專利名稱：一種pecvd輔助配件清洗機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及太陽能生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，特別涉及一種PECVD輔助配件清洗機(jī)。
背景技術(shù)：
PECVD:等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法，是Plasma EnhancedChemical VaporDeposition的英文縮寫。等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，等離子體化學(xué)活性較強(qiáng)，很容易與基片發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。在光伏行業(yè)技術(shù)領(lǐng)域中，通常采用PECVD對硅片進(jìn)行鍍膜處理，用于提高硅片的介電常數(shù)、使得硅片具有良好的減反射效果。現(xiàn)有技術(shù)中PECVD設(shè)備的工藝腔室內(nèi)，有大量用于輔助工藝的特氣槽、特氣擋板、防鍍膜板等輔助配件，這些材料的材質(zhì)主要是以石墨纖維和不銹鋼板為主要材料。在長時(shí)間的生產(chǎn)工藝后，這些材料的表面會(huì)附著厚度在1_-2_的氮化硅層，影響了產(chǎn)品的質(zhì)量。為了降低太陽能組件的生產(chǎn)成本，在輔助配件附著有較厚的氮化硅層后，需要對氮化硅層進(jìn)行清理，用于保證輔助配件仍具有良好的輔助效果。輔助配件一般采用石墨或者不銹鋼制成，目前現(xiàn)有的維護(hù)方式為直接用金屬工具進(jìn)行敲擊或用鋼絲刷進(jìn)行清潔特氣槽以及擋板，由于氮化硅的附著能力較強(qiáng)，無法徹底清除表面附著的氮化硅，而且石墨件為易損件無法承受金屬工具的敲擊，金屬器件被金屬工具敲擊后出現(xiàn)了無法修復(fù)的嚴(yán)重變形，無法繼續(xù)使用。導(dǎo)致了特氣槽、特氣擋板、防鍍膜板成為了定期耗材，在日常生產(chǎn)中成本損失嚴(yán)重。敲擊方式將破壞石墨特氣槽以及石墨擋板表面的結(jié)構(gòu)，容易造成石墨纖維分層，以及后期生產(chǎn)中工藝腔室掉渣導(dǎo)致大量不合格片子的產(chǎn)生，也會(huì)降低石墨特氣槽以及擋板的使用壽命，增加生產(chǎn)中的成本。綜上所述，如何在對輔助配件的影響較小的前提下對PECVD輔助配件進(jìn)行高效的清理，成為了本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題為提供一種能夠?qū)ECVD輔助配件進(jìn)行清洗的專用清洗機(jī)，該清洗機(jī)通過其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，既能夠?qū)ECVD輔助配件進(jìn)行高效率的清洗，同時(shí)對PECVD輔助配件物理性狀的改變程度較小。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種PECVD輔助配件清洗機(jī)，包括:機(jī)架；酸洗系統(tǒng)，所述酸洗系統(tǒng)安裝于所述機(jī)架上，所述酸洗系統(tǒng)包括用于盛裝氫氟酸的酸槽；浸泡噴淋清洗系統(tǒng)，所述浸泡噴淋清洗系統(tǒng)安裝于所述機(jī)架上，所述浸泡噴淋清洗系統(tǒng)包括清洗槽，所述清洗槽中安裝有噴淋頭。[0013]優(yōu)選地，本實(shí)用新型還包括干冰預(yù)清洗系統(tǒng)，所述干冰預(yù)清洗系統(tǒng)包括干冰處理槽，所述干冰處理槽的底部開設(shè)有排渣口。優(yōu)選地，所述酸洗系統(tǒng)還包括排酸管路，所述排酸管路與所述酸槽的底壁連通。優(yōu)選地，所述酸洗系統(tǒng)還包括用于向氫氟酸中充氣的充氣閥組件，所述充氣閥組件設(shè)置于所述酸槽靠近其底壁的位置，并與所述酸槽的底壁間隔設(shè)置。優(yōu)選地，所述浸泡噴淋清洗系統(tǒng)還包括水循環(huán)組件，所述水循環(huán)組件包括用于與所述清洗槽相連通的進(jìn)水管和出水管。優(yōu)選地，所述進(jìn)水管與所述出水管均設(shè)置于所述清洗槽的底壁上。優(yōu)選地，本實(shí)用新型還包括排風(fēng)系統(tǒng)，所述排風(fēng)系統(tǒng)設(shè)置于所述機(jī)架的上側(cè)。優(yōu)選地，所述排風(fēng)系統(tǒng)包括排風(fēng)風(fēng)道，所述排風(fēng)風(fēng)道中安裝有用于調(diào)節(jié)排風(fēng)量的調(diào)節(jié)閥。優(yōu)選地，所述述排風(fēng)系統(tǒng)包括排風(fēng)風(fēng)道，所述排風(fēng)風(fēng)道中安裝有用于對氣體進(jìn)行過濾的過濾網(wǎng)。本實(shí)用新型提供了一種PECVD輔助配件清洗機(jī)，用于對PECVD工藝中所使用的輔助配件進(jìn)行清洗。在本實(shí)用新型中，PECVD輔助配件清洗機(jī)包括:機(jī)架；酸洗系統(tǒng)，酸洗系統(tǒng)安裝于機(jī)架上，酸洗系統(tǒng)包括用于盛裝氫氟酸的酸槽；浸泡噴淋清洗系統(tǒng)，浸泡噴淋清洗系統(tǒng)安裝于機(jī)架上，浸泡噴淋清洗系統(tǒng)包括清洗槽，清洗槽中安裝有噴淋頭。機(jī)架用于安裝本實(shí)用新型其他的組件，在本實(shí)用新型中機(jī)架采用鋼架結(jié)構(gòu)，用于保證機(jī)架具有較高的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。酸洗系統(tǒng)用于對輔助配件進(jìn)行酸洗，氫氟酸與氮化硅之間具有如下反應(yīng):Si3N4+4HF+9H20=3H2Si03，利用氫氟酸與氮化硅之間能夠反應(yīng)的特性，本實(shí)用新型對輔助配件的清潔不采用物理清除的方法，能夠避免輔助材料物理性能的變化。在上述結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，本實(shí)用新型提供的PECVD輔助配件清洗機(jī)采用氫氟酸與氮化硅進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)對輔助配件的清洗，由于不采用物理敲擊的方式進(jìn)行清洗，能夠避免輔助配件物理屬性的變化。同時(shí)，采用化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行清洗作業(yè)，其清洗較為徹底，并且具有較為優(yōu)質(zhì)的清洗效果。

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施例中PECVD輔助配件清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖1中部件名稱與附圖標(biāo)記的對應(yīng)關(guān)系為:酸槽I ;排酸管路11 ;充氣閥組件12 ；清洗槽2;噴淋頭21;干冰處理槽3 ;排渣口 31 ；排風(fēng)系統(tǒng)4。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的核心為提供一種能夠?qū)ECVD輔助配件進(jìn)行清洗的專用清洗機(jī)，該清洗機(jī)設(shè)置有用于盛放氫氟酸的酸槽，采用氫氟酸對PECVD輔助配件進(jìn)行酸洗。通過該結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，既能夠?qū)ECVD輔助配件進(jìn)行高效率的清洗，同時(shí)對PECVD輔助配件物理性狀的改變程度較小。為了使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案，
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。請參考圖1，圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施例中PECVD輔助配件清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型提供了一種PECVD輔助配件清洗機(jī)，用于對PECVD工藝中所使用的輔助配件進(jìn)行清洗。在本實(shí)用新型中，PECVD輔助配件清洗機(jī)包括:機(jī)架；酸洗系統(tǒng)，酸洗系統(tǒng)安裝于機(jī)架上，酸洗系統(tǒng)包括用于盛裝氫氟酸的酸槽I ;浸泡噴淋清洗系統(tǒng)，浸泡噴淋清洗系統(tǒng)安裝于機(jī)架上，浸泡噴淋清洗系統(tǒng)包括清洗槽2，清洗槽2中安裝有噴淋頭21。機(jī)架用于安裝本實(shí)用新型其他的組件，在本實(shí)用新型中機(jī)架采用鋼架結(jié)構(gòu)，用于保證機(jī)架具有較高的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。酸洗系統(tǒng)用于對輔助配件進(jìn)行酸洗，酸洗系統(tǒng)安裝于機(jī)架上，酸洗系統(tǒng)包括用于盛裝氫氟酸的酸槽I。氫氟酸與氮化硅之間具有如下反應(yīng):Si3N4+4HF+9H20=3H2Si03，利用氫氟酸與氮化硅之間能夠反應(yīng)的特性，本實(shí)用新型對輔助配件的清潔不采用物理清除的方法，能夠避免輔助材料物理性能的變化。具體地，對不銹鋼質(zhì)地的輔助配件采用2%至4%的氫氟酸進(jìn)行浸泡，對石墨質(zhì)地的輔助配件采用5%至6%的氫氟酸進(jìn)行浸泡。浸泡噴淋清洗系統(tǒng)安裝于機(jī)架上,浸泡噴淋清洗系統(tǒng)包括清洗槽2，清洗槽2中安裝有噴淋頭21。輔助配件經(jīng)過酸洗系統(tǒng)的清洗后，再通過浸泡噴淋清洗系統(tǒng)將氫氟酸洗掉，避免氫氟酸殘留腐蝕輔助配件。現(xiàn)有技術(shù)中對輔助配件的維護(hù)方式為直接用金屬工具進(jìn)行敲擊或用鋼絲刷進(jìn)行清潔，由于氮化硅的附著能力較強(qiáng)，無法徹底清除表面附著的氮化硅。并且，石墨質(zhì)地的輔助配件較脆、容易損件無法承受金屬工具的敲擊，金屬器件被金屬工具敲擊后出現(xiàn)了無法修復(fù)的嚴(yán)重變形，無法繼續(xù)使用。本實(shí)用新型提供的PECVD輔助配件清洗機(jī)通過采用設(shè)置酸洗系統(tǒng)，氫氟酸能夠與氮化硅進(jìn)行反應(yīng)實(shí)現(xiàn)對輔助配件的清洗，由于不采用物理敲擊的方式進(jìn)行清洗，能夠避免輔助配件物理屬性的變化。同時(shí)，采用化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行清洗作業(yè)，其清洗較為徹底，并且具有較為優(yōu)質(zhì)的清洗效果。具體地，本實(shí)用新型提供的PECVD輔助配件清洗機(jī)還包括干冰預(yù)清洗系統(tǒng)，干冰預(yù)清洗系統(tǒng)包括干冰處理槽3，干冰處理槽3的底部開設(shè)有排渣口 31。干冰清洗，是一種清洗污垢采用的方法。這個(gè)過程是在設(shè)備表面及涂層之間產(chǎn)生收縮的張力。這種張力能夠充分地破壞污垢的結(jié)垢力，將污垢從設(shè)備涂層上剝離。在本實(shí)用新型中，通過采用干冰清洗的方法對輔助配件進(jìn)行預(yù)處理，能夠有效地將輔助配件上的氮化硅附著物去除，由于該去除過程不采用硬物敲擊的方式，避免了輔助配件變形、損壞的情況發(fā)生。干冰處理槽3用于盛裝輔助配件上脫落的氮化硅顆粒，并且，在干冰處理槽3的底部開設(shè)有排渣口 31，方便氮化硅顆粒的集中處理。由上述可知，本實(shí)用新型采用氫氟酸對氮化硅進(jìn)行酸洗，從而達(dá)到徹底清除輔助配件上氮化硅附著物的目的。在氫氟酸使用一段時(shí)間后，其酸洗效果會(huì)隨著氫氟酸濃度的降低而降低。為了便于酸槽I中氫氟酸溶液的更換，在本實(shí)施例中酸洗系統(tǒng)還包括排酸管路11，排酸管路11與酸槽I的底壁連通。在酸槽I工作狀態(tài)下，排酸管路11上安裝的閥門關(guān)閉，氫氟酸盛裝于酸槽I中與輔助配件上的氮化硅反應(yīng)；在需要更換氫氟酸時(shí)，打開排酸管路11上閥門，氫氟酸將會(huì)通過排酸管路11排出酸槽I。具體地，酸洗系統(tǒng)還包括用于向氫氟酸中充氣的充氣閥組件12，充氣閥組件12設(shè)置于酸槽I靠近其底壁的位置，并與酸槽I的底壁間隔設(shè)置。充氣閥組件12能夠向氫氟酸溶液中充入氮?dú)?，使得酸槽I中的氫氟酸溶液得到擾動(dòng)，從而能夠加快氫氟酸與輔助配件上氮化硅的反應(yīng)，加快處理進(jìn)度。浸泡噴淋清洗系統(tǒng)的作用為對輔助配件進(jìn)行水清洗，尤其是在輔助配件經(jīng)過酸洗后，通過浸泡噴淋清洗系統(tǒng)能夠?qū)⑤o助配件上殘留的氫氟酸溶液吸取，避免殘留的氫氟酸溶液對輔助配件造成腐蝕。具體地，在本實(shí)用新型中浸泡噴淋清洗系統(tǒng)還包括水循環(huán)組件，水循環(huán)組件包括用于與清洗槽2相連通的進(jìn)水管和出水管。在上述結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，水循環(huán)組件的作用為:為浸泡噴淋清洗系統(tǒng)提供清潔用水；同時(shí)，還能夠?qū)⑶逑春髲U水排出。水循環(huán)組件中的出水管具有對廢水的導(dǎo)向功能，出水管與清洗槽2向連通，同時(shí)本實(shí)用新型還可以設(shè)置廢水處理組件。例如采用過濾網(wǎng)，將廢水中的固體顆粒雜質(zhì)過濾，通過調(diào)節(jié)廢水的酸堿性,可以將處理后的廢水在此供給水循環(huán)組件,實(shí)現(xiàn)廢水的循環(huán)利用。具體地，進(jìn)水管與出水管均設(shè)置于清洗槽2的底壁上。進(jìn)水管設(shè)置于清洗槽2的底壁上，能夠保證清洗用水從清洗槽2的底部注滿清洗槽2，該結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)能夠有效避免水花的飛濺，提高清洗用水灌注的穩(wěn)定性。出水管設(shè)置于清洗槽2的底壁上，能夠保證清洗槽2中使用過的清洗用水較為徹底地排出清洗槽2。出水管上設(shè)置有用于控制其開閉的閥門，在清洗槽2工作狀態(tài)下，出水管上安裝的閥門關(guān)閉，清洗用水盛裝于清洗槽2中用于對輔助配件進(jìn)行水清洗；在需要更換清洗用水時(shí)，打開出水管上的閥門，廢水將會(huì)通過出水管排出清洗槽2。在上述實(shí)施例中，酸洗系統(tǒng)還包括用于向氫氟酸中充氣的充氣閥組件12，充氣閥組件12能夠向氫氟酸溶液中充入氮?dú)鈴亩岣咚嵯葱省；谠搶?shí)施方式，本實(shí)用新型還提供了排風(fēng)系統(tǒng)4，排風(fēng)系統(tǒng)4設(shè)置于機(jī)架的上側(cè)。排風(fēng)系統(tǒng)4能夠?qū)⒔?jīng)過氫氟酸溶液的氮?dú)馀懦鯬ECVD輔助配件清洗機(jī)，避免氮?dú)馀c機(jī)器中的聚集。具體地，在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，排風(fēng)系統(tǒng)4包括排風(fēng)風(fēng)道，排風(fēng)風(fēng)道中安裝有用于調(diào)節(jié)排風(fēng)量的調(diào)節(jié)閥。基于上述實(shí)施例，本實(shí)用新型對排風(fēng)系統(tǒng)4做出了如下結(jié)構(gòu)改進(jìn):排風(fēng)系統(tǒng)4包括排風(fēng)風(fēng)道，所述排風(fēng)風(fēng)道中安裝有用于對氣體進(jìn)行過濾的過濾網(wǎng)。當(dāng)?shù)獨(dú)馔ㄟ^氫氟酸時(shí)，不可避免會(huì)將氫氟酸分子帶出其溶液中，使得通過氫氟酸溶液的氮?dú)饩哂形⑷醯乃嵝裕陂L期的使用過程中，該酸性的氮?dú)馊菀讓ECVD輔助配件清洗機(jī)中的部件造成腐蝕。為了避免該情況發(fā)生，本實(shí)用新型提供了過濾網(wǎng)，過濾網(wǎng)能夠?qū)Φ獨(dú)膺M(jìn)行過濾，使得排風(fēng)系統(tǒng)4排出的氮?dú)鉃榧儍舻牡獨(dú)?。?jīng)過過濾后的氮?dú)膺€能夠重新回輸至充氣閥組件12，實(shí)現(xiàn)氮?dú)獾难h(huán)利用。 以上對本實(shí)用新型所提供的一種PECVD輔助配件清洗機(jī)進(jìn)行了詳細(xì)介紹。本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對本實(shí)用新型的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本實(shí)用新型的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以對本實(shí)用新型進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾，這些改進(jìn)和修飾也落入本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，包括: 機(jī)架； 酸洗系統(tǒng)，所述酸洗系統(tǒng)安裝于所述機(jī)架上，所述酸洗系統(tǒng)包括用于盛裝氫氟酸的酸槽(I); 浸泡噴淋清洗系統(tǒng)，所述浸泡噴淋清洗系統(tǒng)安裝于所述機(jī)架上，所述浸泡噴淋清洗系統(tǒng)包括清洗槽(2 )，所述清洗槽(2 )中安裝有噴淋頭(21)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，還包括干冰預(yù)清洗系統(tǒng)，所述干冰預(yù)清洗系統(tǒng)包括干冰處理槽(3)，所述干冰處理槽(3)的底部開設(shè)有排渣口(31)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，所述酸洗系統(tǒng)還包括排酸管路(11)，所述排酸管路(11)與所述酸槽(I)的底壁連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，所述酸洗系統(tǒng)還包括用于向氫氟酸中充氣的充氣閥組件(12)，所述充氣閥組件(12)設(shè)置于所述酸槽(I)靠近其底壁的位置，并與所述酸槽(I)的底壁間隔設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，所述浸泡噴淋清洗系統(tǒng)還包括水循環(huán)組件，所述水循環(huán)組件包括用于與所述清洗槽(2 )相連通的進(jìn)水管和出水管。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，所述進(jìn)水管與所述出水管均設(shè)置于所述清洗槽(2)的底壁上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，還包括排風(fēng)系統(tǒng)(4)，所述排風(fēng)系統(tǒng)(4)設(shè)置于所述機(jī)架的上側(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，所述排風(fēng)系統(tǒng)(4)包括排風(fēng)風(fēng)道，所述排風(fēng)風(fēng)道中安裝有用于調(diào)節(jié)排風(fēng)量的調(diào)節(jié)閥。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的PECVD輔助配件清洗機(jī)，其特征在于，所述述排風(fēng)系統(tǒng)(4)包括排風(fēng)風(fēng)道，所述排風(fēng)風(fēng)道中安裝有用于對氣體進(jìn)行過濾的過濾網(wǎng)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種PECVD輔助配件清洗機(jī)，包括機(jī)架；酸洗系統(tǒng)，酸洗系統(tǒng)安裝于機(jī)架上，酸洗系統(tǒng)包括用于盛裝氫氟酸的酸槽；浸泡噴淋清洗系統(tǒng)，浸泡噴淋清洗系統(tǒng)安裝于機(jī)架上，浸泡噴淋清洗系統(tǒng)包括清洗槽，清洗槽中安裝有噴淋頭。酸洗系統(tǒng)用于對輔助配件進(jìn)行酸洗，氫氟酸與氮化硅之間具有如下反應(yīng)Si3N4+4HF+9H2O=3H2SiO3，利用氫氟酸與氮化硅之間能夠反應(yīng)的特性，本實(shí)用新型對輔助配件的清潔不采用物理清除的方法，能夠避免輔助材料物理性能的變化。本實(shí)用新型采用氫氟酸與氮化硅進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)對輔助配件的清洗，能夠使得本實(shí)用新型對輔助配件的清洗較為徹底，并且其清洗效果較佳。
文檔編號(hào)B08B3/02GK203030585SQ201320016459
公開日2013年7月3日 申請日期2013年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月11日
發(fā)明者閆文啟, 齊海洋, 李盼 申請人:英利集團(tuán)有限公司