專利名稱：設(shè)備報警時的晶圓處理方法及晶圓處理的遠程控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，更具體地說，本發(fā)明涉及一種設(shè)備報警時的晶圓處理方法，并且涉及一種采用了該設(shè)備報警時的晶圓處理方法的晶圓處理的遠程控制方法。
背景技術(shù)：
在晶圓清洗處理過程中，在跑貨時晶圓清洗裝置(mesa)以及晶圓傳輸裝置 (FABS)如發(fā)生異常狀況，晶圓處理設(shè)備會發(fā)出警報并且自動停止跑貨，設(shè)備工程師會根據(jù)警報信息對機器做相應(yīng)處理。但是，在設(shè)備工程師根據(jù)警報信息對機器做相應(yīng)處理之前，晶圓清洗裝置中的晶圓會一直呆在Meg模塊中。對于摻磷氧化硅玻璃(PSG)薄膜產(chǎn)品的化學(xué)機械研磨(CMP)， PSG層的規(guī)范十分嚴格。由于Meg模塊中的SCl混合化學(xué)液體(由NH3OH和H2A按一定濃度配比而成)對PSG層的刻蝕速度很快，所以晶圓呆在盛放SCl的容器(mega tank)中時間過長的話，會導(dǎo)致PSG層的厚度由于刻蝕而超出標準范圍。因此，希望提出一種防止在發(fā)生異常狀況時由于晶圓保持在盛放SCl的容器中而導(dǎo)致晶圓薄膜厚度超出標準范圍的風(fēng)險的技術(shù)方案。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種防止在發(fā)生異常狀況時由于晶圓保持在盛放化學(xué)溶液的容器中而導(dǎo)致晶圓薄膜厚度超出標準范圍的風(fēng)險的設(shè)備報警時的晶圓處理方法。以及采用了該設(shè)備報警時的晶圓處理方法以及晶圓處理的遠程控制方法。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了設(shè)備報警時的晶圓處理方法，其包括設(shè)置預(yù)定時間；停止晶圓清洗裝置；從晶圓清洗裝置停止時開始對停止時間進行計時；比較停止時間與預(yù)定時間；當停止時間大于或者等于預(yù)定時間時打開閥門使得晶圓清洗裝置中盛放溶液的容器的閥門打開使得溶液流出。優(yōu)選地，當停止時間大于或者等于預(yù)定時間時由遠程控制程序根據(jù)相應(yīng)閥門在程序中的軟件地址控制相應(yīng)閥門的開啟使得晶圓清洗裝置中盛放溶液的容器打開使得溶液流出，然后由遠程控制程序根據(jù)相應(yīng)閥門在程序中的軟件地址控制相應(yīng)去離子水閥門的開啟使容器中充入去離子水。優(yōu)選地，在設(shè)備報警時的晶圓處理方法，所述溶液由NH30H和H202混合而成。優(yōu)選地，在設(shè)備報警時的晶圓處理方法，所述晶圓是摻磷氧化硅玻璃薄膜產(chǎn)品。優(yōu)選地，所述設(shè)備報警時的晶圓處理方法還包括在使得溶液流出之后在容器中注入去離子水。優(yōu)選地，在設(shè)備報警時的晶圓處理方法，由遠程控制程序根據(jù)相應(yīng)閥門在程序中的軟件地址控制相應(yīng)閥門的開啟在容器中注入去離子水。通過采用根據(jù)本發(fā)明第一方面所述的設(shè)備報警時的晶圓處理方法，當從晶圓清洗裝置停止時開始的停止時間大于或者等于預(yù)定時間時，可以由遠程控制程序根據(jù)相應(yīng)閥門在程序中的軟件地址控制相應(yīng)閥門的開啟打開閥門使得晶圓清洗裝置中盛放溶液的容器
3閥門使得溶液流出(從而使得刻蝕停止)，從而有效地防止了在發(fā)生異常狀況時由于晶圓保持在盛放化學(xué)溶液的容器中而產(chǎn)生的超出標準范圍的風(fēng)險。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種采用了根據(jù)本發(fā)明第一方面所述的設(shè)備報警時的晶圓處理方法的晶圓處理的遠程控制方法?？梢岳斫獾氖?，由于采用了根據(jù)本發(fā)明第一方面所述的設(shè)備報警時的晶圓處理方法，因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，根據(jù)本發(fā)明第二方面的晶圓處理的遠程控制方法同樣能夠?qū)崿F(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的第一方面的設(shè)備報警時的晶圓處理方法所能實現(xiàn)的有益技術(shù)效果。即，當從晶圓清洗裝置停止時開始的停止時間大于或者等于預(yù)定時間時，可以由遠程控制程序根據(jù)相應(yīng)閥門在程序中的軟件地址控制相應(yīng)閥門的開啟打開閥門使得晶圓清洗裝置中盛放溶液的容器打開使得溶液流出(從而使得刻蝕停止)，從而有效地防止了在發(fā)生異常狀況時由于晶圓保持在盛放溶液的容器中而導(dǎo)致晶圓薄膜厚度超出標準范圍的風(fēng)險。


結(jié)合附圖，并通過參考下面的詳細描述，將會更容易地對本發(fā)明有更完整的理解并且更容易地理解其伴隨的優(yōu)點和特征，其中圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的設(shè)備報警時的晶圓處理方法的流程圖。需要說明的是，附圖用于說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。注意，表示結(jié)構(gòu)的附圖可能并非按比例繪制。并且，附圖中，相同或者類似的元件標有相同或者類似的標號。
具體實施例方式為了使本發(fā)明的內(nèi)容更加清楚和易懂，下面結(jié)合具體實施例和附圖對本發(fā)明的內(nèi)容進行詳細描述。針對晶圓清洗裝置(mesa)以及晶圓傳輸裝置(FABQ發(fā)生故障時發(fā)出的報警將使得晶圓清洗裝置中的晶圓保持較長時間的問題，本發(fā)明實施例可自動觸發(fā)晶圓清洗裝置中控制液體進出的閥門，以釋放溶液(例如SCl溶液)，隨后根據(jù)遠程控制程序中的軟件地址 (機器跑貨時，內(nèi)部的每一個參數(shù)在軟件中都有一個相應(yīng)的軟件地址，可由EAP根據(jù)相應(yīng)地址來抓取相應(yīng)的參數(shù)，“ΕΑΡ”表示由IT部門根據(jù)要求編寫的一段程序可抓取機器跑貨時的各種參數(shù))控制相應(yīng)閥門在容器中注入DIW(dispose ion water，超純水，去離子水)。更具體地說，可設(shè)置保持在盛放溶液(例如SCl溶液，其由NH3OH和H2A按一定濃度配比而成)的容器中的安全時間(預(yù)定時間)，例如針對摻磷氧化硅玻璃(PSG)晶圓設(shè)置安全時間(預(yù)定時間)。這樣，當由于任何原因使得晶圓清洗裝置停止時，將計算晶圓保持在盛放有溶液的容器中的時間(如果盛放有溶液的容器中存在晶圓)。比較晶圓清洗裝置停止時晶圓保持在盛放有溶液的容器中的時間以及上述設(shè)定的安全時間。如果晶圓清洗裝置停止時晶圓保持在盛放有溶液的容器中的時間超過安全時間，則打開晶圓清洗裝置中控制液體進出的閥門，以釋放溶液，隨后根據(jù)遠程控制程序中的相應(yīng)閥門的軟件地址控制閥門開啟在容器中注入去離子水，從而防止晶圓薄膜厚度超出標準范圍的風(fēng)險。具體地說，圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的設(shè)備報警時的晶圓處理方法的流程圖，更具體地說，圖1所示的根據(jù)本發(fā)明實施例的設(shè)備報警時的晶圓處理方法包括設(shè)置預(yù)定時間Sl ；停止晶圓清洗裝置S2 ；從晶圓清洗裝置停止時開始對停止時間進行計時S2 ；比較停止時間與預(yù)定時間S4，具體地說，例如可以利用一個比較器或定時器進行比較；當停止時間大于或者等于預(yù)定時間時(S4的判定為肯定)，打開閥門使得晶圓清洗裝置中盛放溶液的容器打開使得溶液流出S5;在圖1所示的具體實施例中，在步驟S5 中，由遠程控制程序根據(jù)相應(yīng)閥門在程序中的軟件地址控制相應(yīng)閥門的開啟。具體地說，例如可以利用打開閥門進行。另一方面，如果停止時間小于預(yù)定時間時(S4的判定為否定)，則計時器繼續(xù)計時 (計時器遞增)S6，并且在遞增之后繼續(xù)比較停止時間與預(yù)定時間S4以后后續(xù)的步驟。進一步地，所述設(shè)備報警時的晶圓處理方法例如還可以包括在使得溶液流出之后在容器中注入去離子水。同樣，在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，由遠程控制程序根據(jù)相應(yīng)閥門在程序中的軟件地址控制相應(yīng)去離子水閥門的開啟使容器中充入去離子水?？梢岳斫獾氖牵m然本發(fā)明已以較佳實施例披露如上，然而上述實施例并非用以限定本發(fā)明。對于任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下， 都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種設(shè)備報警時的晶圓處理方法，其特征在于包括 設(shè)置預(yù)定時間；停止晶圓清洗裝置；從晶圓清洗裝置停止時開始對停止時間進行計時； 比較停止時間與預(yù)定時間；當停止時間大于或者等于預(yù)定時間時打開閥門使得晶圓清洗裝置中盛放溶液的容器的閥門打開使得溶液流出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備報警時的晶圓處理方法，其特征在于，所述溶液由NH3OH 和H2A混合而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備報警時的晶圓處理方法，其特征在于，所述晶圓是摻磷氧化硅玻璃薄膜產(chǎn)品。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備報警時的晶圓處理方法，其特征在于，所述設(shè)備報警時的晶圓處理方法還包括在使得溶液流出之后在容器中注入去離子水。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備報警時的晶圓處理方法，其特征在于，由遠程控制程序根據(jù)相應(yīng)閥門在程序中的軟件地址控制相應(yīng)閥門的開啟在容器中注入去離子水。
6.一種晶圓處理方法，其特征在于采用了根據(jù)權(quán)利要求1至5之一所述的設(shè)備報警時的晶圓處理方法。
7.一種晶圓處理的遠程控制方法，其特征在于采用了根據(jù)權(quán)利要求6所述的晶圓處理方法。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種設(shè)備報警時的晶圓處置方法、及晶圓處理的遠程控制方法。根據(jù)本發(fā)明的一種設(shè)備報警時的晶圓處置方法包括設(shè)置預(yù)定時間；停止晶圓清洗裝置；從晶圓清洗裝置停止時開始對停止時間進行計時；比較停止時間與預(yù)定時間；當停止時間大于或者等于預(yù)定時間時打開閥門使得晶圓清洗裝置中盛放溶液的容器打開使得溶液流出。當從晶圓清洗裝置停止時開始的停止時間大于或者等于預(yù)定時間時，可以打開閥門使得晶圓清洗裝置中盛放溶液的容器打開使得溶液流出，使得刻蝕停止，從而有效地防止了設(shè)備在發(fā)生異常狀況時由于晶圓保持在盛放化學(xué)溶液的容器中而發(fā)生晶圓薄膜厚度超出標準范圍的風(fēng)險。
文檔編號B08B3/08GK102412120SQ20111029865
公開日2012年4月11日 申請日期2011年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者楊陽, 邵軍, 邵爾劍, 陳洪雷 申請人:上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司