一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，包括內(nèi)部裝有硅片清洗用水的水槽、對(duì)水槽內(nèi)水溫進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)的溫度檢測(cè)單元和對(duì)水槽內(nèi)所裝水進(jìn)行加熱的外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)；外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)包括加熱柜，加熱柜與水槽之間通過水循環(huán)管道進(jìn)行連通，水循環(huán)管道上安裝有循環(huán)泵，加熱柜包括柜體和布設(shè)在柜體內(nèi)的電加熱器；溫度檢測(cè)單元與信號(hào)采集電路相接，信號(hào)采集電路與溫控器相接，電加熱器由溫控器進(jìn)行控制；柜體上部裝有與電加熱器內(nèi)部相通的排氣管。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、占地面積小且使用操作簡(jiǎn)便、使用效果好，能有效保證切割后硅片的清洗水溫，避免因清洗前后溫差大導(dǎo)致的裂片問題，提高硅片的成品率。
【專利說明】一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種清洗水槽，尤其是涉及一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽。
【背景技術(shù)】
[0002]光伏發(fā)電是當(dāng)前最重要的清潔能源之一，具有極大的發(fā)展?jié)摿?。制約光伏行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵因素，一方面是光電轉(zhuǎn)化效率低，另一方面是成本偏高。目前，應(yīng)用最廣泛的太陽能電池材料為晶體娃材料，包括單晶娃材料和多晶娃材料。其中，單晶娃材料具有低缺陷高轉(zhuǎn)換效率的特點(diǎn)，通過堿制絨可形成金字塔型的結(jié)構(gòu)，提高對(duì)光的吸收，從而提高轉(zhuǎn)化效率。但同時(shí)，單晶硅拉制產(chǎn)量低、成品率低，導(dǎo)致生產(chǎn)成本高。多晶硅材料主要通過定向凝固的方法制成，其生產(chǎn)成本較低，占領(lǐng)了絕大部分市場(chǎng)份額。而多晶硅鑄錠由于生產(chǎn)成本較低、產(chǎn)量大，因而成為晶體硅太陽能電池的主流材料。
[0003]硅片表面的潔凈度是影響硅片合格率和電池轉(zhuǎn)換效率的關(guān)鍵因素。為獲得潔凈度高的硅片，往往多晶硅硅片在經(jīng)過線切割后需經(jīng)過脫膠清洗和精細(xì)清洗兩個(gè)部分，而作為第一道清洗工序的脫膠清洗雖然沒有切割工藝要求那么高，但也是獲得潔凈片的重要工序?，F(xiàn)如今，對(duì)硅片進(jìn)行脫膠清洗時(shí)，采用清洗水槽內(nèi)所存水進(jìn)行沖洗。但由于全年水溫差異較大，到冬季時(shí)，水溫低于15°C，并且硅片線切割后進(jìn)行脫膠時(shí)，因硅棒切割過程中產(chǎn)生熱量，當(dāng)水溫較低時(shí)會(huì)出現(xiàn)因硅片脫膠清洗前后溫差大導(dǎo)致會(huì)產(chǎn)生大量裂片的現(xiàn)象。因而，現(xiàn)如今缺少一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、占地面積小且使用操作簡(jiǎn)便、使用效果好的基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，能有效保證切割后硅片的清洗水溫，避免因清洗前后溫差大導(dǎo)致的裂片問題，提高硅片的成品率。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、占地面積小且使用操作簡(jiǎn)便、使用效果好，能有效保證切割后硅片的清洗水溫，避免因清洗前后溫差大導(dǎo)致的裂片問題。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:包括內(nèi)部裝有硅片清洗用水的水槽、對(duì)水槽內(nèi)水溫進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)的溫度檢測(cè)單元和對(duì)水槽內(nèi)所裝水進(jìn)行加熱的外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)；所述外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)包括加熱柜，所述加熱柜與水槽之間通過水循環(huán)管道進(jìn)行連通，所述水循環(huán)管道上安裝有循環(huán)泵，所述加熱柜包括柜體和布設(shè)在所述柜體內(nèi)的電加熱器，所述柜體的內(nèi)側(cè)壁上均鋪裝有一層保溫層；所述水循環(huán)管道包括進(jìn)水管和出水管，所述進(jìn)水管的一端伸入至水槽內(nèi)且其另一端與所述柜體上所開的進(jìn)水口相接，所述出水管的一端伸入至水槽內(nèi)且其另一端與所述柜體上所開的出水口相接，所述進(jìn)水管和出水管均與電加熱器內(nèi)部相通；所述溫度檢測(cè)單元與信號(hào)采集電路相接，所述信號(hào)采集電路與溫控器相接，所述電加熱器和循環(huán)泵均由溫控器進(jìn)行控制且二者均與溫控器相接；所述柜體上部裝有排氣管，所述排氣管與電加熱器內(nèi)部相通。
[0006]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:所述進(jìn)水口位于所述柜體下部，且所述出水口位于所述柜體上部。
[0007]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:所述電加熱器的供電回路中串接有電控開關(guān)，所述電控開關(guān)由溫控器進(jìn)行控制且其與溫控器相接。
[0008]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:所述電加熱器的數(shù)量為一個(gè)或多個(gè)。
[0009]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:所述進(jìn)水管上安裝有截止閥。
[0010]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:所述溫度檢測(cè)單元為溫度探測(cè)器且其安裝在進(jìn)水管上。
[0011]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:所述循環(huán)泵安裝在進(jìn)水管上。
[0012]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:還包括與溫控器相接的控制面板。
[0013]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:所述控制面板上設(shè)置有與溫控器相接的參數(shù)設(shè)置單元和顯示單元，所述控制面板布設(shè)在所述柜體的前側(cè)壁上。
[0014]上述一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征是:所述進(jìn)水口位于所述柜體的左側(cè)壁`下部，且所述出水口位于所述柜體的右側(cè)壁上部。
[0015]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0016]1、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理且投入成本較低，無需對(duì)現(xiàn)有水槽的結(jié)構(gòu)進(jìn)行調(diào)整，只需增設(shè)一套外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)即可。
[0017]2、結(jié)構(gòu)緊湊、占地空間小且運(yùn)行及維護(hù)費(fèi)用低。
[0018]3、使用操作簡(jiǎn)便且使用效果好，能實(shí)現(xiàn)對(duì)硅片清洗用水的水溫進(jìn)行自動(dòng)調(diào)控的目的，當(dāng)水溫達(dá)到預(yù)先設(shè)定要求后可自動(dòng)斷電，節(jié)省能源，并且能有效保證切割后硅片的清洗水溫，避免因清洗前后溫差大導(dǎo)致的裂片問題，提高硅片的成品率。
[0019]4、使用價(jià)值高且推廣應(yīng)用前景廣泛。
[0020]綜上所述，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、占地面積小且使用操作簡(jiǎn)便、使用效果好，能有效保證切割后硅片的清洗水溫，避免因清洗前后溫差大導(dǎo)致的裂片問題，提高硅片的成品率。
[0021]下面通過附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖2為本實(shí)用新型的電路原理框圖。
[0024]附圖標(biāo)記說明:
[0025]I一水槽；2—加熱柜；3—循環(huán)泵；[0026]4一溫度檢測(cè)單兀；5 —電加熱器；6—保溫層；
[0027]7—進(jìn)水管；8—出水管；9一信號(hào)采集電路；
[0028]10—溫控器；11 一排氣管；12—電控開關(guān)；
[0029]13一截止閥；14一控制面板；15—參數(shù)設(shè)置單兀；
[0030]16—顯示單元。
【具體實(shí)施方式】
[0031]如圖1、圖2所示，本實(shí)用新型包括內(nèi)部裝有硅片清洗用水的水槽1、對(duì)水槽I內(nèi)水溫進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)的溫度檢測(cè)單元4和對(duì)水槽I內(nèi)所裝水進(jìn)行加熱的外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)。所述外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)包括加熱柜2，所述加熱柜2與水槽I之間通過水循環(huán)管道進(jìn)行連通，所述水循環(huán)管道上安裝有循環(huán)泵3，所述加熱柜2包括柜體和布設(shè)在所述柜體內(nèi)的電加熱器5，所述柜體的內(nèi)側(cè)壁上均鋪裝有一層保溫層6。所述水循環(huán)管道包括進(jìn)水管7和出水管8，所述進(jìn)水管7的一端伸入至水槽I內(nèi)且其另一端與所述柜體上所開的進(jìn)水口相接，所述出水管8的一端伸入至水槽I內(nèi)且其另一端與所述柜體上所開的出水口相接，所述進(jìn)水管7和出水管8均與電加熱器5內(nèi)部相通。所述溫度檢測(cè)單元4與信號(hào)采集電路9相接，所述信號(hào)采集電路9與溫控器10相接，所述電加熱器5和循環(huán)泵3均由溫控器10進(jìn)行控制且二者均與溫控器10相接。所述柜體上部裝有排氣管11，所述排氣管11與電加熱器5內(nèi)部相通。
[0032]本實(shí)施例中，所述進(jìn)水口位于所述柜體下部，且所述出水口位于所述柜體上部。
[0033]實(shí)際使用時(shí)，可以根據(jù)具體需要，對(duì)所述進(jìn)水口和所述出水口的布設(shè)位置進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整。本實(shí)施例中，所述進(jìn)水口位于所述柜體的左側(cè)壁下部，且所述出水口位于所述柜體的右側(cè)壁上部。
[0034]本實(shí)施例中，所述電加熱器5的供電回路中串接有電控開關(guān)12，所述電控開關(guān)12由溫控器10進(jìn)行控制且其與溫控器10相接。
[0035]實(shí)際使用時(shí)，所述電加熱器5的數(shù)量為一個(gè)或多個(gè)。本實(shí)施例中，所述電加熱器5的數(shù)量為一個(gè)。
[0036]本實(shí)施例中，所述進(jìn)水管7上安裝有截止閥13。實(shí)際使用時(shí)，所述截止閥13為由溫控器10進(jìn)行控制的電磁閥。
[0037]本實(shí)施例中，所述溫度檢測(cè)單元4為溫度探測(cè)器且其安裝在進(jìn)水管7上。
[0038]實(shí)際安裝時(shí)，所述循環(huán)泵3安裝在進(jìn)水管7上。
[0039]同時(shí)，本實(shí)用新型還包括與溫控器10相接的控制面板14。本實(shí)施例中，所述控制面板14上設(shè)置有與溫控器10相接的參數(shù)設(shè)置單元15和顯示單元16，所述控制面板14布設(shè)在所述柜體的前側(cè)壁上。
[0040]以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何限制，凡是根據(jù)本實(shí)用新型技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、變更以及等效結(jié)構(gòu)變化，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:包括內(nèi)部裝有硅片清洗用水的水槽(I)、對(duì)水槽(I)內(nèi)水溫進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)的溫度檢測(cè)單元(4)和對(duì)水槽(O內(nèi)所裝水進(jìn)行加熱的外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)；所述外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)包括加熱柜(2)，所述加熱柜(2)與水槽(I)之間通過水循環(huán)管道進(jìn)行連通，所述水循環(huán)管道上安裝有循環(huán)泵(3)，所述加熱柜(2)包括柜體和布設(shè)在所述柜體內(nèi)的電加熱器(5)，所述柜體的內(nèi)側(cè)壁上均鋪裝有一層保溫層(6 );所述水循環(huán)管道包括進(jìn)水管(7 )和出水管(8 )，所述進(jìn)水管(7 )的一端伸入至水槽(I)內(nèi)且其另一端與所述柜體上所開的進(jìn)水口相接，所述出水管(8)的一端伸入至水槽(I)內(nèi)且其另一端與所述柜體上所開的出水口相接，所述進(jìn)水管(7)和出水管(8)均與電加熱器(5)內(nèi)部相通；所述溫度檢測(cè)單元(4)與信號(hào)采集電路(9)相接，所述信號(hào)采集電路(9 )與溫控器(10 )相接，所述電加熱器(5 )和循環(huán)泵(3 )均由溫控器(10 )進(jìn)行控制且二者均與溫控器(10 )相接；所述柜體上部裝有排氣管(11)，所述排氣管(11)與電加熱器(5)內(nèi)部相通。
2.按照權(quán)利要求1所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:所述進(jìn)水口位于所述柜體下部，且所述出水口位于所述柜體上部。
3.按照權(quán)利要求1或2所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:所述電加熱器(5)的供電回路中串接有電控開關(guān)(12)，所述電控開關(guān)(12)由溫控器(10)進(jìn)行控制且其與溫控器(10)相接。
4.按照權(quán)利要求1或2所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:所述電加熱器(5)的數(shù)量為一個(gè)或多個(gè)。
5.按照權(quán)利要求1或2所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:所述進(jìn)水管(7)上安裝有截止閥(13)。
6.按照權(quán)利要求1或2所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:所述溫度檢測(cè)單元(4)為溫度探測(cè)器且其安裝在進(jìn)水管(7)上。
7.按照權(quán)利要求1或2所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:所述循環(huán)泵(3)安裝在進(jìn)水管(7)上。
8.按照權(quán)利要求1或2所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:還包括與溫控器(10)相接的控制面板(14)。
9.按照權(quán)利要求8所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:所述控制面板(14)上設(shè)置有與溫控器(10)相接的參數(shù)設(shè)置單元(15)和顯示單元(16)，所述控制面板(14)布設(shè)在所述柜體的前側(cè)壁上。
10.按照權(quán)利要求2所述的一種基于外循環(huán)式水加熱系統(tǒng)的多晶硅脫膠清洗水槽，其特征在于:所述進(jìn)水口位于所述柜體的左側(cè)壁下部，且所述出水口位于所述柜體的右側(cè)壁上部。
【文檔編號(hào)】B08B3/10GK203648908SQ201320892655
【公開日】2014年6月18日 申請(qǐng)日期:2013年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月31日
【發(fā)明者】常成新, 楊國(guó)農(nóng), 張道曼 申請(qǐng)人:西安華晶電子技術(shù)股份有限公司