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用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置制造方法

文檔序號:1445209閱讀:313來源:國知局
用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,包括一操作桿、與所述操作桿相連接的移動件,所述移動件靠近曝光臺的底部具有一凹腔,所述凹腔通過一進(jìn)氣管與一氮?dú)庠椿蚯鍧嵏稍锏目諝庠聪噙B,通過一出氣管與一抽真空裝置相連。本實(shí)用新型采用一吹一吸的基本原理,通過氮?dú)獯盗Π压饪虣C(jī)曝光臺上的雜質(zhì)顆粒吹起,然后通過另一端真空吸走顆粒,不但降低了操作者在狹小空間內(nèi)的操作難度,降低了精密部件的損壞幾率,而且提高了清潔效率,實(shí)現(xiàn)了高效安全的清潔目的。
【專利說明】用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造【技術(shù)領(lǐng)域】,特別屬于一種清潔光刻機(jī)曝光臺的裝置?!颈尘凹夹g(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體器件的各種加工工藝中,光刻(photolithography)是其中一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上。對于光刻機(jī)設(shè)備來說,曝光臺是決定光刻工藝好壞的重要加工位置,如果曝光臺上存在雜質(zhì)或者污垢,那么會直接影響曝光的效果,因此,當(dāng)硅片曝光臺上沾有污垢時,需要對曝光臺及時進(jìn)行清潔。[0003]目前,清潔曝光臺的方式主要有兩種,一種是使用廠家提供的配套清潔工具,該工具呈T字形,包括由軟橡膠制成的清潔頭(T形工具的橫部)和與清潔頭相連的桿部(T形工具的豎部),使用時將清潔頭直接與曝光臺接觸,從而將雜質(zhì)顆粒粘附在軟橡膠上實(shí)現(xiàn)清潔,另一種是人工采用無塵布直接擦拭曝光臺。
[0004]然而,曝光臺通常位于光刻機(jī)的內(nèi)部,操作空間狹小,并且在曝光臺的周圍設(shè)置有較多的精密部件,如果清潔的時候操作不當(dāng),不但不能徹底清潔曝光臺,而且還可能損壞其它部件或者傷害操作人員。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,便于操作,不但可以有效地清潔曝光臺,而且不會損壞曝光臺周圍的精密部件。
[0006]為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型的用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,包括一操作桿、與所述操作桿相連接的移動件,所述移動件靠近曝光臺的底部具有一凹腔,所述凹腔通過一進(jìn)氣管與一氮?dú)庠椿蚯鍧嵏稍锏目諝庠聪噙B,通過一出氣管與一抽真空裝置相連。
[0007]其中,所述移動件具有一進(jìn)氣孔和一出氣孔,所述進(jìn)氣孔的一端與凹腔相連通,另一端與進(jìn)氣管相連,所述出氣孔的一端與凹腔相連通,另一端與出氣管相連。
[0008]優(yōu)選的,所述移動件的頂部具有一環(huán)扣,所述操作桿的端部連接在環(huán)扣上。
[0009]進(jìn)一步地,所述進(jìn)氣管的材質(zhì)是特氟龍。所述移動件由陶瓷材質(zhì)制成。
[0010]本實(shí)用新型采用一吹一吸的基本原理,通過氮?dú)獯盗Π压饪虣C(jī)曝光臺上的雜質(zhì)顆粒吹起,然后通過另一端真空吸走顆粒,不但降低了操作者在狹小空間內(nèi)的操作難度,降低了精密部件的損壞幾率,而且提高了清潔效率,實(shí)現(xiàn)了高效安全的清潔目的。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0012]圖2是本實(shí)用新型的原理示意圖.[0013]其中附圖標(biāo)記說明如下:
[0014]I為操作桿;2為移動件;3為進(jìn)氣管;4為出氣管;5為環(huán)扣;6為凹腔;7為進(jìn)氣孔;8為出氣孔;9為曝光臺。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖與【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0016]本實(shí)用新型提供的用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,如圖1所示,包括一操作桿1、與所述操作桿I相連接的移動件2,如圖2所示,移動件2靠近曝光臺9的底部具有一凹腔6,所述凹腔6通過一進(jìn)氣管3與一氮?dú)庠椿蛘咔鍧嵏稍锏目諝庠?圖中未示出)相連,通過一出氣管與一抽真空裝置(圖中未示出)相連。
[0017]其中,移動件2具有一進(jìn)氣孔7和一出氣孔8,所述進(jìn)氣孔7的一端與凹腔6相連通,另一端與進(jìn)氣管3相連,所述出氣孔8的一端與凹腔6相連通,另一端與出氣管4相連。
[0018]如圖1所示,移動件2的頂部具有一環(huán)扣5,操作桿I的端部連接在環(huán)扣5上。
[0019]進(jìn)一步地,進(jìn)氣管3的材質(zhì)是特氟龍,移動件2由陶瓷材質(zhì)制成。
[0020]利用該裝置對曝光臺進(jìn)行清潔時,操作者利用操作桿I使與操作桿I相連的移動件2在曝光臺9上來回移動,如圖2所示,通過氮?dú)獯盗Π压饪虣C(jī)曝光臺上的雜質(zhì)顆粒吹起,然后再通過另一側(cè)的抽真空裝置將雜質(zhì)顆粒吸走,清潔完成后斷開氮?dú)庠春统檎婵昭b置即可。
[0021]本實(shí)用新型采用一吹一吸的基本原理,不但降低了操作者在狹小空間內(nèi)的操作難度,降低了精密部件的損壞幾率,而且提高了清潔效率,實(shí)現(xiàn)了高效安全的清潔目的。
[0022]以上通過具體實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明,但這些并非構(gòu)成對本實(shí)用新型的限制。在不脫離本實(shí)用新型原理的情況下,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可對本實(shí)用新型的移動件形狀、凹腔的形狀和尺寸、進(jìn)氣孔和出氣孔的位置形狀、進(jìn)氣源等做出許多變形和改進(jìn),這些也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,其特征在于:包括一操作桿、與所述操作桿相連接的移動件,所述移動件靠近曝光臺的底部具有一凹腔,所述凹腔通過一進(jìn)氣管與一氮?dú)庠椿蚯鍧嵏稍锏目諝庠聪噙B,通過一出氣管與一抽真空裝置相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,其特征在于:所述移動件具有一進(jìn)氣孔和一出氣孔,所述進(jìn)氣孔的一端與凹腔相連通,另一端與進(jìn)氣管相連,所述出氣孔的一端與凹腔相連通,另一端與出氣管相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,其特征在于:所述移動件的頂部具有一環(huán)扣,所述操作桿的端部連接在環(huán)扣上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,其特征在于:所述進(jìn)氣管的材質(zhì)是特氟龍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于光刻機(jī)曝光臺的清潔裝置,其特征在于:所述移動件由陶瓷材質(zhì)制成。
【文檔編號】B08B15/04GK203606624SQ201320729766
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年11月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月18日
【發(fā)明者】潘敏煒, 陳群琦 申請人:上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司
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