專利名稱：防止液體回濺裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及防止液體回濺裝置技術領域，尤其涉及一種用于半導體晶片清洗工藝的防止液體回濺裝置。
背景技術：
隨著集成電路特征尺寸進入到深亞微米階段，晶片清洗已經(jīng)從最初簡單的槽式清洗發(fā)展到了精度更高的單片清洗。在單晶片清洗過程中，利用高速旋轉可將晶片上的液體甩干，使晶片干燥。圖I所示為現(xiàn)有技術中晶片清洗設備的結構示意圖。如圖I所示，晶片I進行清洗時，首先需要將晶片I放置在卡盤2上；然后通過控制旋轉電機9帶動旋轉軸6進行低速 旋轉，旋轉軸6帶動卡盤2進行低速旋轉，旋轉速度為每秒400轉；最后通過控制噴淋臂電機8，使液體噴射臂5與待清洗的半導體晶片I以一定高度的距離放置，一般為70_，當液體噴射臂5中有清洗液或超純水噴出時，噴淋臂電機8帶動液體噴射臂5在晶片I表面左右擺動，使得清洗液或超純水均勻覆蓋整個晶片I的表面。晶片I清洗干凈后，提高旋轉電機9的轉速，使卡盤2的轉速提高到每秒1900轉，利用旋轉電機9的高速旋轉甩干晶片I上的液體，使晶片I干燥。清洗設備的工藝腔室中，環(huán)繞卡盤2的周圍會設置側壁3，使從晶片I上甩開的液體碰撞到側壁3后順著側壁3往下流，防止液體飛濺至側壁3之外，污染清洗設備的其它組件。如圖I所示，當卡盤2進行高速旋轉時，液體會以高速離開晶片1，當液體碰到側壁3以后，液滴12會拉伸、反彈，導致一部分液滴12會回濺到晶片I上，造成晶片I的二次污染。

實用新型內容(一)要解決的技術問題本實用新型提供一種防止液體回濺裝置，用以解決晶片清洗工藝中因高速旋轉從晶片上甩開的液體碰撞到側壁反彈回晶片造成的晶片二次污染問題。(二)技術方案本實用新型提供一種防止液體回濺裝置，包括用于放置物體的卡盤、與所述卡盤固定連接用于旋轉所述卡盤的旋轉軸以及環(huán)設于所述卡盤周圍的側壁，所述卡盤的旋轉用于甩干所述物體上的液體，所述側壁用于防止從所述物體上甩開的液體飛濺至所述側壁之夕卜，其中，所述側壁的內側設置有一層用于防止液體回濺的有機薄膜。如上所述的防止液體回濺裝置，優(yōu)選的是，所述側壁的內側粘有一層所述有機薄膜。如上所述的防止液體回濺裝置，優(yōu)選的是，所述側壁的內側鍍有一層所述有機薄膜。如上所述的防止液體回濺裝置，優(yōu)選的是，所述側壁的內側涂有一層所述有機薄膜。[0012]如上所述的防止液體回濺裝置，優(yōu)選的是，所述有機薄膜為多孔透氣膜，不溶于水且具有抗腐蝕性。如上所述的防止液體回濺裝置，優(yōu)選的是，所述有機薄膜為聚氨酯薄膜，所述聚氨酯薄膜具有多孔結構，所述孔的孔徑為0. 2-10 u Hi0如上所述的防止液體回濺裝置，優(yōu)選的是，所述卡盤和側壁為抗腐蝕材質。如上所述的防止液體回濺裝置，優(yōu)選的是，所述卡盤和側壁的材質為聚丙烯、玻璃紙或聚乙烯。(三)有益效果本實用新型所提供的防止液體回濺裝置通過在側壁的內側粘接一層有機薄膜，增加液體撞擊側壁時的抗變形能力，從而防止從物體上甩開的液體由側壁回濺至物體上，克服了對物體的二次污染。

圖I為現(xiàn)有技術中晶片清洗設備的結構示意圖；圖2為本實用新型實施例中防止液體回濺裝置的結構示意圖；圖中，I :晶片；2 :卡盤；3 :側壁；4 :有機薄膜；5 :液體噴射臂；6 :旋轉軸；7 :排液管；8 :噴淋臂電機；9 :旋轉電機；10 :控制模塊；11 :操作終端；12 :液滴。
具體實施方式
以下結合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式
作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的范圍。圖2所示為本實用新型實施例中防止液體回濺裝置的結構示意圖。如圖2所示，本實用新型實施例中的防止液體回濺裝置包括用于放置物體的卡盤2、與卡盤2固定連接用于旋轉卡盤2的旋轉軸6以及環(huán)設于卡盤2周圍的側壁3，并在側壁3的內側設置一層有機薄膜4，本實施例中可以通過在側壁3的內側粘、鍍或涂一層有機薄膜4，優(yōu)選鍍或涂，使得有機薄膜4和側壁3的內側更加貼合，延長有機薄膜4的使用周期。其中，本實施例中的物體為晶片1，因為清洗晶片I的清洗液為化學清洗液，所以優(yōu)選有機薄膜4為多孔透氣膜，不溶于水且具有抗腐蝕性，例如聚氨酯薄膜，聚氨酯薄膜具有耐溶劑性，不會被化學清洗液腐蝕，其中，聚氨酯薄膜還具有微細多孔結構，其孔徑為
0.2—10 u m,只能透過微粒約為0. 4nm的水蒸氣分子，而對任何液滴12，因其粒徑過大而無法通過，因此聚氨酯薄膜具有很好的透氣性和防水性，而且聚氨酯薄膜的回彈性差，能夠增加撞擊到側壁3內壁的液滴12的抗變形能力，防止液體回濺。當然，本領域所屬技術人員很容易想到，只要有機薄膜4具有耐腐蝕性、回彈性差，并具有微細多孔結構就可以用于本實用新型實施例中的防止液體回濺裝置中，而并不局限于聚氨酯薄膜，其都在本實用新型的保護范圍內。本實用新型實施例中防止液體回濺裝置的組件可以利用現(xiàn)有技術中晶片清洗設備中的組件，只需要在側壁3上設置一層有機薄膜4，不需單獨生產，節(jié)約大量成本，同時有機薄膜4非常干凈，不會給設備帶來污染。其中，側壁3的底部還可以具有底盤13，用于收集從晶片I上甩開的液體，底盤13上還可以設置排液管7，用于排出底盤13上收集的液體，防止液體在底盤13上積聚，以便于連續(xù)使用。由于清洗晶片I的清洗液為化學清洗液，具有一定的腐蝕性，所以本實施例中優(yōu)選卡盤2、側壁3、底盤13和排液管7均為抗腐蝕材質，如聚丙烯、玻璃紙或聚乙烯。本實用新型實施例中的防止液體回濺裝置通過在側壁的內側設置一層有機薄膜，增加液體撞擊到側壁內壁時的抗變形能力，在液體與側壁的內側表面撞擊時，大多數(shù)能量都轉化為熱，不會產生反彈、飛濺，從而防止從晶片上甩開的液體由側壁回濺至晶片上，克服了對晶片的二次污染。在實際應用時，優(yōu)選通過設置控制模塊10來控制旋轉電機9和噴淋臂電機8，可以 通過操作終端11輸入控制指令并發(fā)送給控制模塊10來控制旋轉電機9和噴淋臂電機8的工作狀態(tài)，其中，操作終端11為觸摸屏或鍵盤等輸入裝置，使得整個控制過程更精確。以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型技術原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應視為本實用新型的保護范圍。
權利要求1.一種防止液體回濺裝置，包括用于放置物體的卡盤、與所述卡盤固定連接用于旋轉所述卡盤的旋轉軸以及環(huán)設于所述卡盤周圍的側壁，所述卡盤的旋轉用于甩干所述物體上的液體，所述側壁用于防止從所述物體上甩開的液體飛濺至所述側壁之外，其特征在于，所述側壁的內側設置有一層用于防止液體回濺的有機薄膜。
2.根據(jù)權利要求I所述的防止液體回濺裝置，其特征在于，所述側壁的內側粘有一層所述有機薄膜。
3.根據(jù)權利要求I所述的防止液體回濺裝置，其特征在于，所述側壁的內側鍍有一層所述有機薄膜。
4.根據(jù)權利要求I所述的防止液體回濺裝置，其特征在于，所述側壁的內側涂有一層所述有機薄膜。
5.根據(jù)權利要求I所述的防止液體回濺裝置，其特征在于，所述有機薄膜為多孔透氣膜，不溶于水且具有抗腐蝕性。
6.根據(jù)權利要求5所述的防止液體回濺裝置，其特征在于，所述有機薄膜為聚氨酯薄膜，所述聚氨酯薄膜具有多孔結構，所述孔的孔徑為0. 2-10umo
7.根據(jù)權利要求I所述的防止液體回濺裝置，其特征在于，所述卡盤和側壁為抗腐蝕材質。
8.根據(jù)權利要求7所述的防止液體回濺裝置，其特征在于，所述卡盤和側壁的材質為聚丙烯、玻璃紙或聚乙烯。
專利摘要本實用新型提供一種防止液體回濺裝置，包括用于放置物體的卡盤、與所述卡盤固定連接用于旋轉所述卡盤的旋轉軸以及環(huán)設于所述卡盤周圍的側壁，所述卡盤的旋轉用于甩干所述物體上的液體，所述側壁用于防止從所述物體上甩開的液體飛濺至所述側壁之外，其中，所述側壁的內側設置有一層有機薄膜，通過該有機薄膜增加液體的抗變形能力，從而防止從物體上甩開的液體由側壁回濺至物體上，克服了對物體的二次污染。
文檔編號B08B13/00GK202779106SQ201220394790
公開日2013年3月13日 申請日期2012年8月9日 優(yōu)先權日2012年8月9日
發(fā)明者劉偉, 吳儀 申請人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司