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一種豆?jié){機(jī)的制作方法

文檔序號:1415443閱讀:132來源:國知局
專利名稱:一種豆?jié){機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于廚房小家電領(lǐng)域,具體涉及一種豆?jié){機(jī)。
背景技術(shù)
目前,豆?jié){機(jī)作為一種常用的家用電器,已逐步進(jìn)入普通百姓家庭,現(xiàn)有市場上的豆?jié){機(jī)的制漿方法一般是在機(jī)頭內(nèi)的電機(jī)連接一把粉碎刀具,與粉碎刀具配合達(dá)到粉碎制漿的結(jié)構(gòu)主要有以下兩種第一種是在機(jī)頭下部設(shè)置一個擾流網(wǎng),粉碎刀具設(shè)置在擾流網(wǎng)內(nèi),粉碎刀具通過在擾流網(wǎng)的小空間內(nèi)進(jìn)行循環(huán)攪打?qū)崿F(xiàn)制漿的目的;第二種是在制漿容器內(nèi)壁設(shè)置若干擾流筋,粉碎刀具轉(zhuǎn)動時帶動水流沖撞到擾流筋后反射到刀具上進(jìn)行循環(huán)攪打?qū)崿F(xiàn)制漿的目的?,F(xiàn)有粉碎刀具的制漿技術(shù)是靠切割、碰撞粉碎的,使大量大豆蛋白和營養(yǎng)不能有效地分離,留在了豆渣里,造成了浪費,還存在制漿濃度低,清洗困難等缺陷,為了提高制作豆?jié){的品質(zhì),滿足消費者不斷提高的使用要求,近年來,豆?jié){機(jī)領(lǐng)域持續(xù)不斷地涌現(xiàn)出新的技術(shù)改進(jìn)。返璞歸真是現(xiàn)代生活中的人們追求的新時尚,而傳統(tǒng)石磨制漿工藝普遍被人們所接受,通過兩石磨之間的磨齒碾碎,擠壓,使大豆內(nèi)的脂肪、蛋白質(zhì)和微量元素被有效地釋放,制作的豆?jié){出漿率高,濃度高,口感好。因此,研磨豆?jié){機(jī)是人們在提高制漿品質(zhì)的主要考慮改進(jìn)的技術(shù)問題之一,例如公告號為CN201163980Y的中國實用新型專利所披露的一種研磨式豆?jié){機(jī),包括機(jī)頭、桶體、電機(jī)和載豆杯,機(jī)頭扣裝在桶體上,載豆杯扣接在機(jī)頭下部,載豆杯底部設(shè)有內(nèi)、外磨盤,內(nèi)磨盤呈葉輪狀,載豆杯設(shè)有若干個可讓水進(jìn)入載豆杯內(nèi)的進(jìn)水孔;一杯蓋扣接在載豆杯底部。采用以上結(jié)構(gòu)后,呈葉輪狀的內(nèi)磨盤工作時可使水和制漿物料自上向下流動,同時水會從進(jìn)水孔進(jìn)入載豆杯向內(nèi)磨盤和外磨盤補充水,達(dá)到向內(nèi)磨盤和外磨盤自動供水和清洗的目的;其缺點在于一是豆子需要從機(jī)頭的送料道送入制漿容器內(nèi),加熱煮漿后通道狹窄而且粘渣,清洗困難;二是制漿初始時產(chǎn)生的豆皮被甩出后浮在液面上,無法循環(huán)研磨;三是初粉碎的物料由于重力原因沉在容器底部,內(nèi)磨盤離容器底部距離較遠(yuǎn),無法產(chǎn)生足夠的由外而內(nèi)的吸力,形成循環(huán)的流體非常有限,無法達(dá)成循環(huán)研磨。隨著豆?jié){機(jī)技術(shù)發(fā)展與革新,還推出一種軸流式研磨豆?jié){機(jī),例如公告號為 CN201479858U實用新型專利披露了另外一種無刀片軸流豆?jié){機(jī),包含有機(jī)頭、防溢電極、溫度傳感器、電熱管、桶體、電機(jī)、電機(jī)軸;機(jī)頭下蓋扣裝在桶體上,還包含一安裝在電機(jī)軸上的粉碎體、一固定在機(jī)頭上且位于粉碎體外的粉碎器;粉碎器上有排料孔,粉碎體外壁及粉碎器內(nèi)壁上都有粉碎溝,并且邊緣比較鋒利,此技術(shù)方案解決了制漿流體循環(huán)的問題,但是其他缺點也很明顯一是該結(jié)構(gòu)僅緊靠粉碎體上粉碎溝攪動水流產(chǎn)生吸力,帶動食物進(jìn)入粉碎器,在粉碎較大食物粉碎時,會遇到吸力不足問題;二是遇到較硬的食物未及時完全粉碎成小顆粒時,會使食物卡住在粉碎體和粉碎器之間,這樣將嚴(yán)重影響馬達(dá)的壽命和整機(jī)的性能;三是該粉碎器依靠相鄰粉碎溝之間凸起物邊緣的鋒利,來加大粉碎的效果,這種鋒利邊緣是易被磨損的,而且清洗存在死角,容易傷手;四是該技術(shù)方案的粉碎溝在粉碎器或粉碎上是多條以相等或不等的間距互不相交地沿外壁呈螺旋分布或直線分布,不利實現(xiàn)由粗到細(xì)的粉碎,而且它最小間隙5mm也是過大的,不易達(dá)到豆?jié){顆粒的細(xì)微粉碎,食物在小于5mm大小后,只能靠有限的吸力帶動下,產(chǎn)生碰撞實現(xiàn)粉碎,達(dá)不到依靠碾壓實現(xiàn)研磨粉碎設(shè)計的初衷;五是該技術(shù)方案在粉碎器外和粉碎體內(nèi)壁上制作螺旋溝槽的生產(chǎn)工藝實現(xiàn)是相當(dāng)困難的,即使實現(xiàn)了成本也相當(dāng)?shù)母?,無法形成產(chǎn)品的工業(yè)化量產(chǎn)及普及。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術(shù)目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種可實現(xiàn)立體磨漿的豆?jié){機(jī)。實現(xiàn)本發(fā)明技術(shù)目的的技術(shù)方案是一種豆?jié){機(jī),包括杯體,扣置在所述杯體上的機(jī)頭,設(shè)置在所述機(jī)頭內(nèi)的電機(jī)和與電機(jī)相連接的輸出軸,在所述機(jī)頭的下部連接有研磨裝置,該研磨裝置包括動磨組件和靜磨組件,所述動磨組件連接在所述輸出軸上并由其驅(qū)動旋轉(zhuǎn),所述靜磨組件為設(shè)置于所述動磨組件外周側(cè)且上部設(shè)有導(dǎo)流孔,所述動、靜磨組件上分別設(shè)置有帶有研磨工作面的動、靜磨盤,在所述動、靜磨盤的所述研磨工作面上分別有結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的動、靜研磨齒,并且,所述動、靜磨組件的所述動、靜研磨齒的下側(cè)和/或下方設(shè)置有液流驅(qū)動部和/或液流驅(qū)動裝置。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜磨組件上所述動、靜研磨齒的下側(cè)一體地設(shè)置有液流驅(qū)動部。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述液流驅(qū)動部的下方設(shè)有用于液流驅(qū)動的所述旋轉(zhuǎn)件,所述旋轉(zhuǎn)件的旋轉(zhuǎn)中心水平面至所述液流驅(qū)動部入口之間的距離在豎直方向上的投影H處于數(shù)值范圍5 mm彡H彡50mm,優(yōu)選地,20 mm ^ H ^ 30mm。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述的液流驅(qū)動部為動、靜磨導(dǎo)料齒。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜磨組件的所述動、靜研磨齒的下方設(shè)置有所述液流驅(qū)動裝置,該液流驅(qū)動裝置為旋轉(zhuǎn)時能夠產(chǎn)生液流驅(qū)動的旋轉(zhuǎn)件。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述的旋轉(zhuǎn)件上帶有至少一個翼片,所述翼片上設(shè)置有切割刃。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動磨導(dǎo)料齒的縱剖面大致呈上大下小的倒梯形,所述研磨裝置的縱剖面中,所述動磨導(dǎo)料齒的腰線與水平方向第一夾角β為 30° < β <85°,優(yōu)選地,所述第一夾角β為70°。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動磨導(dǎo)料齒在動磨盤上呈中心圓弧陣列均勻分布。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動磨導(dǎo)料齒陣列數(shù)目π4的數(shù)值范圍為 3 < n4 < M個,η4優(yōu)選為8個。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動磨導(dǎo)料齒的扭轉(zhuǎn)角m為 25°彡m彡125°,扭轉(zhuǎn)角m優(yōu)選為45°。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜磨導(dǎo)料齒呈螺旋扭轉(zhuǎn)且所述動、靜磨導(dǎo)料齒螺旋扭轉(zhuǎn)方向相反。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜磨導(dǎo)料齒呈中心圓弧陣列均勻分布。
作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜磨導(dǎo)料齒的數(shù)量nl范圍分別為3 個≤nl ≤24個,優(yōu)選nl=8個。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述靜磨導(dǎo)料齒的螺旋扭轉(zhuǎn)角f的取值范圍為 5° ≤f ≤155°,優(yōu)選 f 為 18°。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,相鄰的所述動、靜磨導(dǎo)料齒間所限定的導(dǎo)引空間的投影OD的數(shù)值范圍為5 mm≤ΦD≤35mm,優(yōu)選Φ 為15mm。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜磨導(dǎo)料齒從齒頂部至齒根部間的距離在豎直方向上的投影H2處于數(shù)值范圍5 mm≤H2≤35mm,優(yōu)選H2為12mm。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜磨組件間構(gòu)成有一環(huán)狀研磨區(qū),該研磨區(qū)包括環(huán)狀盤形動磨和環(huán)狀盤形靜磨;所述動、靜磨組件的縱剖面中所述研磨區(qū)工作面與水平方向的第二夾角α的數(shù)值范圍為0° ≤α ≤45°,優(yōu)選地,所述第二夾角α為 10°。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜磨組件的縱剖面中,動研磨齒與靜研磨齒的工作面之間的間隙g為0. 005 mm≤g≤2mm,優(yōu)選地,所述間隙g為0. 1mm。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜研磨齒分別在所述動、靜磨盤上呈中心圓弧陣列均勻分布。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜研磨齒的陣列數(shù)目n5、η2的個數(shù)數(shù)值范圍為3 ≤π5、π2 ≤M個,優(yōu)選地π5、η2均選取8個。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,在水平投影面上,所述動、靜研磨齒的每個陣列圓心夾角λ、y的數(shù)值范圍為15°≤λ或γ≤120°,優(yōu)選λ =45°或γ =45°。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,每個所述平行陣列的動、靜研磨齒在水平面上的投影距離Wl的數(shù)值范圍為0. 5 mm≤W4或Wl≤10mm, W4或Wl優(yōu)選為1. 5mm。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,每個所述動、靜研磨齒的平行陣列所包含的動、靜研磨齒數(shù)量3 ≤π6或π3 ≤為M個,π6或π3優(yōu)選為12個。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,每個所述動、靜研磨齒的齒形均可大致呈等腰梯形,其上邊寬度W3、W2的數(shù)值范圍為0. 2 mm≤W3或W2≤5mm, W3或W2優(yōu)選0. 2mm。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,每個所述動、靜研磨齒的腰線夾角δ或ε的數(shù)值范圍為60?!堞幕颚拧?20°,δ或ε優(yōu)選為90°。作為對上述技術(shù)方案的進(jìn)一步優(yōu)化,所述動、靜研磨齒的腰線頂點處設(shè)置為圓弧過渡,圓弧R2、Rl為0. 05≤R2或Rl≤2mm, R2或Rl優(yōu)選為0. 2mm。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明一種豆?jié){機(jī)的有益效果主要表現(xiàn)為
1、動磨頭與靜磨頭實現(xiàn)間隙漸變配合,實現(xiàn)物料的擠壓和研磨;
2、根據(jù)間隙的大小分設(shè)精磨部、粗磨部,不同區(qū)別實現(xiàn)不同的研磨,使研磨后的漿液更加細(xì)膩,出漿率更高;
3、葉輪的變換可實現(xiàn)不同大小、硬度的物料粉碎;
4、葉輪或?qū)Я淆X形成的旋吸部轉(zhuǎn)動時,形成極速水流循環(huán)沖擊,易于清洗;
5、動磨粉碎齒或靜磨粉碎齒設(shè)計成梯形,易加工、耐磨。


圖1所示為實施例一的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖2所示為動磨組件與機(jī)頭配合的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3所示為動磨組件與靜磨組件配合時的局部剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖4所示為動磨組件與靜磨組件配合時的仰視圖。圖5所示為靜磨組件的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖6所示為圖5中I處的局部放大示意圖。圖7所示為靜磨組件的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。圖8所示為所示為動磨組件的主視示意圖。圖9所示為圖8中II處的局部放大示意圖。圖10所示為圖8的俯視示意圖。圖11所示為動磨組件與電機(jī)之間設(shè)置聯(lián)軸器和彈壓裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖12所示為圖11的立體分解示意圖。圖13所示為靜磨組件外設(shè)置有靜磨罩的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖14所示為靜磨組件設(shè)置有擾流筋的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖15所示為動磨組件與電機(jī)之間設(shè)置減速箱的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖16所示為圖15中III處的局部放大示意圖。圖17所示為圖15中減速箱的俯視示意圖。圖18所示為圖15中減速箱的局部分解示意圖。圖中所示1、杯體;2、電機(jī);21、電機(jī)軸、3、動磨組件;31、動磨導(dǎo)料齒;32、動研磨齒;4、靜磨組件;41、靜磨導(dǎo)料齒;42、靜研磨齒;43、靜磨罩;44、擾流筋;5、導(dǎo)流孔;51、出料孔 ’6、翼片;7、連接體;8、聯(lián)軸器;81、減速箱;82、支架;83、太陽齒;84、行星齒;85、外齒圈;86、行星支架;9、彈壓裝置;A、研磨區(qū);B、導(dǎo)料部;C、虹吸部。
具體實施例方式下面,結(jié)合附圖對本發(fā)明的詳細(xì)實施方式作進(jìn)一步說明 實施例一
參見附圖廣10,一種豆?jié){機(jī),包括杯體1,扣置在所述杯體1上的機(jī)頭,設(shè)置在機(jī)頭內(nèi)的電機(jī)2和與電機(jī)2相連接的輸出軸21,在機(jī)頭的下部連接有研磨裝置,該研磨裝置包括動磨組件3和靜磨組件4,動磨組件3連接在輸出軸21上并由其驅(qū)動旋轉(zhuǎn),靜磨組件4為設(shè)置于動磨組件3外周側(cè)且上部設(shè)有導(dǎo)流孔5,動、靜磨組件上分別設(shè)置有帶有研磨工作面的動、靜磨盤,在動、靜磨盤的研磨工作面上分別有結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的動、靜研磨齒,并且,動、靜磨組件的動、靜研磨齒的下側(cè)和下方設(shè)置有液流驅(qū)動部和液流驅(qū)動裝置。動、靜磨組件上動、靜研磨齒的下側(cè)一體地設(shè)置有液流驅(qū)動部。液流驅(qū)動部的下方設(shè)有用于液流驅(qū)動的所述旋轉(zhuǎn)件,旋轉(zhuǎn)件的旋轉(zhuǎn)中心水平面至所述液流驅(qū)動部入口之間的距離在豎直方向上的投影H處于數(shù)值范圍5 mm<H<50mm,優(yōu)選地,20 mm彡H彡30mm。液流驅(qū)動部為動磨導(dǎo)料齒31、靜磨導(dǎo)料齒41。動、靜磨組件的動、靜研磨齒的下方設(shè)置有所述液流驅(qū)動裝置,該液流驅(qū)動裝置為旋轉(zhuǎn)時能夠產(chǎn)生液流驅(qū)動的旋轉(zhuǎn)件。旋轉(zhuǎn)件上帶有至少一個翼片6,翼片6上設(shè)置有切割刃。動磨導(dǎo)料齒31的縱剖面大致呈上大下小的倒梯形,研磨裝置的縱剖面中,動磨導(dǎo)料齒31的腰線與水平方向第一夾角β為30° ≤β ≤85°,綜合考慮被粉碎物料開關(guān)和大小對導(dǎo)引用的要求,第一夾角β最優(yōu)角度為70°。在動磨導(dǎo)料齒31與靜磨導(dǎo)料齒41所形成的空間就是導(dǎo)料部B。動磨導(dǎo)料齒31在動磨盤上呈中心圓弧陣列均勻分布。動磨導(dǎo)料齒31陣列數(shù)目η4的數(shù)值范圍為3≤η4≤M個,η4優(yōu)選為8個。動磨導(dǎo)料齒31的扭轉(zhuǎn)角m為25°≤m≤125°,扭轉(zhuǎn)角m優(yōu)選為45°。動、靜磨導(dǎo)料齒呈螺旋扭轉(zhuǎn)且動、靜磨導(dǎo)料齒螺旋扭轉(zhuǎn)方向相反。圖中所示的動磨導(dǎo)料齒31扭轉(zhuǎn)方式為逆時針,靜磨導(dǎo)料齒41扭轉(zhuǎn)方向為順時間。動、靜磨導(dǎo)料齒呈中心圓弧陣列均勻分布。動、靜磨導(dǎo)料齒的數(shù)量nl范圍分別為3個< nl < 24個,優(yōu)選nl=8個。其扭轉(zhuǎn)角度的選擇是依據(jù)動力輸出時的旋轉(zhuǎn)方向而定,靜磨導(dǎo)料齒41的螺旋扭轉(zhuǎn)角f的取值范圍為5° ≤f ≤155°,優(yōu)選f為18°。相鄰的動、靜磨導(dǎo)料齒間所限定的導(dǎo)引空間的投影Φ 的數(shù)值范圍為5 mm ≤Φ ≤;35讓,優(yōu)選 Φ 為 15mm。動、靜磨導(dǎo)料齒從齒頂部至齒根部間的距離在豎直方向上的投影H2處于數(shù)值范圍5 mm≤H2≤35mm,優(yōu)選H2為12mm。動、靜磨組件間構(gòu)成有一環(huán)狀研磨區(qū)A,該研磨區(qū)A包括環(huán)狀盤形動磨和環(huán)狀盤形靜磨;所述動、靜磨組件的縱剖面中所述研磨區(qū)A工作面與水平方向的第二夾角α的數(shù)值范圍為0° < α <45°,綜合粉碎效果和漿料循環(huán)流動性較優(yōu)的角度考慮,所述第二夾角 α 為 10°。動、靜磨組件的縱剖面中,動研磨齒32與靜研磨齒42的工作面之間的間隙g為 0. 005 mm ≤g ≤2mm,綜合粉碎效果和加工工藝性的設(shè)計,所述間隙g較優(yōu)為0. 1mm。導(dǎo)引物料向上升的靜研磨齒42高度h為0. 5^5mm,從制造工藝和導(dǎo)引上升力考慮優(yōu)選齒高h(yuǎn)為 2mm ο在導(dǎo)流孔5的下平面Sl與靜研磨齒42的末端是相平的,這樣便于磨出的漿液順暢流出。液流驅(qū)動部的空間高度Hl為l(T50mm,優(yōu)選高度為20mm。動、靜研磨齒分別在所述動、靜磨盤上呈中心圓弧陣列均勻分布。動、靜研磨齒的陣列數(shù)目n5、n2的個數(shù)數(shù)值范圍為3彡n5、n2 ( M個,優(yōu)選地η5、 η2均選取8個。在水平投影面上,動、靜研磨齒的每個陣列圓心夾角λ、y的數(shù)值范圍為 15° ≤λ ≤120°,15° ≤y ≤120°,優(yōu)選 λ =45° 或 γ =45°。每個平行陣列的動、靜研磨齒在水平面上的投影距離Wl的數(shù)值范圍為0.5 mm ≤Wl ≤10mm, 0. 5 mm ≤W4 ≤10mm, W4 或 Wl 優(yōu)選為 1. 5mm。每個動、靜研磨齒的平行陣列所包含的動、靜研磨齒數(shù)量3 < n6或n3 <為M個, η6、η3優(yōu)選為12個。每個動、靜研磨齒的齒形均可大致呈等腰梯形,其上邊寬度W3、W2的數(shù)值范圍為0. 2 mm ^ W2 ^ 5mm, 0. 2 mm ^ W3 ^ 5mm, W3、W2 優(yōu)選 0. 2mm。每個動、靜研磨齒的腰線夾角δ或ε的數(shù)值范圍為60 ° ( ε彡120° ,60 。彡δ彡120°,δ、ε優(yōu)選為90°。動、靜研磨齒的腰線頂點處設(shè)置為圓弧過渡,圓弧R2、Rl為0.05彡R2彡2mm, 0. 05 ^ Rl ^ 2mm, R2、Rl 優(yōu)選為 0. 2mm。連接體7與靜磨組件4為一體成型。所述靜磨組件下形成虹吸部C。本實施例在具體實施時,靜磨組件4有開口向下的部分形成虹吸部C,虹吸部C是與刀翼6產(chǎn)生吸力的部分;在虹吸部C上部中心設(shè)有導(dǎo)料部B,動磨導(dǎo)料齒31的縱剖面為上大下小,大致成倒梯形,是虹吸部C與研磨區(qū)A的過渡部位,起到將吸上來的物料進(jìn)行擠壓和導(dǎo)引到研磨區(qū)A進(jìn)行研磨粉碎。經(jīng)研磨粉碎后的物料從靜磨組件4上設(shè)置的出料孔51 處流出。此為一次完整的物料研磨過程。實施例二
如圖1廣12所示,機(jī)頭下蓋的下部設(shè)有連接體,靜磨組件4與連接體7固定連接,連接體7內(nèi)設(shè)置有聯(lián)軸器8和彈壓裝置9,聯(lián)軸器8包括與電機(jī)軸連接的上聯(lián)軸器和與動磨頭軸連接的下聯(lián)軸器,彈壓裝置9設(shè)于下聯(lián)軸器8與動磨組件3之間,彈壓裝置9包括止擋板和彈簧,聯(lián)軸器的活動間隙H3高度為(T25mm,具體地優(yōu)選為5mm。機(jī)頭下蓋與連接體7固定連接,連接體7與靜磨組件4卡扣可拆連接。其余方案同實施例一。實施例三
如圖13所示,靜磨組件4外還設(shè)置有靜磨罩43,靜磨組件4是單獨一個零件加工成形后再與靜磨罩43鑲嵌組合在一起。其余方案同實施例二。實施例四
如圖14所示,靜磨組件4在液流驅(qū)動部處設(shè)有擾流筋44,擾流筋44增加了物料在液流驅(qū)動部的初步撞擊粉碎。其他方案同實施例二。實施例五
如圖15 18所示,聯(lián)軸器8處增加一減速箱81,減速箱81包括支架82,在支架82內(nèi)設(shè)置太陽齒83、行星齒84、外齒圈85、行星支架86,電機(jī)軸21與太陽齒83固定連接輸入動力,通過行星齒84和外齒圈85減速,從行星支架86輸出到動磨組件3,根據(jù)電機(jī)2的轉(zhuǎn)速和動磨組件3、靜磨組件4的研磨轉(zhuǎn)速需要,轉(zhuǎn)速比n7為1 Γ1 40,綜合考慮液流驅(qū)動部和電機(jī)2可實現(xiàn)的轉(zhuǎn)速,優(yōu)選的轉(zhuǎn)速比π7為1 5。綜上所述,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員閱讀本發(fā)明文件后,根據(jù)本發(fā)明實施例的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思無需創(chuàng)造性腦力勞動而作出其他各種相應(yīng)的變換方案或本發(fā)明各實施例之間方案的替換,均屬于本發(fā)明所保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求
1.一種豆?jié){機(jī),包括杯體,扣置在所述杯體上的機(jī)頭,設(shè)置在所述機(jī)頭內(nèi)的電機(jī)和與電機(jī)相連接的輸出軸,其特征在于,在所述機(jī)頭的下部連接有研磨裝置,該研磨裝置包括動磨組件和靜磨組件,所述動磨組件連接在所述輸出軸上并由其驅(qū)動旋轉(zhuǎn),所述靜磨組件為設(shè)置于所述動磨組件外周側(cè)且上部設(shè)有導(dǎo)流孔,所述動、靜磨組件上分別設(shè)置有帶有研磨工作面的動、靜磨盤,在所述動、靜磨盤的所述研磨工作面上分別有結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的動、靜研磨齒,并且,所述動、靜磨組件的所述動、靜研磨齒的下側(cè)和/或下方設(shè)置有液流驅(qū)動部和/或液流驅(qū)動裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜磨組件上所述動、靜研磨齒的下側(cè)一體地設(shè)置有液流驅(qū)動部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述液流驅(qū)動部的下方設(shè)有用于液流驅(qū)動的所述旋轉(zhuǎn)件,所述旋轉(zhuǎn)件的旋轉(zhuǎn)中心水平面至所述液流驅(qū)動部入口之間的距離在豎直方向上的投影H處于數(shù)值范圍5 mm彡H彡50mm,優(yōu)選地,20謹(jǐn)彡H彡30謹(jǐn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述的液流驅(qū)動部為動、靜磨導(dǎo)料齒。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜磨組件的所述動、靜研磨齒的下方設(shè)置有所述液流驅(qū)動裝置,該液流驅(qū)動裝置為旋轉(zhuǎn)時能夠產(chǎn)生液流驅(qū)動的旋轉(zhuǎn)件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述的旋轉(zhuǎn)件上帶有至少一個翼片,所述翼片上設(shè)置有切割刃。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動磨導(dǎo)料齒的縱剖面大致呈上大下小的倒梯形,所述研磨裝置的縱剖面中,所述動磨導(dǎo)料齒的腰線與水平方向第一夾角β為 30° < β <85°,優(yōu)選地,所述第一夾角β為70°。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動磨導(dǎo)料齒在動磨盤上呈中心圓弧陣列均勻分布。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動磨導(dǎo)料齒陣列數(shù)目η4的數(shù)值范圍為3彡π4彡M個,π4優(yōu)選為8個。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動磨導(dǎo)料齒的扭轉(zhuǎn)角m為 25°彡m彡125°,扭轉(zhuǎn)角m優(yōu)選為45°。
11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜磨導(dǎo)料齒呈螺旋扭轉(zhuǎn)且所述動、靜磨導(dǎo)料齒螺旋扭轉(zhuǎn)方向相反。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜磨導(dǎo)料齒呈中心圓弧陣列均勻分布。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜磨導(dǎo)料齒的數(shù)量nl范圍分別為3個< nl < M個,優(yōu)選nl=8個。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述靜磨導(dǎo)料齒的螺旋扭轉(zhuǎn)角f的取值范圍為5° ^ f ^ 155°,優(yōu)選f為18°。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的豆?jié){機(jī),其特征是,相鄰的所述動、靜磨導(dǎo)料齒間所限定的導(dǎo)引空間的投影OD的數(shù)值范圍為5 mm彡Φ 彡35mm,優(yōu)選Φ 為15mm。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜磨導(dǎo)料齒從齒頂部至齒根部間的距離在豎直方向上的投影H2處于數(shù)值范圍5 mm彡H2彡35mm,優(yōu)選H2為12mm。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜磨組件間構(gòu)成有一環(huán)狀研磨區(qū),該研磨區(qū)包括環(huán)狀盤形動磨和環(huán)狀盤形靜磨;所述動、靜磨組件的縱剖面中所述研磨區(qū)工作面與水平方向的第二夾角α的數(shù)值范圍為0° < α <45°,優(yōu)選地,所述第二夾角α 為 10°。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜磨組件的縱剖面中,動研磨齒與靜研磨齒的工作面之間的間隙g為0. 005 mm彡g彡2mm,優(yōu)選地,所述間隙g為0. 1mm。
19.根據(jù)權(quán)利要求1至18中任一所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜研磨齒分別在所述動、靜磨盤上呈中心圓弧陣列均勻分布。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜研磨齒的陣列數(shù)目n5、n2的個數(shù)數(shù)值范圍為3 < π5、π2 < M個,優(yōu)選地π5、η2均選取8個。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的豆?jié){機(jī),其特征是,在水平投影面上,所述動、靜研磨齒的每個陣列圓心夾角λ、y的數(shù)值范圍為15°彡λ或γ彡120°,優(yōu)選λ =45°或γ =45°。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的豆?jié){機(jī),其特征是,每個所述平行陣列的動、靜研磨齒在水平面上的投影距離Wl的數(shù)值范圍為0. 5 mm彡W4或Wl彡10mm, W4或Wl優(yōu)選為1. 5mm。
23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的豆?jié){機(jī),其特征是,每個所述動、靜研磨齒的平行陣列所包含的動、靜研磨齒數(shù)量3 < π6或π3 <為M個,π6或π3優(yōu)選為12個。
24.根據(jù)權(quán)利要求19所述的豆?jié){機(jī),其特征是,每個所述動、靜研磨齒的齒形均可大致呈等腰梯形,其上邊寬度W3、W2的數(shù)值范圍為0. 2 mm彡W3或W2彡5mm, W3或W2優(yōu)選 0. 2mm。
25.根據(jù)權(quán)利要求19所述的豆?jié){機(jī),其特征是,每個所述動、靜研磨齒的腰線夾角δ或 ε的數(shù)值范圍為60 °彡δ或ε彡120°,δ或ε優(yōu)選為90°。
26.根據(jù)權(quán)利要求19所述的豆?jié){機(jī),其特征是,所述動、靜研磨齒的腰線頂點處設(shè)置為圓弧過渡,圓弧R2、Rl為0. 05彡R2或Rl彡2mm, R2或Rl優(yōu)選為0. 2mm。
全文摘要
本發(fā)明屬于廚房小家電領(lǐng)域,具體涉及一種豆?jié){機(jī),包括杯體,扣置在所述杯體上的機(jī)頭,設(shè)置在所述機(jī)頭內(nèi)的電機(jī)和與電機(jī)相連接的輸出軸,在所述機(jī)頭的下部連接有研磨裝置,該研磨裝置包括動磨組件和靜磨組件,所述動磨組件連接在所述輸出軸上并由其驅(qū)動旋轉(zhuǎn),所述靜磨組件為設(shè)置于所述動磨組件外周側(cè)且上部設(shè)有導(dǎo)流孔,所述動、靜磨組件上分別設(shè)置有帶有研磨工作面的動、靜磨盤,在所述動、靜磨盤的所述研磨工作面上分別有結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的動、靜研磨齒,并且,所述動、靜磨組件的所述動、靜研磨齒的下側(cè)和/或下方設(shè)置有液流驅(qū)動部和/或液流驅(qū)動裝置。本發(fā)明的豆?jié){機(jī),磨漿效果好,磨頭易加工、耐磨。
文檔編號A47J31/00GK102188158SQ201110141299
公開日2011年9月21日 申請日期2011年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月27日
發(fā)明者張錦洲, 湛海耀, 蔡才德, 陳世雄 申請人:浙江紹興蘇泊爾生活電器有限公司
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