專利名稱：用于晶圓的兆聲清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，具體而言，涉及一種用于晶圓的兆聲清洗裝置。
背景技術(shù)：
晶圓的化學(xué)機械拋光工藝(以下簡稱CMP工藝)被公認(rèn)為是目前有效的實現(xiàn)全局平坦化的技術(shù)，被廣泛應(yīng)用于芯片制造領(lǐng)域。而晶圓CMP工藝后，晶圓表面殘留有機化合物、顆粒和金屬雜質(zhì)等表面污物，而表面污物將影響晶圓的下一道工藝，進而嚴(yán)重?fù)p害芯片的性能和可靠性。為此，需要在CMP工藝后對晶圓進行清楚以除去其表面污物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明的一個目的在于提出一種可以快速地去除晶圓表面的殘留顆粒的用于晶圓的兆聲清洗裝置。為實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的實施例提出一種用于晶圓的兆聲清洗裝置，所述兆聲清洗裝置包括機架，所述機架內(nèi)限定有容納腔；支撐組件，所述支撐組件設(shè)在所述容納腔內(nèi)用于可旋轉(zhuǎn)地支撐沿豎直方向定向的晶圓；第一兆聲噴頭和第二兆聲噴頭，所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭在所述晶圓的軸向上間隔開地設(shè)在所述容納腔內(nèi)以分別用于清洗所述晶圓的兩個表面；和兆聲噴頭驅(qū)動件，所述兆聲噴頭驅(qū)動件設(shè)在所述機架上且與所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭相連以驅(qū)動所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭沿所述晶圓的徑向平移。在利用根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置清洗所述晶圓的過程中，所述晶圓可以在豎直方向上定向且所述晶圓可以在所述支撐組件的帶動下旋轉(zhuǎn)，所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭可以沿所述晶圓的徑向做直線運動且可以將清洗液(例如去離子水)噴到所述晶圓的兩個表面上。由于所述晶圓在豎直方向上定向，因此從所述晶圓上沖洗下來的顆粒和化學(xué)藥劑會隨著清洗液一起沿所述晶圓的表面豎直地向下流動，并從所述機架的排液孔排出，而不會留在所述晶圓的表面上，從而可以大大地提高所述晶圓的潔凈度。而且在清洗所述晶圓時，由于所述晶圓可以旋轉(zhuǎn)且所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭可以沿所述晶圓的徑向做直線運動，因此通過合成這兩種運動，可以快速地對整個所述晶圓的表面進行清洗。利用根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置可以全面地、快速地清洗所述晶圓，并且可以將所述晶圓上的顆粒和化學(xué)藥劑全部清洗掉，從而達(dá)到更好的清洗效果。另外，根據(jù)本發(fā)明上述實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置還可以具有如下附加的技術(shù)特征根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭相對于水平方向的傾角分別可調(diào)。通過調(diào)節(jié)所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭相對于水平方向的傾角，從而可以進一步提高所述晶圓的清洗效果，即進一步提高所述晶圓的潔凈度。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述用于晶圓的兆聲清洗裝置還包括第一兆聲噴頭支架和第二兆聲噴頭支架，所述第一兆聲噴頭可樞轉(zhuǎn)地設(shè)在所述第一兆聲噴頭支架上且所述第二兆聲噴頭可樞轉(zhuǎn)地設(shè)在所述第二兆聲噴頭支架上。通過設(shè)置所述第一兆聲噴頭支架和所述第二兆聲噴頭支架，可以更加準(zhǔn)確地、容易地調(diào)節(jié)所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭相對于水平方向的傾角。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述用于晶圓的兆聲清洗裝置還包括第一連接件和第二連接件，所述兆聲噴頭驅(qū)動件設(shè)在所述機架的外頂面上，所述第一兆聲噴頭支架通過所述第一連接件與所述兆聲噴頭驅(qū)動件相連，所述第二兆聲噴頭支架通過所述第二連接件與所述兆聲噴頭驅(qū)動件相連。通過設(shè)置所述第一連接件和所述第二連接件，不僅可以使所述兆聲噴頭驅(qū)動件設(shè)在所述機架的外頂面上，從而可以防止含有顆粒和化學(xué)藥劑的清洗液濺到所述兆聲噴頭驅(qū)動件上，而且可以使所述兆聲噴頭驅(qū)動件更加容易地與所述第一兆聲噴頭支架和所述第二兆聲噴頭支架相連。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述兆聲噴頭驅(qū)動件為直線電機、導(dǎo)軌絲杠和氣缸中的一個且所述第一和第二兆聲噴頭正對設(shè)置。這樣可以對所述晶圓的兩個表面進行同步清洗，從而可以在清洗過程中使所述晶圓的兩個表面的清洗進度保持一致，大大地減少清洗時間。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述支撐組件包括第一驅(qū)動輪和第二驅(qū)動輪，所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪分別設(shè)在所述容納腔內(nèi)；電機，所述電機設(shè)在所述機架上用于驅(qū)動所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪旋轉(zhuǎn)；壓輪，所述壓輪設(shè)在所述容納腔內(nèi)，其中所述壓輪與所述第一和第二驅(qū)動輪協(xié)作支撐所述晶圓且將所述晶圓沿豎直方向定向；和壓輪驅(qū)動件，所述壓輪驅(qū)動件設(shè)在所述機架上且與所述壓輪相連以驅(qū)動所述壓輪上下移動。所述壓輪與所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪協(xié)作不僅可以更加穩(wěn)定地支撐所述晶圓，而且可以更加精確地將所述晶圓定位在豎直方向上。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述電機設(shè)在所述機架的外底面上，所述電機通過第一同步帶驅(qū)動所述第一驅(qū)動輪旋轉(zhuǎn)，所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪通過第二同步帶相連。通過將所述電機設(shè)在所述機架的外底面上，從而可以使所述電機位于所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪的下方，這樣可以大大地減小所述兆聲清洗裝置在前后方向上的長度， 即可以大大地減小所述兆聲清洗裝置的體積以便降低所述兆聲清洗裝置的制造成本、節(jié)省空間。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述用于晶圓的兆聲清洗裝置還包括豎直隔板，所述豎直隔板設(shè)在所述容納腔的底壁上；和水平隔板，所述水平隔板設(shè)在所述豎直隔板上且所述水平隔板的前端與所述容納腔的前壁相連，其中所述豎直隔板、所述水平隔板和所述容納腔的壁之間限定出隔離腔，所述第一同步帶的一部分和所述第二同步帶設(shè)在所述隔離腔內(nèi)。所述兆聲清洗裝置通過設(shè)置所述豎直隔板和所述水平隔板以便在所述容納腔內(nèi)限定出所述隔離腔，從而可以避免含有顆粒和化學(xué)藥劑的清洗液濺到所述第一同步帶的所述一部分和所述第二同步帶上以便確保所述支撐組件可以正常運行。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述壓輪驅(qū)動件為氣缸且設(shè)在所述機架的外頂面上， 所述氣缸的活塞桿的自由端與所述壓輪可旋轉(zhuǎn)地安裝到其上的壓輪支架相連。通過將所述壓輪驅(qū)動件設(shè)置在所述機架的外頂面上，從而可以避免含有顆粒和化學(xué)藥劑的清洗液濺到所述壓輪驅(qū)動件上。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述容納腔的左側(cè)壁設(shè)有允許所述晶圓通過的左通孔、左門體和用于驅(qū)動所述左門體打開或關(guān)閉所述左通孔的左門體驅(qū)動件，所述容納腔的右側(cè)壁設(shè)有允許所述晶圓通過的右通孔、右門體和用于驅(qū)動所述右門體打開或關(guān)閉所述右通孔的右門體驅(qū)動件。這樣不僅可以大大地提高所述兆聲清洗裝置清洗晶圓的效率，而且可以大大地提高所述兆聲清洗裝置的自動化程度。本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。


本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從結(jié)合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置的局部結(jié)構(gòu)示意圖；和圖5是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置的立體圖。
具體實施例方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、 “左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底” “內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。在本發(fā)明的描述中，除非另有規(guī)定和限定，需要說明的是，術(shù)語“安裝”、“相連”、 “連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是機械連接或電連接，也可以是兩個元件內(nèi)部的連通，可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語的具體含義。下面參照圖1-5描述根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置10。如圖1-5 所示，根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置10包括機架100、支撐組件、第一兆聲噴頭300、第二兆聲噴頭400和兆聲噴頭驅(qū)動件500。機架100內(nèi)限定有容納腔110。所述支撐組件設(shè)在容納腔110內(nèi)用于可旋轉(zhuǎn)地支撐沿豎直方向(其中豎直方向B如圖1、圖2、圖3和圖5中的箭頭方向所示，即上下方向) 定向的晶圓(圖中未示出)。第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400在所述晶圓的軸向上間隔開地設(shè)在容納腔110內(nèi)以分別用于清洗所述晶圓的兩個表面(所述晶圓的軸向與兆聲清洗裝置10的前后方向A—致，其中前后方向A如圖1、圖2、圖3和圖5中的箭頭方向所示)。兆聲噴頭驅(qū)動件500設(shè)在所述機架上，且兆聲噴頭驅(qū)動件500與第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400相連以驅(qū)動第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400沿所述晶圓的徑向平移。在利用根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置10清洗所述晶圓的過程中，所述晶圓可以在豎直方向上定向且所述晶圓可以在所述支撐組件的帶動下旋轉(zhuǎn)，第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400可以沿所述晶圓的徑向做直線運動且可以將清洗液 (例如去離子水)噴到所述晶圓的兩個表面上。由于所述晶圓在豎直方向上定向，因此從所述晶圓上沖洗下來的顆粒和化學(xué)藥劑會隨著清洗液一起沿所述晶圓的表面豎直地向下流動，并從機架100的排液孔190排出，而不會留在所述晶圓的表面上，從而可以大大地提高所述晶圓的潔凈度。而且在清洗所述晶圓時，由于所述晶圓可以旋轉(zhuǎn)且第一兆聲噴頭300 和第二兆聲噴頭400可以沿所述晶圓的徑向做直線運動，因此通過合成這兩種運動，可以快速地對整個所述晶圓的表面進行清洗。利用根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置10可以全面地、快速地清洗所述晶圓，并且可以將所述晶圓上的顆粒和化學(xué)藥劑全部清洗掉，從而達(dá)到更好的清洗效果。如圖1-3所示，在本發(fā)明的一些實施例中，第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400 相對于水平方向的傾角可以分別可調(diào)。其中，所述水平方向是指與豎直方向B正交的方向。 通過調(diào)節(jié)第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400相對于水平方向的傾角，從而可以進一步提高所述晶圓的清洗效果，即進一步提高所述晶圓的潔凈度。具體地，可以根據(jù)所述晶圓的旋轉(zhuǎn)速度來調(diào)節(jié)第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400相對于水平方向的傾角。在本發(fā)明的一個實施例中，如圖1-3所示，兆聲清洗裝置10還可以包括第一兆聲噴頭支架600和第二兆聲噴頭支架700，第一兆聲噴頭300可以可樞轉(zhuǎn)地設(shè)在第一兆聲噴頭支架600上，且第二兆聲噴頭400可以可樞轉(zhuǎn)地設(shè)在第二兆聲噴頭支架700上。通過設(shè)置第一兆聲噴頭支架600和第二兆聲噴頭支架700，可以更加準(zhǔn)確地、容易地調(diào)節(jié)第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400相對于水平方向的傾角。其中，兆聲噴頭驅(qū)動件500可以與第一兆聲噴頭支架600和第二兆聲噴頭支架700相連。如圖1-3所示，在本發(fā)明的一些示例中，兆聲清洗裝置10還可以包括第一連接件 800和第二連接件900，兆聲噴頭驅(qū)動件500可以設(shè)在機架100的外頂面123上(這樣兆聲噴頭驅(qū)動件500可以驅(qū)動第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400沿左右方向C平移，左右方向C是所述晶圓的一個徑向方向。左右方向C如圖1、圖2、圖3和圖5中的箭頭方向所示)。其中，第一兆聲噴頭支架600可以通過第一連接件800與兆聲噴頭驅(qū)動件500相連， 第二兆聲噴頭支架700可以通過第二連接件900與兆聲噴頭驅(qū)動件500相連。通過設(shè)置第一連接件800和第二連接件900，不僅可以使兆聲噴頭驅(qū)動件500設(shè)在機架100的外頂面123上，從而可以防止含有顆粒和化學(xué)藥劑的清洗液濺到兆聲噴頭驅(qū)動件500上，而且可以使兆聲噴頭驅(qū)動件500更加容易地與第一兆聲噴頭支架600和第二兆聲噴頭支架700相連。其中，機架100的外頂面123是指機架100的頂板120的外表面。如圖1、圖2和圖5所示，在本發(fā)明的一個具體示例中，機架100的頂板120上可以設(shè)有沿左右方向延伸的第一滑槽121和第二滑槽122，第一滑槽121和第二滑槽122都可以沿豎直方向貫通頂板120。其中，第一連接件800的一端可以穿過第一滑槽121且可以與兆聲噴頭驅(qū)動件500相連，第二連接件900的一端可以穿過第二滑槽122且可以與兆聲噴頭驅(qū)動件500相連。在清洗所述晶圓時，第一連接件800可以沿第一滑槽121左右移動，第二連接件900可以沿第二滑槽122左右移動。如圖1和圖5所示，具體地，機架100可以是大體長方體形。在清洗所述晶圓時， 機架100的容納腔110只能通過第一滑槽121、第二滑槽122和排液孔190與外界連通，從而可以防止含有顆粒和化學(xué)藥劑的清洗液從容納腔110內(nèi)濺出。在本發(fā)明的一個示例中，兆聲噴頭驅(qū)動件500可以是直線電機、導(dǎo)軌絲杠和氣缸中的一個。有利地，如圖1-3所示，第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400可以正對設(shè)置， 這樣可以對所述晶圓的兩個表面進行同步清洗。換言之，通過將第一兆聲噴頭300和第二兆聲噴頭400正對設(shè)置，從而可以在清洗過程中使所述晶圓的兩個表面的清洗進度保持一致，這樣可以大大地減少清洗時間。如圖1-3所示，在本發(fā)明的一些實施例中，所述支撐組件可以包括第一驅(qū)動輪 210、第二驅(qū)動輪220 (第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220可以驅(qū)動所述晶圓旋轉(zhuǎn))、電機 230、壓輪240和壓輪驅(qū)動件250。第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220可以分別設(shè)在容納腔 110內(nèi)，電機230可以設(shè)在機架100上用于驅(qū)動第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220旋轉(zhuǎn)。壓輪240可以設(shè)在容納腔110內(nèi)，其中壓輪240可以與第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220協(xié)作支撐所述晶圓且將所述晶圓沿豎直方向定向。壓輪驅(qū)動件250可以設(shè)在機架100上，且壓輪驅(qū)動件250可以與壓輪240相連以驅(qū)動壓輪240上下移動。壓輪240與第一驅(qū)動輪210 和第二驅(qū)動輪220協(xié)作不僅可以更加穩(wěn)定地支撐所述晶圓，而且可以更加精確地將所述晶圓定位在豎直方向上。有利地，壓輪驅(qū)動件250可以與壓輪240相連以驅(qū)動壓輪240沿豎直方向移動。下面參照圖1-3詳細(xì)地描述所述晶圓的取放過程。在放置所述晶圓時，首先壓輪驅(qū)動件250可以驅(qū)動壓輪MO向上移動以便避開晶圓20，隨后機械手(圖中未示出)搬運所述晶圓可以先向左(或右)移動、再向下移動以便將所述晶圓放置在第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220上，隨后壓輪驅(qū)動件250可以驅(qū)動壓輪MO向下移動至與所述晶圓接觸以便壓輪240與第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220協(xié)作支撐所述晶圓且將所述晶圓沿豎直方向定向，最后所述機械手脫離所述晶圓并移出容納腔110。取出所述晶圓的過程與放置所述晶圓的過程相反，在此不再詳細(xì)地描述。如圖1-3所示，在本發(fā)明的一個實施例中，電機230可以設(shè)在機架100的外底面 131上。電機230可以通過第一同步帶260驅(qū)動第一驅(qū)動輪210旋轉(zhuǎn)，第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220可以通過第二同步帶270相連。通過將電機230設(shè)在機架100的外底面131 上，從而可以使電機230位于第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220的下方(有利地，電機230 可以位于第一驅(qū)動輪210和第二驅(qū)動輪220的正下方)，這樣可以大大地減小兆聲清洗裝置10在前后方向上的長度，即可以大大地減小兆聲清洗裝置10的體積以便降低兆聲清洗裝置10的制造成本、節(jié)省空間。其中，機架100的外底面131是指機架100的底板130的外表面。具體地，第一驅(qū)動輪210可以設(shè)在第一驅(qū)動軸上，且所述第一驅(qū)動軸可以通過第一同步帶260與電機230 相連。這樣電機230可以通過第一同步帶260帶動所述第一驅(qū)動軸旋轉(zhuǎn)，進而所述第一驅(qū)動軸可以帶動第一驅(qū)動輪210旋轉(zhuǎn)。第二驅(qū)動輪220可以設(shè)在第二驅(qū)動軸上，且所述第二驅(qū)動軸可以通過第二同步帶270與所述第一驅(qū)動軸相連。這樣所述第一驅(qū)動軸可以帶動所述第二驅(qū)動軸旋轉(zhuǎn)，進而所述第二驅(qū)動軸可以帶動第二驅(qū)動輪220旋轉(zhuǎn)。如圖1-3所示，在本發(fā)明的一個實施例中，機架100的底板130上可以設(shè)有通孔 132，第一同步帶260可以穿過通孔132。在本發(fā)明的一些示例中，如圖1-3所示，兆聲清洗裝置10還可以包括豎直隔板140 和水平隔板(圖中未示出)。豎直隔板140可以設(shè)在容納腔110的底壁上(即豎直隔板140 可以設(shè)在機架100的底板130上)。所述水平隔板可以設(shè)在豎直隔板140上，且所述水平隔板的前端可以與容納腔110的前壁相連，其中豎直隔板140、所述水平隔板和容納腔110的壁之間可以限定出隔離腔，第一同步帶沈0的一部分和第二同步帶270可以設(shè)在所述隔離腔內(nèi)。兆聲清洗裝置10通過設(shè)置豎直隔板140和所述水平隔板以便在容納腔110內(nèi)限定出所述隔離腔，從而可以避免含有顆粒和化學(xué)藥劑的清洗液濺到第一同步帶260的所述一部分和第二同步帶270上以便確保所述支撐組件可以正常運行。具體地，豎直隔板140的左端和所述水平隔板的左端都可以與容納腔110的左側(cè)壁相連，豎直隔板140的右端和所述水平隔板的右端都可以與容納腔110的右側(cè)壁相連。換言之，所述隔離腔可以完全與容納腔110的其余部分隔絕。這樣可以更好地避免含有顆粒和化學(xué)藥劑的清洗液濺到第一同步帶260的所述一部分和第二同步帶270上。如圖1-5所示，在本發(fā)明的一些實施例中，壓輪驅(qū)動件250可以是氣缸，且壓輪驅(qū)動件250可以設(shè)在機架100的外頂面123上，所述氣缸的活塞桿的自由端(所述氣缸的活塞桿的下端)與壓輪240可以可旋轉(zhuǎn)地安裝到壓輪支架280上。換言之，壓輪240可以可旋轉(zhuǎn)地安裝在壓輪支架280上，且壓輪支架280可以與所述氣缸的活塞桿的自由端相連，這樣所述汽缸可以通過壓輪支架280驅(qū)動壓輪240上下移動。通過將壓輪驅(qū)動件250設(shè)置在機架100的外頂面123上，從而可以避免含有顆粒和化學(xué)藥劑的清洗液濺到壓輪驅(qū)動件250 上。具體地，壓輪驅(qū)動件250可以通過壓輪驅(qū)動件支架290安裝在機架100的外頂面 123 上。如圖1、圖2、圖3和圖5所示，在本發(fā)明的一個具體示例中，容納腔110的左側(cè)壁可以設(shè)有允許所述晶圓通過的左通孔、左門體150和用于驅(qū)動左門體150打開或關(guān)閉所述左通孔的左門體驅(qū)動件170(其中左右方向C如圖1、圖2、圖3和圖5中的箭頭方向所示)。 容納腔110的右側(cè)壁可以設(shè)有允許所述晶圓通過的右通孔、右門體160和用于驅(qū)動右門體 160打開或關(guān)閉所述右通孔的右門體驅(qū)動件180。一個機械手可以通過所述左通孔和所述右通孔中的一個將未清洗的晶圓放置在所述支撐組件上，且另一個機械手可以通過所述左通孔和所述右通孔中的另一個從所述支撐組件上將清洗后的晶圓取走，這樣可以大大地提高清洗晶圓的效率。而且，通過設(shè)置左門體驅(qū)動件170和右門體驅(qū)動件180，從而可以在利用機械手放置晶圓的過程中自動地驅(qū)動左門體150打開和關(guān)閉所述左通孔、且在利用機械手取走晶圓的過程中自動地驅(qū)動右門體 160打開和關(guān)閉所述右通孔，這樣可以大大地提高兆聲清洗裝置10的自動化程度。有利地， 左門體驅(qū)動件170和右門體驅(qū)動件180都可以是汽缸。利用根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置10可以全面地、快速地清洗
9所述晶圓，并且可以將所述晶圓上的顆粒和化學(xué)藥劑全部清洗掉，從而達(dá)到更好的清洗效^ ο
在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。
盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求
1.一種用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，包括 機架，所述機架內(nèi)限定有容納腔；支撐組件，所述支撐組件設(shè)在所述容納腔內(nèi)用于可旋轉(zhuǎn)地支撐沿豎直方向定向的晶圓；第一兆聲噴頭和第二兆聲噴頭，所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭在所述晶圓的軸向上間隔開地設(shè)在所述容納腔內(nèi)以分別用于清洗所述晶圓的兩個表面；和兆聲噴頭驅(qū)動件，所述兆聲噴頭驅(qū)動件設(shè)在所述機架上且與所述第一和第二兆聲噴頭相連以驅(qū)動所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭沿所述晶圓的徑向平移。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，所述第一兆聲噴頭和第二兆聲噴頭相對于水平方向的傾角分別可調(diào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，還包括第一兆聲噴頭支架和第二兆聲噴頭支架，所述第一兆聲噴頭可樞轉(zhuǎn)地設(shè)在所述第一兆聲噴頭支架上且所述第二兆聲噴頭可樞轉(zhuǎn)地設(shè)在所述第二兆聲噴頭支架上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，還包括第一連接件和第二連接件，所述兆聲噴頭驅(qū)動件設(shè)在所述機架的外頂面上，所述第一兆聲噴頭支架通過所述第一連接件與所述兆聲噴頭驅(qū)動件相連，所述第二兆聲噴頭支架通過所述第二連接件與所述兆聲噴頭驅(qū)動件相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，所述兆聲噴頭驅(qū)動件為直線電機、導(dǎo)軌絲杠和氣缸中的一個且所述第一兆聲噴頭和第二兆聲噴頭正對設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，所述支撐組件包括 第一驅(qū)動輪和第二驅(qū)動輪，所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪分別設(shè)在所述容納腔內(nèi)；電機，所述電機設(shè)在所述機架上用于驅(qū)動所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪旋轉(zhuǎn)； 壓輪，所述壓輪設(shè)在所述容納腔內(nèi)，其中所述壓輪與所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪協(xié)作支撐所述晶圓且將所述晶圓沿豎直方向定向；和壓輪驅(qū)動件，所述壓輪驅(qū)動件設(shè)在所述機架上且與所述壓輪相連以驅(qū)動所述壓輪上下移動。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，所述電機設(shè)在所述機架的外底面上，所述電機通過第一同步帶驅(qū)動所述第一驅(qū)動輪旋轉(zhuǎn)，所述第一驅(qū)動輪和所述第二驅(qū)動輪通過第二同步帶相連。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，還包括 豎直隔板，所述豎直隔板設(shè)在所述容納腔的底壁上；和水平隔板，所述水平隔板設(shè)在所述豎直隔板上且所述水平隔板的前端與所述容納腔的前壁相連，其中所述豎直隔板、所述水平隔板和所述容納腔的壁之間限定出隔離腔，所述第一同步帶的一部分和所述第二同步帶設(shè)在所述隔離腔內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，所述壓輪驅(qū)動件為氣缸且設(shè)在所述機架的外頂面上，所述氣缸的活塞桿的自由端與所述壓輪可旋轉(zhuǎn)地安裝到其上的壓輪支架相連。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶圓的兆聲清洗裝置，其特征在于，所述容納腔的左側(cè)壁設(shè)有允許所述晶圓通過的左通孔、左門體和用于驅(qū)動所述左門體打開或關(guān)閉所述左通孔的左門體驅(qū)動件，所述容納腔的右側(cè)壁設(shè)有允許所述晶圓通過的右通孔、右門體和用于驅(qū)動所述右門體打開或關(guān)閉所述右通孔的右門體驅(qū)動件。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于晶圓的兆聲清洗裝置。所述用于晶圓的兆聲清洗裝置包括機架，所述機架內(nèi)限定有容納腔；支撐組件，所述支撐組件設(shè)在所述容納腔內(nèi)用于可旋轉(zhuǎn)地支撐沿豎直方向定向的晶圓；第一兆聲噴頭和第二兆聲噴頭，所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭在所述晶圓的軸向上間隔開地設(shè)在所述容納腔內(nèi)以分別用于清洗所述晶圓的兩個表面；和兆聲噴頭驅(qū)動件，所述兆聲噴頭驅(qū)動件設(shè)在所述機架上且與所述第一和第二兆聲噴頭相連以驅(qū)動所述第一兆聲噴頭和所述第二兆聲噴頭沿所述晶圓的徑向平移。利用根據(jù)本發(fā)明實施例的用于晶圓的兆聲清洗裝置可以全面地、快速地清洗晶圓，并且可以將晶圓上的顆粒和化學(xué)藥劑全部清洗掉，從而達(dá)到更好的清洗效果。
文檔編號B08B13/00GK102513301SQ20111045244
公開日2012年6月27日 申請日期2011年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月29日
發(fā)明者何永勇, 周順, 徐海濱, 李冉, 路新春 申請人:清華大學(xué)