用于多晶硅反應(yīng)器的清潔工具的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供了用于清潔多晶硅生產(chǎn)中使用的化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面的系統(tǒng)和方法。在一種方法中，將所述反應(yīng)器鐘形殼設(shè)置在一框架上；操作第一致動(dòng)器，以使刷子與反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面接合。將液體流從噴嘴引向反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面，以及操作第二致動(dòng)器以轉(zhuǎn)動(dòng)所述刷子。
【專(zhuān)利說(shuō)明】用于多晶硅反應(yīng)器的清潔工具
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)要求于2011年6月29日提交的美國(guó)臨時(shí)專(zhuān)利申請(qǐng)N0.61/502，614的優(yōu)先權(quán)，該申請(qǐng)的公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用全部結(jié)合在本文中
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本文公開(kāi)的內(nèi)容總地涉及一種用于清潔多晶硅反應(yīng)器的系統(tǒng)和方法，較具體地，涉及一種用于清潔多晶硅反應(yīng)器內(nèi)部的清潔工具。
【背景技術(shù)】
[0004]用在電子和太陽(yáng)能工業(yè)中的超純多晶硅通常是通過(guò)在反應(yīng)器中進(jìn)行的化學(xué)氣相沉積(CVD)過(guò)程由氣態(tài)反應(yīng)物的沉積生成的。
[0005]—種用于在CVD反應(yīng)器中生產(chǎn)超純多晶娃的方法被稱(chēng)為Siemens方法。設(shè)置在反應(yīng)器中的娃棒用作開(kāi)始該方法的籽晶。氣態(tài)的含娃反應(yīng)物流經(jīng)反應(yīng)器并且使娃沉積在娃棒的表面上。該氣態(tài)反應(yīng)物(即，氣態(tài)前體)為含娃燒化合物，例如齒代娃燒(halosilanes)或甲硅烷(monosilanes)。反應(yīng)物被加熱至1000°C以上的溫度，并且在這些條件下在硅棒的表面上分解。因此，硅根據(jù)下面的總反應(yīng)式沉積在硅棒上:
[0006]2HSiCl3 — Si+2HCl+SiCl4
[0007]在硅棒的表面上已沉積了一層預(yù)定厚度的硅以后，停止該過(guò)程。然后從CVD反應(yīng)器中拔出硅棒100，并從該硅棒上收獲硅以進(jìn)行下一步處理。
[0008]在拔出硅棒后，清潔反應(yīng)器以去除沉積在反應(yīng)器內(nèi)表面上的硅和其他材料。在已知的系統(tǒng)中，該反應(yīng)器通常由技術(shù)人員人工清潔。該技術(shù)人員通過(guò)朝內(nèi)表面噴射去離子水來(lái)清潔反應(yīng)器。
[0009]此【背景技術(shù)】部分用于向讀者介紹可能與下面將描述和/或要求保護(hù)的本申請(qǐng)的各方面相關(guān)的本領(lǐng)域的各方面。此部分內(nèi)容相信有助于向讀者提供背景信息，以便于他們更好地理解本申請(qǐng)的各個(gè)方面。因此，應(yīng)該理解的是，應(yīng)該基于這種考慮來(lái)閱讀這些內(nèi)容，而不能將其視為對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的認(rèn)可。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]一方面是提供一種用于清潔化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器鐘形殼(bell)的內(nèi)表面的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括:用于連接到該反應(yīng)器鐘形殼的凸緣上的框架；連接到該框架上的致動(dòng)機(jī)構(gòu)，該致動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)造成在該反應(yīng)器鐘形殼連接到該框架上時(shí)，在該反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)部空間內(nèi)作垂直及轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)；至少一個(gè)與該致動(dòng)機(jī)構(gòu)連接的刷子，該刷子構(gòu)造成與該反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面接觸；以及至少一個(gè)連接到該致動(dòng)機(jī)構(gòu)上的噴嘴，該噴嘴構(gòu)造成朝該反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面引導(dǎo)液體流。
[0011]另一方面是提供一種利用刷子清潔化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面的方法。該方法包括:將該反應(yīng)器鐘形殼定位在一框架上；操作第一致動(dòng)器，以使刷子與該反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面接合；從一噴嘴朝該反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面引導(dǎo)液體流；以及操作第二致動(dòng)器以轉(zhuǎn)動(dòng)該刷子。
[0012]與上述各方面相關(guān)的特征包含有各種改進(jìn)。上述各方面中也可以結(jié)合其他特征。這些改進(jìn)和附加特征可以單獨(dú)存在或者以任意組合存在。例如，下面討論的任一示意性實(shí)施例中的各種特征都可以單獨(dú)或以任意組合結(jié)合在任何上述方面中。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1為用于清潔化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器的內(nèi)表面的系統(tǒng)的立體圖；
[0014]圖2為圖1的系統(tǒng)的正視圖；
[0015]圖3為圖1的系統(tǒng)的俯視圖；
[0016]圖4為圖1中的虛線(xiàn)圓指示的圖1的系統(tǒng)的一部分的放大視圖；
[0017]圖5為圖1中的虛線(xiàn)圓指示的圖1的系統(tǒng)的一部分的放大視圖；以及
[0018]圖6為圖1中的虛線(xiàn)圓指示的圖1的系統(tǒng)的一部分的放大視圖。
[0019]各視圖中同樣的參考標(biāo)號(hào)指代相同的元件。
【具體實(shí)施方式】
[0020]本文中描述的實(shí)施例總地涉及用于清潔化學(xué)氣相沉積(CVD)多晶硅反應(yīng)器的內(nèi)表面的系統(tǒng)和方法。該系統(tǒng)可被操作以便用液體沖洗內(nèi)表面并用刷子擦洗內(nèi)表面。該系統(tǒng)還可被操作以便用氣體流干燥內(nèi)表面。
[0021]用于清潔CVD反應(yīng)器的內(nèi)表面的一種不例性系統(tǒng)在圖1-6中整體上由參考標(biāo)號(hào)100表示。在使用過(guò)程中，系統(tǒng)100設(shè)置在CVD反應(yīng)器的反應(yīng)器鐘形殼102 (概括地說(shuō)，夕卜殼)中。反應(yīng)器鐘形殼102在圖1和2中以虛線(xiàn)示出。系統(tǒng)100可以可選地基本上是固定的，而鐘形殼可以通過(guò)升降器或其他合適的結(jié)構(gòu)被降低或者圍繞該系統(tǒng)設(shè)置。
[0022]在該示例性實(shí)施例中，該系統(tǒng)包括具有四個(gè)支腿106的框架104。用于在使用期間支承反應(yīng)器鐘形殼102的凸緣108連接到框架104上并且大體鄰近支腿106定位。凸緣108的直徑等于或大于反應(yīng)器鐘形殼102的底部凸緣110的直徑。如圖2所示，在系統(tǒng)100的使用期間，反應(yīng)器鐘形殼102的底部凸緣110設(shè)置在凸緣108上。凸緣108可以具有形成在該凸緣中的開(kāi)口以用于容納機(jī)械緊固件，該機(jī)械緊固件用于將反應(yīng)器鐘形殼102的底部凸緣110固定到該凸緣108上。而且，附接到框架104上的夾持件112可以用于保持反應(yīng)器鐘形殼102的底部凸緣110與框架104的凸緣108接觸。本示例性實(shí)施例中使用了四個(gè)沿圓周間隔開(kāi)的夾持件112，然而，在其他實(shí)施例中可以使用不同數(shù)目或構(gòu)型的夾持件。此外，附圖中示出的夾持件112處于未固定狀態(tài)。為了將反應(yīng)器鐘形殼的底部凸緣110緊固到凸緣108上，夾持件112被向內(nèi)樞轉(zhuǎn)。
[0023]鉸接機(jī)構(gòu)/致動(dòng)機(jī)構(gòu)120設(shè)置在系統(tǒng)100的中心部122中，并且連接到框架104上。該示例性實(shí)施例中的鉸接機(jī)構(gòu)120具有三個(gè)單獨(dú)的致動(dòng)器124，但是其他實(shí)施例可以具有不同數(shù)目的致動(dòng)器。每個(gè)致動(dòng)器124都在一端與底板126連接，底板126繼而與框架104連接。在另一相對(duì)端處，致動(dòng)器124與頂板128連接。
[0024]每個(gè)致動(dòng)器124連接有兩對(duì)刷子130和噴嘴132 (下文將進(jìn)行更詳細(xì)描述)。致動(dòng)器124可平行于垂直軸線(xiàn)V沿垂直方向移動(dòng)。各致動(dòng)器124可以彼此獨(dú)立地移動(dòng)?？梢酝ㄟ^(guò)基板126和/或頂板128的轉(zhuǎn)動(dòng)使鉸接機(jī)構(gòu)120繞平行于軸線(xiàn)V的軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0025]在圖4和5所示的示例性實(shí)施例中，每對(duì)刷子130和噴嘴132在垂直方向上與另一對(duì)刷子130和噴嘴132間隔開(kāi)。而且，噴嘴132以一定角度相對(duì)于刷子130移開(kāi)。此外，在各噴嘴132上方還設(shè)置有附加的噴嘴134 (圖4)。因此，在該示例性實(shí)施例中具有9個(gè)噴嘴132、134和6個(gè)刷子130。其他實(shí)施例可以使用不同數(shù)目和/或布置的噴嘴和刷子。
[0026]每個(gè)刷子130(其中一個(gè)在圖6中詳細(xì)示出)具有從圓形頭部138突出的剛毛136。在該示例性實(shí)施例中，剛毛136圍繞圓形頭部138的周邊設(shè)置，然而，在其他實(shí)施例中，剛毛136可以設(shè)置在頭部的其他部分處。剛毛136可以由任何合適的材料構(gòu)成，例如，聚酰胺和纖維玻璃、與碳和/或不銹鋼結(jié)合的聚四氟乙烯(PTFE)。此外，某些實(shí)施例可以使用具有不同形狀(例如，矩形、三角形、長(zhǎng)形或方形)的頭部138。
[0027]如圖4和5所示，刷子130連接到合適的旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器140上，該旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器140可被操作以轉(zhuǎn)動(dòng)刷子130的頭部138。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器140可被操作為以預(yù)定的每分鐘轉(zhuǎn)數(shù)(RPM)轉(zhuǎn)動(dòng)刷子130。在該示例性實(shí)施例中，刷子130以大約200到300RPM轉(zhuǎn)動(dòng)，然而其他實(shí)施例可以使致動(dòng)器以不同的RPM轉(zhuǎn)動(dòng)。此外，除了使頭部138轉(zhuǎn)動(dòng)以外或者作為使頭部138轉(zhuǎn)動(dòng)的替代，致動(dòng)器140還可以使刷子130進(jìn)行振蕩和/或擺動(dòng)。
[0028]刷子130還與合適的線(xiàn)性致動(dòng)器142連接，該線(xiàn)性致動(dòng)器可被操作以便沿平行于水平軸線(xiàn)H的方向橫向移動(dòng)刷子130。在其他實(shí)施例中，線(xiàn)性致動(dòng)器142還可以被操作為沿不平行于水平軸線(xiàn)H的其他方向移動(dòng)刷子130。線(xiàn)性致動(dòng)器142能夠在刷子130上施加足夠的力，以便將刷子130的剛毛136壓向反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144 (圖2)。這種對(duì)刷子130的擠壓有助于通過(guò)剛毛136去除反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144上的材料(例如，污染物)。
[0029]如上所述，在該示例性實(shí)施例中，其中一個(gè)噴嘴132鄰近各刷子130設(shè)置。附加的噴嘴134在最上方的那對(duì)刷子130和噴嘴132的上方垂直設(shè)置。噴嘴132、134均與鉸接機(jī)構(gòu)120連接，然而，在其他實(shí)施例中，噴嘴132、134可以與系統(tǒng)100中的其他結(jié)構(gòu)連接。在該示例性實(shí)施例中，具有相同數(shù)目的噴嘴132和刷子130。在其他實(shí)施例中，噴嘴132可以比刷子130更多或更少。此外，噴嘴132可以設(shè)置在不同的位置，以使得它們不會(huì)靠近刷子130。
[0030]噴嘴132和134連接到能夠向噴嘴供應(yīng)流體(例如，去離子水、清潔劑、水，等等)的合適的流體供應(yīng)源146 (該流體供應(yīng)源的一部分在圖2中示出)。噴嘴132、134用于朝反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144引導(dǎo)(例如，噴射)流體。該流體可用于在內(nèi)表面144已經(jīng)被頭部138的剛毛136擦洗之后沖洗該內(nèi)表面144。也可以在利用頭部138的剛毛136擦洗反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144的同時(shí)，朝內(nèi)表面144引導(dǎo)(例如，噴射)該流體(或者另一類(lèi)型的流體)。例如，可以在擦洗反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144期間使用清潔劑流體。在某些實(shí)施例中，噴嘴132、134可以用于朝反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144引導(dǎo)氣體流。來(lái)自噴嘴132、134的該氣體流可用于在內(nèi)表面144被清潔之后干燥該內(nèi)表面。
[0031]在該示例性實(shí)施例中，設(shè)置有干燥噴嘴150 (圖6)，以用于朝反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144引導(dǎo)氣體流。在該示例性實(shí)施例中，該氣體為氮?dú)?但是在其他實(shí)施例中,可使用不同的氣體(例如，惰性氣體)。干燥噴嘴150與鉸接機(jī)構(gòu)120的一部分(例如，另一致動(dòng)器)連接，該部分可被操作用于移動(dòng)噴嘴150以便朝反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144的不同部分引導(dǎo)氣體。此外，干燥噴嘴150與合適的氣體供應(yīng)源(未示出)連接。在該示例性實(shí)施例中，干燥噴嘴150用于朝形成在反應(yīng)器鐘形殼102中的觀察窗口(未示出)引導(dǎo)氣體流。然而，在其他實(shí)施例中，干燥噴嘴150可用于朝反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144的其他部分或整個(gè)內(nèi)表面144引導(dǎo)氣體流。此外，該示例性實(shí)施例包括垂直位于框架104的凸緣108的下方的鼓風(fēng)機(jī)152,以用于朝反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144引導(dǎo)空氣流或其他合適的氣體流。該空氣流有助于在完成清潔周期后干燥內(nèi)表面144。該示例性實(shí)施例還包括用于幫助檢視所述觀察窗口的光源160 (圖6)。在該不例性實(shí)施例中，該光源160是與合適的光發(fā)生器(未示出)連接的光纖光源。該光源160還允許在下文更詳細(xì)描述的清潔周期內(nèi)檢視反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144。雖然圖6中示出了一個(gè)光源160，但是整個(gè)系統(tǒng)100可以使用和設(shè)置多個(gè)光源。
[0032]在使用過(guò)程中，當(dāng)反應(yīng)器鐘形殼102被降低或者放置在框架104上方時(shí)開(kāi)始清潔周期。然后，用夾持件112和/或合適的緊固件將反應(yīng)器鐘形殼102固定到框架104上。然后，將連接到刷子130的線(xiàn)性致動(dòng)器142延伸至使刷子與反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144接觸。然后，從噴嘴132、134朝內(nèi)表面144噴射流體，并且旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器140開(kāi)始轉(zhuǎn)動(dòng)刷子130。刷子130的轉(zhuǎn)動(dòng)和剛毛136與內(nèi)表面144的接觸使得沉積的污染物和/或殘?jiān)鼜膬?nèi)表面上清除。在其他實(shí)施例中，可以改變這些初始步驟的順序。例如，在延伸線(xiàn)性致動(dòng)器142和/或通過(guò)旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器140轉(zhuǎn)動(dòng)刷子130之前，噴嘴132、134可以將流體噴射到內(nèi)表面144上。
[0033]隨著刷子130轉(zhuǎn)動(dòng)和噴嘴132、134噴射流體，鉸接機(jī)構(gòu)120沿大體上平行于垂直軸線(xiàn)V的方向移動(dòng)噴嘴和刷子。鉸接機(jī)構(gòu)120還使噴嘴132、134和刷子130繞垂直軸線(xiàn)V轉(zhuǎn)動(dòng)。為了從反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144合適地清除殘?jiān)?或污染物，可以調(diào)整鉸接機(jī)構(gòu)120的轉(zhuǎn)動(dòng)和垂直運(yùn)動(dòng)的速率。此外，可以基于內(nèi)表面144的污染物的數(shù)量調(diào)整轉(zhuǎn)動(dòng)和垂直運(yùn)動(dòng)的速率?？梢杂刹僮魅藛T或者利用一個(gè)或多個(gè)傳感器測(cè)量污染物的數(shù)量。可以選取內(nèi)表面144上的一個(gè)或多個(gè)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量。然后，控制系統(tǒng)基于測(cè)量結(jié)果調(diào)整鉸接機(jī)構(gòu)120的轉(zhuǎn)動(dòng)和垂直運(yùn)動(dòng)的速率。在其他實(shí)施例中，操作人員可以基于測(cè)量結(jié)果調(diào)整鉸接機(jī)構(gòu)120的轉(zhuǎn)動(dòng)和垂直運(yùn)動(dòng)的速率。
[0034]此外，在清潔反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144期間，鉸接機(jī)構(gòu)120可以改變刷子130和噴嘴132、134的垂直運(yùn)動(dòng)和/或轉(zhuǎn)動(dòng)的速率。例如，當(dāng)清潔內(nèi)表面144的其上沉積有比其他內(nèi)表面部分更多污染物的部分時(shí)，可以降低垂直運(yùn)動(dòng)和/或轉(zhuǎn)動(dòng)的速率。當(dāng)清潔內(nèi)表面144的其上沉積有較少污染物的部分時(shí)，也可以降低速率。
[0035]清潔周期一直持續(xù)到從反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144清除了污染物或者部分的或一定比例的污染物為止。在操作過(guò)程中，可以進(jìn)行另一種測(cè)量以確定是否已將內(nèi)表面144上的污染物或者部分的或一定比例的污染物清除掉。在其他實(shí)施例中，清潔周期可以持續(xù)預(yù)定的時(shí)間段(例如，30分鐘)。
[0036]在完成清潔周期后，通過(guò)鉸接機(jī)構(gòu)120將干燥噴嘴150移動(dòng)至鄰近反應(yīng)器鐘形殼102的觀察窗口的位置。然后，通過(guò)干燥噴嘴150朝觀察窗口引導(dǎo)氣體(例如，氮?dú)?流，以便干燥該窗口并清除該窗口表面的液體。然后，可以使用鼓風(fēng)機(jī)152朝反應(yīng)器鐘形殼102的內(nèi)表面144引導(dǎo)空氣流以干燥該表面。在該不例性實(shí)施例中，鼓風(fēng)機(jī)152可被操作以加熱空氣，以便進(jìn)一步幫助干燥內(nèi)表面144。
[0037]在干燥內(nèi)表面144之后,移除用于將反應(yīng)器鐘形殼102固定到系統(tǒng)100的框架104上的夾持件112和/或機(jī)械緊固件。然后，使用升降器或其他機(jī)構(gòu)從框架104上移除反應(yīng)器鐘形殼102。然后，將反應(yīng)器鐘形殼102投入運(yùn)行或者存放起來(lái)以備以后使用。
[0038]清潔后的反應(yīng)器鐘形殼將具有增強(qiáng)的反射率。該增強(qiáng)的反射率將減少工藝過(guò)程中的能量消耗，從而使得工藝過(guò)程更高效。
[0039]當(dāng)介紹本發(fā)明或其實(shí)施例中的元件時(shí)，冠詞“一”、“該”和“所述”是指具有一個(gè)或多個(gè)該元件。術(shù)語(yǔ)“包含”、“包括”和“具有”是指包含在內(nèi)的，并且意味著除了列出的元件以外還可以有其他元件。表示特定取向(例如，“頂部”、“底部”、“側(cè)面”等)的術(shù)語(yǔ)的使用是為了方便描述，不要求所描述的物品的任何特定取向。
[0040]由于可以在不偏離本發(fā)明的范圍的情況下在上述構(gòu)造和方法中進(jìn)行各種變化，因此以上描述中包含的和附圖中示出的所有內(nèi)容都應(yīng)理解為示例性的，而非限制性的。
【權(quán)利要求】
1.一種用于清潔化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括: 用于連接到所述反應(yīng)器鐘形殼的凸緣上的框架； 連接到所述框架的致動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述致動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)造成在所述反應(yīng)器鐘形殼連接到所述框架時(shí)，在所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)部空間內(nèi)作垂直及轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)； 與所述致動(dòng)機(jī)構(gòu)連接的至少一個(gè)刷子，所述刷子構(gòu)造成與所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面接觸；和 連接到所述致動(dòng)機(jī)構(gòu)的至少一個(gè)噴嘴，所述噴嘴構(gòu)造成將液體流引向所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括與所述至少一個(gè)刷子連接的旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器，所述旋轉(zhuǎn)致動(dòng)器構(gòu)造成轉(zhuǎn)動(dòng)所述刷子。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括將所述至少一個(gè)刷子連接到所述致動(dòng)機(jī)構(gòu)的線(xiàn)性致動(dòng)器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括干燥噴嘴，用于將氣體流弓I向形成在所述反應(yīng)器鐘形殼內(nèi)的窗口的內(nèi)表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括幫助檢視所述窗口的光源。
6.一種利用刷子清潔化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面的方法，所述方法包括: 將所述反應(yīng)器鐘形殼設(shè)置在一框架上； 操作第一致動(dòng)器，以使刷子與所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面接合； 將液體流從噴嘴引向所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面；以及 操作第二致動(dòng)器以轉(zhuǎn)動(dòng)所述刷子。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括使致動(dòng)機(jī)構(gòu)圍繞平行于所述反應(yīng)器鐘形殼的縱向軸線(xiàn)的垂直軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法還包括沿平行于所述反應(yīng)器鐘形殼的縱向軸線(xiàn)的垂直軸線(xiàn)移動(dòng)所述致動(dòng)機(jī)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法還包括測(cè)量所述內(nèi)表面的污染物的數(shù)量。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法還包括基于所述內(nèi)表面的污染物的數(shù)量調(diào)整轉(zhuǎn)動(dòng)和垂直運(yùn)動(dòng)的速率。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括將氣體流引向形成在所述反應(yīng)器鐘形殼內(nèi)的窗口的內(nèi)表面。
【文檔編號(hào)】B08B9/08GK103619498SQ201280032284
【公開(kāi)日】2014年3月5日 申請(qǐng)日期:2012年6月29日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月29日
【發(fā)明者】E·博維奧, P·莫里諾, D·加瓦 申請(qǐng)人:Memc電子材料有限公司