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一種硅片清洗液的制作方法

文檔序號:1370465閱讀:280來源:國知局
專利名稱:一種硅片清洗液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種清洗液,特別涉及一種用于清洗硅片的清洗液,并提供該清洗液的制備方法,屬于硅片加工的技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
硅片是一種硅材料通過加工切成一片一片而形成的。從而硅材料到可使用的硅片要經(jīng)過切割、清洗等多道工序。隨著社會的發(fā)展,硅片的使用越來越多,硅片的加工也受取更多的關(guān)注。清洗作為硅片的一個生產(chǎn)工序之一,其清洗的好壞對硅片的使用性能有著很大的影響。清洗的主要目的是為了清洗掉切割過程中的產(chǎn)生的砂粒、殘留的切削磨料、金屬離子及指紋等,使硅片表面達(dá)到無腐蝕氧化、無殘留等技術(shù)指標(biāo)。傳統(tǒng)的硅片清洗,由于各方法不一樣,采用的清洗液也不一樣。大多采用鹽酸進(jìn)行清洗,鹽酸為強腐蝕性物質(zhì),處理過后很難處理,如隨意倒放,容易引起污染。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種硅片清洗液,該清洗液表面去污力強,可保持清潔度的持續(xù)性,具有良好的清潔效果,并且該清洗液對環(huán)境無不利影響;另外,提供了本清洗液的制備方法,該制備方法操作簡單、方便。為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明一種硅片清洗液,由以下成分組成(按重量份數(shù)計)
表面活性劑15-30份
乙醇5-8份
氟化氫2-4份
EDTA 二鈉2-3 份
三乙醇胺3-5份
檸檬酸0. 5-2份
去離子水余量。上述的硅片清洗液,其中,所述表面活性劑脂肪醇聚環(huán)氧乙烷醚、烷基酚聚環(huán)氧乙烷醚、十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基二醇酰胺或甲氧基脂肪酰胺基苯磺酸鈉。上述的硅片清洗液,其中,所述乙醇的濃度為90-100% (質(zhì)量百分比)。上述的硅片清洗液,其中,所述檸檬酸的濃度為10% (質(zhì)量百分比)。
本發(fā)明可實現(xiàn)以下有益效果本發(fā)明制備方法簡單,對環(huán)境無不利影響,且表面去污力強,可保持清潔度的持續(xù)性,對于多晶硅片等物料具有良好的清潔效果,并且提高了清洗速度和耐用性能;本發(fā)明通過乙醇對硅片表面有機沾污進(jìn)行清洗,另外,通過氟化氫對氧化層進(jìn)行清洗,從而,使硅片的清洗更加徹底,且對金屬離子有較強的清洗作用,從而,提高了硅片的后續(xù)使用性能。
具體實施例方式下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明一種硅片清洗液,由以下成分組成(按重量份數(shù)計)
表面活性劑15-30份
乙醇5-8份
氟化氫2-4份
EDTA 二鈉2-3 份
三乙醇胺3-5份
檸檬酸0. 5-2份
去離子水余量。所述表面活性劑脂肪醇聚環(huán)氧乙烷醚、烷基酚聚環(huán)氧乙烷醚、十二烷基苯磺酸鈉、 十二烷基二醇酰胺或甲氧基脂肪酰胺基苯磺酸鈉。所述乙醇的濃度為90-100% (質(zhì)量百分比)。所述檸檬酸的濃度為10% (質(zhì)量百分比)。實施例一將表面活性劑15份、乙醇5份、氟化氫2份、EDTA 二鈉2份、三乙醇胺3份、檸檬酸0. 5份、去離子水余量,進(jìn)行攪拌混合,形成清洗液。乙醇的濃度為90%,檸檬酸的濃度為 10%。性能指標(biāo)清洗硅片1000片,清洗潔凈度達(dá)到98. 9%。實施例二將表面活性劑20份、乙醇6份、氟化氫3份、EDTA 二鈉2份、三乙醇胺4份、檸檬酸1份、去離子水余量,進(jìn)行攪拌混合,形成清洗液。乙醇的濃度為98%,檸檬酸的濃度為 10%。性能指標(biāo)清洗硅片1000片,清洗潔凈度達(dá)到99. 9 %。實施例三將表面活性劑30份、乙醇5份、氟化氫2份、EDTA 二鈉2份、三乙醇胺3份、檸檬酸0.5份、去離子水余量,進(jìn)行攪拌混合,形成清洗液。乙醇的濃度為100%,檸檬酸的濃度為 10%。性能指標(biāo)清洗硅片1000片,清洗潔凈度達(dá)到99. 6 %。本發(fā)明制備方法簡單,對環(huán)境無不利影響,且表面去污力強,可保持清潔度的持續(xù)性,對于多晶硅片等物料具有良好的清潔效果,并且提高了清洗速度和耐用性能;本發(fā)明通過乙醇對硅片表面有機沾污進(jìn)行清洗,另外,通過氟化氫對氧化層進(jìn)行清洗,從而,使硅片的清洗更加徹底,且對金屬離子有較強的清洗作用,從而,提高了硅片的后續(xù)使用性能,本清洗液對硅片進(jìn)行清洗可提高硅片的良率,提高硅片的成品率,降低企業(yè)消耗的成本。最后有必要在此說明的是,上述說明并非是對本發(fā)明的限制,本發(fā)明也并不限于上述舉例,本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在本發(fā)明的實質(zhì)范圍內(nèi),作出的變化、改型、添加或替換,都應(yīng)屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種硅片清洗液,其特征在于,由以下成分組成(按重量份數(shù)計)表面活性劑15-30份乙醇5-8份氟化氫2-4份EDTA 二鈉2-3 份三乙醇胺 3-5份檸檬酸0. 5-2份去離子水余量。
2.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗液,其特征在于,所述表面活性劑脂肪醇聚環(huán)氧乙烷醚、烷基酚聚環(huán)氧乙烷醚、十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基二醇酰胺或甲氧基脂肪酰胺基苯磺酸鈉。
3.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗液,其特征在于,所述乙醇的濃度為90-100%,按質(zhì)量百分比計。
4.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗液,其特征在于,所述檸檬酸的濃度為10%,按質(zhì)量百分比計。
全文摘要
本發(fā)明一種硅片清洗液,由表面活性劑、乙醇、氟化氫、EDTA二鈉、三乙醇胺、檸檬酸、去離子水,進(jìn)行攪拌混合,形成清洗液,本發(fā)明制備方法簡單,對環(huán)境無不利影響,且表面去污力強,可保持清潔度的持續(xù)性,對于多晶硅片等物料具有良好的清潔效果,并且提高了清洗速度和耐用性能;本發(fā)明通過乙醇對硅片表面有機沾污進(jìn)行清洗,另外,通過氟化氫對氧化層進(jìn)行清洗,從而,使硅片的清洗更加徹底,且對金屬離子有較強的清洗作用,從而,提高了硅片的后續(xù)使用性能。
文檔編號C11D7/26GK102533470SQ20111044838
公開日2012年7月4日 申請日期2011年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月29日
發(fā)明者聶金根 申請人:鎮(zhèn)江市港南電子有限公司
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