8月3日 申請日期2011年3月2日 優(yōu)先權日2011年3月2日
發(fā)明者宋海兵, 徐強 申請人:江蘇港星方能超聲洗凈科技有限公司