硅片預(yù)清洗劑的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種硅片預(yù)清洗劑，由以下組分按照重量配比份組成：15份~20份的表面活性劑，25份~40份的硝酸，2份~5份的三乙醇胺，2份的檸檬酸，1份的氫氟酸，2份的雙氧水，其余為去離子水。本發(fā)明得到的硅片預(yù)清洗劑，結(jié)合有機(jī)清洗劑與無機(jī)清洗劑的特點(diǎn)，能夠有效的去除硅片表面的各種污染物，為硅片的制絨工藝創(chuàng)造了良好的條件，從而提高了太陽(yáng)能電池片的優(yōu)質(zhì)率與效率。
【專利說明】硅片預(yù)清洗劑
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種清洗劑，特別是硅片預(yù)清洗劑。
【背景技術(shù)】
[0002]通常情況下，硅片表面會(huì)存在各種污染物，即硅片表面沾污，包括硅表面上沉積的粒子、金屬、有機(jī)物、濕氣分子和自然氧化物等。這些污染物是當(dāng)硅棒切割成硅片時(shí)，由于切割線與硅片磨損產(chǎn)生的金屬顆粒、硅顆粒，切割過程中使用的輔助劑、粘合劑殘留而形成的。另外在硅片儲(chǔ)存、運(yùn)輸?shù)倪^程中，由于污染物殘留在硅片表面的時(shí)間過長(zhǎng)，污染物發(fā)生氧化，氧化污染物強(qiáng)力吸附在硅片表面，通過目前的清洗方式無法徹底清洗干凈。這些污染物的存在將會(huì)影響后期的加工工藝，使制絨時(shí)硅片表面殘留的化合物、金屬污染物與酸堿殘留過多，使硅片表面出現(xiàn)白斑，產(chǎn)生色差現(xiàn)象，降低太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率，影響成品率及產(chǎn)品質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種能有效去除太陽(yáng)能硅片上的有機(jī)物、金屬、塵埃及其它顆粒沾污的硅片預(yù)清洗劑。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所設(shè)計(jì)的硅片預(yù)清洗劑，由以下組分按照重量配比份組成:15份~20份的表面活性劑，25份~40份的硝酸，2份~5份的三乙醇胺，2份的檸檬酸，1份的氫氟酸，2份的雙氧水，其余為去離子水；所述表面活性劑為十二烷基苯磺酸鈉和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉，比例為1:1 ;所述硝酸的濃度為25%，檸檬酸的濃度為5%。
[0005]本發(fā)明的硅片預(yù)清洗劑的使用方法，包括如下步驟:· (1)用去離子水浸泡清洗硅片，浸泡時(shí)間控制在3分鐘飛分鐘；
(2)采用上述硅片預(yù)清洗劑浸泡清洗硅片，浸泡溫度為20°C~30°C，浸泡時(shí)間為2分鐘^4分鐘。
[0006]上述浸泡過程中都可以選擇在超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行，從而提高清潔效率。
[0007]下面對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的解釋和說明:為了防止硅片表面附著顆粒，則加入適當(dāng)?shù)谋砻婊钚詣?，從而使得?dāng)活性劑分子被硅片表面吸附時(shí)，其極性親水基會(huì)與硅片產(chǎn)生多點(diǎn)吸附，使硅片與顆粒的吸附力不斷減弱，最終將整個(gè)顆粒從硅片表面分離開，活性劑分子在硅片和顆粒表面形成致密的質(zhì)點(diǎn)保護(hù)層，防止了顆粒與硅片再次吸附；同時(shí)螯合劑的加入是為了去除金屬污染物，因?yàn)轵蟿┎粌H可以與金屬離子形成絡(luò)合物，而且可以吸附在硅片表面，使金屬離子不易在表面吸附和反應(yīng)。
[0008]另外在該硅片預(yù)清洗劑加入硝酸，雙氧水和氫氟酸是利用硝酸的強(qiáng)氧化性和強(qiáng)酸性來腐蝕掉硅片表面的膠水、合成蠟、油脂等污染物；通過雙氧水與硅片發(fā)生反應(yīng)，在硅片表面形成一層二氧化硅薄層，同時(shí)硝酸也能夠與硅片反應(yīng)生成二氧化硅，最后在氫氟酸的作用下，反應(yīng)生成的二氧化硅薄層不斷溶解，吸附在硅片表面的污染物隨之從硅片表面剝離落入溶液中。這樣不僅完成了硅片的清洗過程，同時(shí)為后續(xù)的制絨打下了基礎(chǔ)。[0009]本發(fā)明得到的硅片預(yù)清洗劑，結(jié)合有機(jī)清洗劑與無機(jī)清洗劑的特點(diǎn)，能夠有效的去除硅片表面的各種污染物，為硅片的制絨工藝創(chuàng)造了良好的條件，從而提高了太陽(yáng)能電池片的優(yōu)質(zhì)率與效率。
【具體實(shí)施方式】
[0010]下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。
[0011]實(shí)施例1:
本發(fā)明提供的硅片預(yù)清洗劑，由以下組分按照重量配比份組成:15份的表面活性劑，25份的硝酸，2的三乙醇胺，2份的檸檬酸，1份的氫氟酸，2份的雙氧水，其余為去離子水；所述表面活性劑為十二烷基苯磺酸鈉和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉，比例為1:1 ;所述硝酸的濃度為25%，檸檬酸的濃度為5%。
[0012]本發(fā)明的硅片預(yù)清洗劑的使用方法，包括如下步驟:
(1)用去離子水浸泡清洗硅片，浸泡時(shí)間控制在3分鐘飛分鐘；
(2)采用上述硅片預(yù)清洗劑浸泡清洗硅片，浸泡溫度為20°C~30°C，浸泡時(shí)間為2分鐘^4分鐘。
[0013]上述浸泡過程中都可以選擇在超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行，從而提高清潔效率。
[0014]利用本實(shí)施例得到的硅片預(yù)清洗劑來清洗硅片，不僅能夠使得硅片的清潔度達(dá)到99%以上，而且可以有效的去除硅片表面的各種污染物，為硅片的制絨工藝創(chuàng)造了良好的條件，從而提聞了太陽(yáng)能電池片的優(yōu)質(zhì)率與效率。
[0015]實(shí)施例2:
本實(shí)施例提供的硅片預(yù)清洗劑，由以下組分按照重量配比份組成:20份的表面活性劑，40份的硝酸，5份的三乙醇胺，2份的檸檬酸，1份的氫氟酸，2份的雙氧水，其余為去離子水；所述表面活性劑為十二烷基苯磺酸鈉和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉，比例為1:1 ;所述硝酸的濃度為25%，檸檬酸的濃度為5%。
[0016]利用本實(shí)施例得到的硅片預(yù)清洗劑，其使用方法和上述實(shí)施例1相同。另外用其來清洗硅片，也能夠使得硅片的清潔度達(dá)到99%以上。
【權(quán)利要求】
1.一種硅片預(yù)清洗劑，其特征在于它由以下組分按照重量配比份組成:15份~20份的表面活性劑，25份~40份的硝酸，2份~5份的三乙醇胺，2份的檸檬酸，1份的氫氟酸，2份的雙氧水，其余為去離子水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片預(yù)清洗劑，其特征在于:所述表面活性劑為十二烷基苯磺酸鈉和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉，比例為1:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硅片預(yù)清洗劑，其特征在于:所述硝酸的濃度為25%，檸檬酸 的濃度為5%。
【文檔編號(hào)】C11D3/39GK103666784SQ201310620153
【公開日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2013年11月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月29日
【發(fā)明者】孫愛玲 申請(qǐng)人:孫愛玲