硅片清洗劑及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種硅片清洗劑及其制備方法，該硅片清洗劑由下述濃度的組分配制而成：0.5～10g/L檸檬酸、0.5～5g/L酒石酸、0.5～5mL/L的氫氟酸、0.5～15g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、0.5～15g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。其制備方法是：①先按照配方將檸檬酸和酒石酸加入到水中溶解，得到A溶液；②然后按照配方將氫氟酸加入到水中溶解，得到B溶液；③接著按照配方將椰子油烷基醇酰胺磷酸酯和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚加入到水中溶解，得到C溶液；④最后將上述三種溶液混合均勻，即得硅片清洗劑。本發(fā)明的硅片清洗劑可有效降低清洗后的硅片表面金屬離子濃度，從而有效提高電池轉(zhuǎn)換效率。
【專利說明】硅片清洗劑及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種硅片清洗劑及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在光伏和半導體硅片生產(chǎn)過程中，往往有一些雜質(zhì)附著在硅片表面，因此，需要對硅片進行清洗，才能生產(chǎn)出合格產(chǎn)品。
[0003]現(xiàn)有的硅片清洗劑存在的不足在于:清洗后的硅片表面金屬離子濃度偏高，從而嚴重影響后期硅片植絨工藝。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的之一在于克服上述不足，提供一種可有效降低清洗后的硅片表面金屬離子濃度的硅片清洗劑。
[0005]本發(fā)明的另一目的在于提供上述硅片清洗劑的制備方法。
[0006]實現(xiàn)本發(fā)明目的之一的技術(shù)方案是:一種硅片清洗劑，它是由下述濃度的組分配制而成:0.5~10g/L檸檬酸、0.5~5g/L酒石酸、0.5~5mL/L的氫氟酸、0.5~15g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、0.5~15g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
[0007]優(yōu)選由下述濃度的組分配制而成:1~5g/L檸檬酸、I~3g/L酒石酸、I~3mL/L的氫氟酸、I~8g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、I~8g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
[0008]更優(yōu)選由下述濃度的組分配制而成:2.5~3.5g/L檸檬酸、1.5~2.5g/L酒石酸、
1.5~2.5mL/L的氫氟酸、3.5~4.5g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、3.5~4.5g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
[0009]最優(yōu)選由下述濃度的組分配制而成:3g/L檸檬酸、2g/L酒石酸、2mL/L的氫氟酸、4g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、4g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
[0010]實現(xiàn)本發(fā)明另一目的的技術(shù)方案是:一種硅片清洗劑的制備方法，具有以下步驟:①先按照配方將檸檬酸和酒石酸加入到水中溶解，得到A溶液；②然后按照配方將氫氟酸加入到水中溶解，得到B溶液接著按照配方將椰子油烷基醇酰胺磷酸酯和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚加入到水中溶解，得到C溶液；④最后將上述三種溶液混合均勻，即得硅片清洗劑。
[0011]本發(fā)明具有積極的效果:本發(fā)明通過大量試驗最終發(fā)現(xiàn)在含有檸檬酸的硅片清洗劑中加入酒石酸可有效降低清洗后的硅片表面金屬離子濃度，其中鐵離子濃度可降至50ppm以下,銅離子濃 度可降至60ppm以下,招離子濃度可降至30ppm以下,從而有效提高電池轉(zhuǎn)換效率。
【具體實施方式】
[0012](實施例1)本實施例的硅片清洗劑由下述濃度的組分配制而成:3g/L檸檬酸、2g/L酒石酸、2mL/L的氫氟酸、4g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、4g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
[0013]該硅片清洗劑的制備方法具有以下步驟:
①將3g檸檬酸和2g酒石酸加入到IOOmL的去離子水中，攪拌使其全部溶解，得到A溶液。
[0014]②將2mL的氫氟酸加入到IOOmL去離子水中，攪拌均勻，得到B溶液。
[0015]③將4g的椰子油烷基醇酰胺磷酸酯(6503)和4g的辛烷基苯酚聚氧乙烯醚(TX-10)加入到300mL的去離子水中，攪拌使其全部溶解，得到C溶液。
[0016]④將上述三種溶液混合，并加去離子水補足1L，攪拌均勻即得硅片清洗劑。
[0017](應用例I)
取IOmL實施例1制得的硅片清洗劑加入到容量為200mL的清洗槽內(nèi)，然后加入190mL的去離子水，混合均勻后，將硅片加入到清洗槽內(nèi)，輔以超聲清洗5min，清洗溫度為50°C。
[0018]清洗完后，測定硅片表面鐵離子、銅離子以及鋁離子濃度，分別為80ppm、45ppm以及 20ppm。
[0019](實施例2~實施例13)
各實施例的硅片清洗劑與實施例1基本相同，不同之處在于各組分濃度，具體見表1。
[0020]表1
【權(quán)利要求】
1.一種硅片清洗劑，其特征在于由下述濃度的組分配制而成:0.5~10g/L檸檬酸、0.5~5g/L酒石酸、0.5~5mL/L的氫氟酸、0.5~15g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、0.5~15g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗劑，其特征在于由下述濃度的組分配制而成:1~5g/L檸檬酸、I~3g/L酒石酸、I~3mL/L的氫氟酸、I~8g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、I~8g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗劑，其特征在于由下述濃度的組分配制而成:2.5~3.5g/L檸檬酸、1.5~2.5g/L酒石酸、1.5~2.5mL/L的氫氟酸、3.5~4.5g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、3.5~4.5g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的硅片清洗劑，其特征在于由下述濃度的組分配制而成:3g/L檸檬酸、2g/L酒石酸、2mL/L的氫氟酸、4g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、4g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚，其余為水。
5.權(quán)利要求1至4之一所述的硅片清洗劑的制備方法，其特征在于具有以下步驟: ①先按照配方將檸檬酸和酒石酸加入到水中溶解，得到A溶液； ②然后按照配方將氫氟 酸加入到水中溶解，得到B溶液； ③接著按照配方將椰子油烷基醇酰胺磷酸酯和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚加入到水中溶解，得到C溶液； ④最后將上述三種溶液混合均勻，即得硅片清洗劑。
【文檔編號】C11D1/94GK103923763SQ201410149699
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年4月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月15日
【發(fā)明者】蔣英, 吳偉峰 申請人:常州君合科技有限公司