洗凈液組成物及清洗基板的方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及洗凈液組成物及清洗基板的方法。一種洗凈液組成物，包含堿性化合物(A)、非離子型表面活性劑(B)、式(III)所示的消泡劑(C)及水(D)，該非離子型表面活性劑選自于式(I)、式(II)或上述的組合。式(I)及式(II)中，EO表示乙氧基，AO表示PO、BO或上述的組合，PO為丙氧基，BO為丁氧基，m、n、p及q分別表示平均加成摩爾數(shù)，m及p各自表示3至100，n表示0至(0.2×m)，q表示0至(0.2×p)，x1、x2、y1、y2及y3各自獨(dú)立地表示1或2。式(III)中，r表示1或2，R表示式(IV)所示的官能團(tuán)，且式(IV)中，s表示3至7。該洗凈液組成物特別適用于清洗玻璃基板，且具有洗凈力佳及消泡性佳的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】洗凈液組成物及清洗基板的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種洗凈液組成物及清洗基板的方法，特別涉及一種用于清洗玻璃基 板的洗凈液組成物及清洗基板的方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前彩色液晶顯示器的制程是先將較大尺寸的玻璃基板（材質(zhì)例如：鈉鈣玻璃、 硼硅玻璃、硅玻璃、無堿玻璃等）切割成所需尺寸的小尺寸玻璃基板后，再于小尺寸玻璃基 板上進(jìn)行后續(xù)的制程。然而，切割時所產(chǎn)生的玻璃切削粉（glass cullet)常附著于玻璃基 板上，而對后續(xù)的研磨制程、膜處理制程等精密的制程造成不良的影響。
[0003] 除了玻璃切割時所產(chǎn)生的問題外，在彩色液晶顯示器中的彩色濾光片制造過程 中，通過先將感光性樹脂以光刻制程（photolithography)于小尺寸的玻璃基板上形成黑 色矩陣，再于玻璃基板上形成紅、綠、藍(lán)的彩色光致抗蝕劑。然而，上述制程中，飛散的微粒 或感光性樹脂的殘?jiān)葧街诨迳?，不但降低彩色濾光片的良率，且當(dāng)彩色濾光片與 薄膜晶體管陣列基板（TFT array substrate)貼合時，甚至有可能會造成共同短路（common short)的情形。
[0004] 因此，為避免上述在彩色液晶顯示器制程中產(chǎn)生的污染源附著于玻璃基板上，進(jìn) 而影響彩色液晶顯示器的元件性能，所以現(xiàn)有彩色液晶顯示器的制程中皆會導(dǎo)入清洗玻璃 基板的程序，以清洗附著于玻璃基板上的污染源。
[0005] 為有效清除上述附著于玻璃基板上的污染源，目前業(yè)界克服的方式之一，是采用 特定的洗凈液組成物清洗玻璃基板。日本專利申請?zhí)亻_2009-084565揭示一種堿性的洗凈 液組成物，包含：堿劑、非離子型表面活性劑、水，及選自于苯磺酸鹽、甲苯磺酸鹽、二甲基苯 磺酸鹽、羥基苯磺酸鹽的化合物。該日本專利申請中使用的非離子型表面活性劑如下式所 示：
[0006] R1-O- (EO)m(PO)n-H (a)
[0007] 式（a)中，R1表示C8至C18的烷基、C 8至C18的烯基、C8至C18的?；?、C14至C 18的 烷基苯基；EO表示乙氧基，PO丙氧基，EO與PO是隨機(jī)或嵌段排列；m及n分別表示平均加 成摩爾數(shù)，m表示1至20, n表示0至20。
[0008] 該日本專利申請的洗凈液組成物訴求在較高的溫度下具有好的貯存穩(wěn)定性，然 而，該洗凈液組成物因濕潤性不佳，所以用于清洗玻璃基板時洗凈力不佳，且因選擇性添加 的硅系消泡劑的溶解度較差，所以也有消泡性不佳的問題。
[0009] 近年來，對于彩色液晶顯示器的高度信賴性需求，以及彩色濾光片的高精度化發(fā) 展，所以對玻璃基板清凈化的要求變得愈來愈高。有鑒于此，針對改良洗凈液組成物，以克 服現(xiàn)有的洗凈液組成物洗凈力不佳及消泡性不佳的缺點(diǎn)，是此【技術(shù)領(lǐng)域】相關(guān)技術(shù)人員可再 突破的課題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 本發(fā)明的第一目的在于提供一種洗凈液組成物。該洗凈液組成物具有洗凈力佳及 消泡性佳的優(yōu)點(diǎn)。
[0011] 本發(fā)明洗凈液組成物，包含：
[0012] 堿性化合物（A);
[0013] 非離子型表面活性劑（B)，選自于式（I)所示的非離子型表面活性劑、式（II)所示 的非離子型表面活性劑，或它們的組合：

【權(quán)利要求】
1. 一種洗凈液組成物，其特征在于其包含： 堿性化合物（A); 非離子型表面活性劑（B)，選自于式（I)所示的非離子型表面活性劑、式（II)所示的非 離子型表面活性劑，或上述的組合：
式⑴及式⑵中，E0表示乙氧基，A0表示PO、B0或上述的組合，該P(yáng)0為丙氧基，該 B0為丁氧基，m、η、p及q分別表示平均加成摩爾數(shù)，m及p各自獨(dú)立地表示3至100, η表 示0至（0. 2Xm), q表示0至（0. 2Xp)，xl、x2、yl、y2及y3各自獨(dú)立地表示1或2 ; 消泡劑（C)，由下式（III)所示：
式（III)中，r表示1或2, R表示式（IV)所示的官能團(tuán)，
式（IV)中，S表示3至7 ;及 水⑶。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的洗凈液組成物，其特征在于，該式⑴及式（II)中，該E0與 該A0為嵌段排列或隨機(jī)排列。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的洗凈液組成物，其特征在于，該式⑴及式（II)中，該八0為 P0與B0的組合，且P0與B0為嵌段排列或隨機(jī)排列。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的洗凈液組成物，其特征在于，基于該堿性化合物（A)為100重 量份，該非離子型表面活性劑（B)的使用量范圍為10至100重量份，該消泡劑（C)的使用 量范圍為1至15重量份，該水（D)的使用量范圍為200至2000重量份。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的洗凈液組成物，其特征在于，該非離子型表面活性劑（B)與該 消泡劑（C)的用量比例（B/C)范圍為3至25。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的洗凈液組成物，其特征在于，所述洗凈液組成物還包含水溶 性樹脂（E)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的洗凈液組成物，其特征在于，基于該堿性化合物（A)的總量為 100重量份，該水溶性樹脂（E)的使用量范圍為1至15重量份。
8. -種清洗基板的方法，其特征在于其包含： 使用權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的洗凈液組成物清洗基板。
【文檔編號】C11D1/825GK104293497SQ201410314919
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年7月3日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月17日
【發(fā)明者】謝岦庭 申請人:奇美實(shí)業(yè)股份有限公司