一種硅片沖洗裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種硅片生產(chǎn)過程中，對硅片進(jìn)行清洗的硅片沖洗裝置，包括清洗槽、儲水罐、對儲水罐中的水進(jìn)行輸送的輸送裝置，以及位于清洗槽上方的旋轉(zhuǎn)裝置，旋轉(zhuǎn)裝置包括支架、固定設(shè)置在支架上的驅(qū)動電機、固定連接在驅(qū)動電機輸出軸上的轉(zhuǎn)軸，以及固定連接在轉(zhuǎn)軸下端的旋轉(zhuǎn)平臺，所述旋轉(zhuǎn)平臺位于清洗槽內(nèi)，輸送裝置的輸出端位于旋轉(zhuǎn)平臺的上方。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，不需要頻繁換水，能夠?qū)杵M(jìn)行徹底清洗，同時無需人工操作、提高了清洗效率。
【專利說明】一種硅片沖洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及硅片生產(chǎn)輔助設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種硅片生產(chǎn)過程中，對硅片進(jìn)行清洗的硅片沖洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在單晶硅生產(chǎn)過程中，需要對硅片進(jìn)行清洗，現(xiàn)有的清洗設(shè)備，只是采用一個清洗槽，將硅片放置在清洗槽中并添加清洗水，由人工對硅片進(jìn)行清洗，清洗槽中的水不能流動，需要頻繁的換水，不能對硅片進(jìn)行徹底的清洗，同時采用人工清洗其效率較低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種硅片沖洗裝置，其結(jié)構(gòu)比較簡單，不需要頻繁換水，能夠?qū)杵M(jìn)行徹底清洗，同時能夠提高清洗效率。
[0004]實現(xiàn)本實用新型的技術(shù)方案如下:
[0005]一種硅片沖洗裝置，包括清洗槽，還包括儲水罐、對儲水罐中的水進(jìn)行輸送的輸送裝置，以及位于清洗槽上方的旋轉(zhuǎn)裝置，旋轉(zhuǎn)裝置包括支架、固定設(shè)置在支架上的驅(qū)動電機、固定連接在驅(qū)動電機輸出軸上的轉(zhuǎn)軸，以及固定連接在轉(zhuǎn)軸下端的旋轉(zhuǎn)平臺，所述旋轉(zhuǎn)平臺位于清洗槽內(nèi)，輸送裝置的輸出端位于旋轉(zhuǎn)平臺的上方。
[0006]所述清洗槽內(nèi)設(shè)置有對清洗槽內(nèi)的水位進(jìn)行檢測的液位傳感器，液位傳感器與控制輸送裝置工作的控制器連接，所述清洗槽的槽壁設(shè)有排水管，排水管與清洗槽內(nèi)相連通，所述排水管上設(shè)有電磁閥，所述電磁閥與控制器連接。液位傳感器檢測到清洗槽內(nèi)的清洗水達(dá)到設(shè)定的值時，就會向控制器發(fā)送動作信號，控制器控制電磁閥打開，從而將清洗槽內(nèi)的水排出。
[0007]所述輸送裝置包括進(jìn)水端與儲水罐內(nèi)部連通的抽水泵，抽水泵的出水端連接有出水管，其出水管的出水端位于旋轉(zhuǎn)平臺上方。
[0008]所述出水管的出水端連接有噴頭。
[0009]所述旋轉(zhuǎn)平臺上端面周邊設(shè)置有擋邊，防止旋轉(zhuǎn)平臺上的硅片在旋轉(zhuǎn)過程中，從旋轉(zhuǎn)平臺上滑落。
[0010]采用了上述方案，將需要清洗的硅片放置在旋轉(zhuǎn)平臺上，啟動支架上的驅(qū)動電機工作帶動旋轉(zhuǎn)平臺旋轉(zhuǎn)，再有控制器控制抽水泵工作，將儲水罐中的水抽出并輸送到旋轉(zhuǎn)平臺的上方對硅片進(jìn)行清洗。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，不需要頻繁換水，能夠?qū)杵M(jìn)行徹底清洗，同時無需人工操作、提高了清洗效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖中，I為清洗槽,2為儲水罐,3為支架，4為驅(qū)動電機,5為轉(zhuǎn)軸,6為旋轉(zhuǎn)平臺，7為擋邊，8為液位傳感器,9為控制器,10為排水管，11為電磁閥，12為抽水泵，13為出水管，14為嗔頭。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型進(jìn)一步說明。
[0014]參見圖1，一種硅片沖洗裝置，包括清洗槽1、儲水罐2、對儲水罐中的水進(jìn)行輸送的輸送裝置，以及位于清洗槽上方的旋轉(zhuǎn)裝置，旋轉(zhuǎn)裝置包括支架3、固定設(shè)置在支架上的驅(qū)動電機4、固定連接在驅(qū)動電機輸出軸上的轉(zhuǎn)軸5，以及固定連接在轉(zhuǎn)軸下端的旋轉(zhuǎn)平臺6，旋轉(zhuǎn)平臺位于清洗槽I內(nèi)，輸送裝置的輸出端位于旋轉(zhuǎn)平臺6的上方，在旋轉(zhuǎn)平臺上端面周邊設(shè)置有擋邊7。
[0015]其中，清洗槽內(nèi)設(shè)置有對清洗槽內(nèi)的水位進(jìn)行檢測的液位傳感器8，液位傳感器8與控制輸送裝置工作的控制器9連接，清洗槽的槽壁設(shè)有排水管10，排水管與清洗槽內(nèi)相連通，所述排水管上設(shè)有電磁閥11，所述電磁閥11與控制器9連接。
[0016]其中，輸送裝置包括進(jìn)水端與儲水罐2內(nèi)部連通的抽水泵12，抽水泵12的出水端連接有出水管13，其出水管13的出水端位于旋轉(zhuǎn)平臺6上方。出水管的出水端連接有噴頭14。
【權(quán)利要求】
1.一種硅片沖洗裝置，包括清洗槽，其特征在于:還包括儲水罐、對儲水罐中的水進(jìn)行輸送的輸送裝置，以及位于清洗槽上方的旋轉(zhuǎn)裝置，旋轉(zhuǎn)裝置包括支架、固定設(shè)置在支架上的驅(qū)動電機、固定連接在驅(qū)動電機輸出軸上的轉(zhuǎn)軸，以及固定連接在轉(zhuǎn)軸下端的旋轉(zhuǎn)平臺，所述旋轉(zhuǎn)平臺位于清洗槽內(nèi)，輸送裝置的輸出端位于旋轉(zhuǎn)平臺的上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片沖洗裝置，其特征在于:所述清洗槽內(nèi)設(shè)置有對清洗槽內(nèi)的水位進(jìn)行檢測的液位傳感器，液位傳感器與控制輸送裝置工作的控制器連接，所述清洗槽的槽壁設(shè)有排水管，排水管與清洗槽內(nèi)相連通，所述排水管上設(shè)有電磁閥，所述電磁閥與控制器連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片沖洗裝置，其特征在于:所述輸送裝置包括進(jìn)水端與儲水罐內(nèi)部連通的抽水泵，抽水泵的出水端連接有出水管，其出水管的出水端位于旋轉(zhuǎn)平臺上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種硅片沖洗裝置，其特征在于:所述出水管的出水端連接有噴頭。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的一種硅片沖洗裝置，其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)平臺上端面周邊設(shè)置有擋邊。
【文檔編號】B08B3/02GK203426081SQ201320386697
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年6月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月30日
【發(fā)明者】周建國, 夏利榮 申請人:常州市立威刀具有限公司