專利名稱：基板清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及液晶顯示器制造領(lǐng)域，尤其涉及基板清洗裝置。
背景技術(shù)：
薄膜晶體管液晶顯示器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display，簡稱 TFT LCD)的制造過程主要包括制造陣列基板、陣列基板和彩膜基板的對盒以及模塊組裝等工藝，其中制造陣列基板的工藝主要包括成膜、光刻和刻蝕。對基板進行清洗的工藝決定了產(chǎn)品的良品率，所以在成膜和光刻工藝之前，都需要對基板進行清洗。如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)的基板清洗裝置包括清洗艙11、設(shè)置在清洗艙內(nèi)部的清洗單元13以及貫穿該清洗艙的傳送單元12。其中，清洗單元13設(shè)置在清洗艙11的頂部且清洗單元13的清洗口 131朝向傳送單元12。在進行基板清洗時，傳送單元12將基板14的待清洗面141朝上送入清洗艙11，通過清洗單元13提供的外力來克服待清洗面141上存在的顆粒與基板14之間的黏附力，并以外力對顆粒持續(xù)做功直至顆粒脫離基板14來達到清洗作用的。在實現(xiàn)本實用新型的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題清洗單元提供的外力要克服顆粒與基板的黏附力，同時要對顆粒持續(xù)做功直至顆粒脫離基板，然而顆粒自身重力及與基板的黏附力引起的摩擦力會阻礙顆粒運動，造成基板從清洗艙清洗后，基板上仍然殘留有顆粒。

實用新型內(nèi)容本實用新型的實施例提供一種基板清洗裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中基板上的顆粒的自身重力及與基板的黏附力引起的摩擦力阻礙顆粒運動，造成基板從清洗艙清洗后，基板上仍然殘留有顆粒的問題。為達到上述目的，本實用新型的實施例采用如下技術(shù)方案—種基板清洗裝置，包括清洗艙，貫穿所述清洗艙且位于所述清洗艙上方的傳送單元，以及設(shè)置在所述清洗艙內(nèi)部且位于所述清洗艙底部的清洗單元，所述清洗單元的清洗口朝向所述傳送單元。具體的，所述傳送單元包括基板吸附臺以及用于傳送該基板吸附臺的導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌貫穿所述清洗艙，所述基板吸附臺與所述導(dǎo)軌連接，且基板吸附臺的吸附面朝向所述清洗單元的清洗口。優(yōu)選的，為了便于機械化控制，所述導(dǎo)軌為主動式導(dǎo)軌。優(yōu)選的，所述基板吸附臺為真空吸附臺。由于基板在清洗時，清洗單元會對基板產(chǎn)生力的作用，采用真空基板吸附臺，吸附力大，保證基板不會在清洗時落下。進一步的，所述傳送單元還包括后基臺和機械手，所述后基臺位于所述清洗艙的出口，在基板吸附臺由所述導(dǎo)軌傳送至清洗艙的出口時，所述基板吸附臺上吸附有基板，所述機械手位于所述后基臺的上方，用于將基板吸附臺取出清洗艙、翻轉(zhuǎn)該基板吸附臺并將該基板吸附臺放置到所述后基臺上。這樣有利于后續(xù)機械設(shè)備取走清洗后的基板，提高了整個系統(tǒng)的工作效率。進一步的，所述傳送單元還包括前基臺，所述前基臺位于所述清洗艙的入口，在基板進入清洗艙前，所述基板放置在所述前基臺上，所述基板的待清洗面朝向所述前基臺，所述基板吸附臺在進入所述清洗艙前通過機械手位于所述前基臺上方。這樣在清洗前，將基板放置于前基臺上，等待基板吸附臺吸附后進入清洗單元清洗，有利于整個系統(tǒng)的工作運行，提高了系統(tǒng)的工作效率。具體的，所述清洗單元包括，從所述清洗艙入口至出口方向，依次為紫外子單元、 藥液噴淋子單元、純水刷洗子單元、高壓噴淋子單元、超聲波子單元。由于基板在清洗前有不同類別的待清洗物質(zhì)，紫外子單元用來去除基板上的有機物，藥液噴淋子單元用于去除基板上的氧化物，純水刷洗子單元、高壓噴淋子單元在對殘留在基板上的顆粒進行清洗的同時，還對前面由于藥液噴淋子單元工作時基板上殘留的藥液進行清洗，超聲波子單元對殘留在基板上的顆粒進行進一步的清洗。進一步的，所述紫外子單元包括紫外線燈，所述藥液噴淋子單元包括藥液噴頭，所述純水刷洗子單元包括滾刷和純水噴頭，所述高壓噴淋子單元包括高壓噴頭，所述超聲波子單元包括超聲源和噴頭。進一步的，所述清洗單元還包括氣刀干燥子單元，所述氣刀干燥子單元置于超聲波子單元后。由于基板在清洗過后，都需要進行干燥，所述氣刀干燥單元不僅對基板進行了干燥，還對殘留在基板上的顆粒進行了進一步清除。本實用新型實施例提供的基板清洗裝置，由于所述基板清洗裝置是把所述基板的待清洗面朝下放置進行清洗的，在清洗過程中清洗單元提供的外力一旦克服顆粒與基板的黏附力，顆粒就會因自身重力下落而脫離基板，解決了由于基板上的顆粒的自身重力及與基板的黏附力引起的摩擦力阻礙顆粒運動，造成基板從清洗艙清洗后，基板上仍然殘留有顆粒的問題。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型實施例提供的基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖一；圖3為本實用新型實施例提供的基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖二。
具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。為使本實用新型技術(shù)方案的優(yōu)點更加清楚，
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作詳細說明。本實用新型的實施例提供的基板清洗裝置，如圖2所示，包括清洗艙11，貫穿所述清洗艙11且位于所述清洗艙11上方的傳送單元12，以及設(shè)置在所述清洗艙11內(nèi)部且位于
4所述清洗艙11底部的清洗單元13，所述清洗單元13的清洗口 131朝向所述傳送單元12。具體的，如圖3所示，所述傳送單元12包括基板吸附臺121以及用于傳送該基板吸附臺121的導(dǎo)軌122，所述導(dǎo)軌122貫穿所述清洗艙11，所述基板吸附臺121與所述導(dǎo)軌 122連接，且基板吸附臺121的吸附面1211朝向所述清洗單元13的清洗口 131?；?4 在清洗時，是通過基板吸附臺121吸附，由導(dǎo)軌122傳輸通過整個清洗艙11的，基板吸附臺 121的吸附面1211朝向清洗單元13，是為了讓基板14的待清洗面141朝向清洗單元13接受清洗，這樣能達到基板14的待清洗面141上的顆粒在被清洗單元13清洗后，能夠不殘留在基板14上。優(yōu)選的，所述導(dǎo)軌122為主動式導(dǎo)軌。在實際清洗作業(yè)中，導(dǎo)軌122采用主動式， 便于機械化控制，提高了整個系統(tǒng)的清洗速度。優(yōu)選的，所述基板吸附臺121為真空吸附臺。由于基板在清洗時，清洗單元會對基板產(chǎn)生力的作用，采用真空基板吸附臺，吸附力大，保證基板不會在清洗時落下。進一步的，所述傳送單元12還包括后基臺123和機械手124，所述后基臺123位于所述清洗艙11的出口，在基板吸附臺121由所述導(dǎo)軌122傳送至清洗艙11的出口時，所述基板吸附臺121上吸附有基板14，所述機械手IM位于所述后基臺123的上方，用于將基板吸附臺121取出清洗艙11、翻轉(zhuǎn)該基板吸附臺121并將該基板吸附臺121放置到所述后基臺123上。這樣有利于后續(xù)機械設(shè)備取走清洗后的基板，提高了整個系統(tǒng)的工作效率。進一步的，所述傳送單元12還包括前基臺125，所述前基臺125位于所述清洗艙 11的入口，在基板14進入清洗艙11前，所述基板14放置在所述前基臺125上，所述基板 14的待清洗面141朝向所述前基臺125，所述基板吸附臺121在進入所述清洗艙11前通過機械手IM位于所述前基臺125上方。這樣基板在清洗前放置于前基臺上，等待基板吸附臺吸附后進入清洗單元清洗，有利于整個系統(tǒng)的工作運行，提高了系統(tǒng)的工作效率。具體的，如圖3所示，所述清洗單元13包括，從所述清洗艙11入口至出口方向，依次為紫外子單元132、藥液噴淋子單元133、純水刷洗子單元134、高壓噴淋子單元135、超聲波子單元136。由于基板在清洗前有不同類別的待清洗物質(zhì)，紫外子單元用來去除基板上的有機物，藥液噴淋子單元用于去除基板上的氧化物，純水刷洗子單元、高壓噴淋子單元在對殘留在基板上的顆粒進行清洗的同時，還對前面由于藥液噴淋子單元工作時基板上殘留的藥液進行清洗，超聲波子單元對殘留在基板上的顆粒進行進一步的清洗。進一步的，所述紫外子單元132包括紫外線燈1321，所述藥液噴淋子單元133包括藥液噴頭1331，所述純水刷洗子單元134包括滾刷1341和純水噴頭1342，所述高壓噴淋子單元135包括高壓噴頭1351，所述超聲波子單元136包括超聲源和噴頭1361。進一步的，所述清洗單元13還包括氣刀干燥子單元137，所述氣刀干燥子單元137 置于超聲波子單元136后。由于基板在清洗過后，都需要進行干燥，所述氣刀干燥單元不僅對基板進行了干燥，還對殘留在基板上的顆粒進行了進一步清除。為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解，現(xiàn)就本實用新型實施例提供的基板清洗裝置的具體使用方法進行詳細的說明。基板清洗裝置的具體使用方法如下，如圖3所示基板14在清洗前待清洗面141朝下置于前基臺125上。清洗開始后，由機械手 1 抓住基板吸附臺121，基板吸附臺121的吸附面1211對準(zhǔn)基板14進行吸附?；?4被基板吸附臺121吸附起后，由機械手IM送上導(dǎo)軌122，基板吸附臺121帶著基板14在導(dǎo)軌122上主動式運動，經(jīng)過紫外線燈1321、藥液噴頭1331、滾刷1341、純水噴頭1342、高壓噴頭1351、超聲源和噴頭1361進行各步驟的清洗作業(yè)，然后經(jīng)過氣刀干燥子單元137對基板14進行吹干。當(dāng)清洗完畢時，機械手IM再次將基板吸附臺121抓起，且翻轉(zhuǎn)過來，之后放置于后基臺123上。等待基板14被取走后，機械手IM再次將基板吸附臺121抓起，且再次翻轉(zhuǎn)過來，并送至前基臺125上方，進行下一次吸附基板工作。本實用新型實施例提供的基板清洗裝置，由于所述基板清洗裝置是把所述基板的待清洗面朝下放置進行清洗的，在清洗過程中清洗單元提供的外力一旦克服顆粒與基板的黏附力，顆粒就會因自身重力下落而脫離基板。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型實施例能夠解決由于基板上的顆粒的自身重力及與基板的黏附力引起的摩擦力阻礙顆粒運動，造成基板從清洗艙清洗后，基板上仍然殘留有顆粒的問題。以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種基板清洗裝置，包括清洗艙，其特征在于，還包括貫穿所述清洗艙且位于所述清洗艙上方的傳送單元，以及設(shè)置在所述清洗艙內(nèi)部且位于所述清洗艙底部的清洗單元，所述清洗單元的清洗口朝向所述傳送單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述傳送單元包括基板吸附臺以及用于傳送該基板吸附臺的導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌貫穿所述清洗艙，所述基板吸附臺與所述導(dǎo)軌連接，且基板吸附臺的吸附面朝向所述清洗單元的清洗口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述導(dǎo)軌為主動式導(dǎo)軌。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述基板吸附臺為真空吸附臺。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述傳送單元還包括后基臺和機械手，所述后基臺位于所述清洗艙的出口，在基板吸附臺由所述導(dǎo)軌傳送至清洗艙的出口時，所述基板吸附臺上吸附有基板，所述機械手位于所述后基臺的上方，用于將基板吸附臺取出清洗艙、翻轉(zhuǎn)該基板吸附臺并將該基板吸附臺放置到所述后基臺上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述傳送單元還包括前基臺，所述前基臺位于所述清洗艙的入口，在基板進入清洗艙前，所述基板放置在所述前基臺上，所述基板的待清洗面朝向所述前基臺，所述基板吸附臺在進入所述清洗艙前通過機械手位于所述前基臺上方。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述清洗單元包括，從所述清洗艙入口至出口方向，依次為紫外子單元、藥液噴淋子單元、純水刷洗子單元、高壓噴淋子單元、超聲波子單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述紫外子單元包括紫外線燈， 所述藥液噴淋子單元包括藥液噴頭，所述純水刷洗子單元包括滾刷和純水噴頭，所述高壓噴淋子單元包括高壓噴頭，所述超聲波子單元包括超聲源和噴頭。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任意一項所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述清洗單元還包括氣刀干燥子單元，所述氣刀干燥子單元置于超聲波子單元后。
專利摘要本實用新型實施例公開了一種基板清洗裝置，涉及液晶顯示器制造領(lǐng)域，解決了由于基板上的顆粒的自身重力及與基板的黏附力引起的摩擦力阻礙顆粒運動，造成基板從清洗艙清洗后，基板上仍然殘留有顆粒的問題。本實用新型實施例提供的基板清洗裝置，包括清洗艙，貫穿所述清洗艙且位于所述清洗艙上方的傳送單元，以及設(shè)置在所述清洗艙內(nèi)部且位于所述清洗艙底部的清洗單元，所述清洗單元的清洗口朝向所述傳送單元。本實用新型可以應(yīng)用在液晶顯示器制造領(lǐng)域中，如TFT陣列基板的制造。
文檔編號B08B7/04GK202196758SQ201120329820
公開日2012年4月18日 申請日期2011年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月5日
發(fā)明者左遠洋, 秦緯 申請人:北京京東方光電科技有限公司