專利名稱：一種可排除清洗殘留水的石英晶片清洗夾具的設計的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及的是一種可排除清洗殘留水的石英晶片清洗夾具的設計。屬于石英電子元器件制作的生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
隨著電子信息技術(shù)的飛速發(fā)展，人們對頻率元件的要求越來越高。作為頻率元件， 石英晶體諧振器和振蕩器也面臨更高的可靠性、穩(wěn)定性等要求。要進一步提高晶體的電器性能和穩(wěn)定性，就需對石英晶片表面的潔凈度有更高的要求。晶片表面光潔度越好，成膜時銀層與晶片表面結(jié)合越牢固，成膜過程形成的銀層越致密，穩(wěn)定性就越好，同時晶片與銀層之間無異物和污染，可以極大的改善石英晶體的激勵電平依賴性和阻抗，從而提高石英晶體的電氣性能和可靠性。為提高石英晶片表面潔凈度，人們開始尋找更好的清洗方法。在這些方法中，將石英晶片置于夾具中一起超聲清洗逐漸成為一種趨勢。這種清洗方法可以避免傳統(tǒng)石英晶片超聲清洗過程中因晶片碰撞造成的劃傷、崩裂和因其重疊造成的污染，也可以減少晶片在清洗過程中的損耗。同時由于每一石英晶片清洗外部環(huán)境相同，清洗后的一致性也將得到提高。但在石英晶片置于夾具中清洗這一方法一直存在這樣的問題夾具底板限位孔等工裝部位會殘留有水，對石英晶片造成二次污染，進而影響石英晶體的電氣性能和可靠性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提出的是一種可排除清洗殘留水的石英晶體清洗夾具的設計，其目的在于排除清洗后底板限位孔中殘留的水，避免其內(nèi)殘留的水對石英晶片產(chǎn)生二次污染。本發(fā)明的技術(shù)解決方案可進行清洗殘留水排除的石英晶體清洗夾具，其特征是自上而上依次疊裝電極板、中間定位板、下電極板、底框裝磁鐵層、底框下護板，在夾具底框上陣列分布著較磁鐵尺寸大于限位孔的內(nèi)孔徑，上電極板和中間定位板對應的限位孔的四個角的部位各設有一個導流槽；導流槽貫穿底框裝磁鐵層、下電極板、中間定位板和上電極板，與限位孔四個角相交。本發(fā)明的優(yōu)點彌補了傳統(tǒng)石英晶片同工裝一起清洗過程后底板磁鐵限位孔內(nèi)殘留的水不易排出、污染晶片的缺陷，可以使得清洗后工裝及限位孔內(nèi)殘留的水順著導流槽排出，避免了殘留水對石英晶片的二次污染，提高了成膜前石英晶片表面潔凈度。


附圖1是本發(fā)明的磁鐵工位局部放大圖。圖中的1是上電極板、2是中間定位板、3是下電極板、4是底框裝磁鐵層、5是底框下護板、6是磁鐵、7是導流槽。
具體實施方式
對照附圖，其結(jié)構(gòu)是自上而上依次疊裝電極板1、中間定位板2、下電極板3、底框裝磁鐵層4、底框下護板5，在夾具底框上陣列分布著磁鐵6，磁鐵6的尺寸大于的限位孔的內(nèi)孔徑，上電極板1和中間定位板2對應的限位孔的四個角的部位各設有一個導流槽7，導流槽7貫穿底框裝磁鐵層4、下電極板3、中間定位板2和上電極板1，與限位孔四個角相交， 能將清洗過程中殘留在底板限位孔內(nèi)的水導出。在原有的夾具磁鐵工位設計中，磁鐵被密封在一個與外界完全隔絕的空間內(nèi)部， 不利于殘留水漬的排除，而本發(fā)明的夾具磁鐵工位在設計過程中增加了導流槽的設計，在排除殘留水漬的同時又可以保證成膜過程中不會導致有銀蒸鍍到磁鐵上面，可以延長磁鐵的使用壽命。
權(quán)利要求
1.可進行清洗殘留水排除的石英晶體清洗夾具，其特征是自上而上依次疊裝電極板、 中間定位板、下電極板、底框裝磁鐵層、底框下護板，在夾具底框上陣列分布著較磁鐵尺寸大于限位孔的內(nèi)孔徑，上電極板和中間定位板對應的限位孔的四個角的部位各設有一個導流槽；導流槽貫穿底框裝磁鐵層、下電極板、中間定位板和上電極板，與限位孔四個角相交。
全文摘要
本發(fā)明涉及的是可進行清洗殘留水排除的石英晶體清洗夾具，其特征是自上而上依次疊裝電極板、中間定位板、下電極板、底框裝磁鐵層、底框下護板，在夾具底框上陣列分布著較磁鐵尺寸大于限位孔的內(nèi)孔徑，上電極板和中間定位板對應的限位孔的四個角的部位各設有一個導流槽；導流槽貫穿底框裝磁鐵層、下電極板、中間定位板和上電極板，與限位孔四個角相交。優(yōu)點彌補了傳統(tǒng)夾具和晶片一起清洗時在限位孔內(nèi)殘留有水的缺陷，可以在清洗后將限位孔內(nèi)殘留的水排除，避免了晶片和夾具一起清洗過程后殘留水漬對晶片的污染。
文檔編號B08B13/00GK102489485SQ20111042584
公開日2012年6月13日 申請日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者李坡, 高志祥 申請人:南京中電熊貓晶體科技有限公司