一種小電流高壓硅堆清洗工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種小電流高壓硅堆清洗工藝，步驟為：首先，利用機械臂將高壓硅堆放入混酸溶液中清洗，將經(jīng)過混酸清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗；然后，再利用機械臂將高壓硅堆放入稀HNO溶液中進行清洗，將經(jīng)過稀HNO清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗；最后，利用機械臂將高壓硅堆放入稀HF中清洗，將經(jīng)過稀HF清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗；同時，在清洗的過程中，機械臂自動擺動，最后，將高壓硅堆放入甩干機中進行脫水處理，脫水的時間t4=180s，完成清洗。本發(fā)明的優(yōu)點在于：利用本工藝對焊接后的小電流高壓硅堆進行清溝，可以很好的去除附著在高壓硅堆表面的焊油、水汽等雜質，相應的增加其耐久性及可靠性。
【專利說明】一種小電流高壓硅堆清洗工藝

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種小電流高壓硅堆清洗工藝。

【背景技術】
[0002] 高壓硅堆由多只高壓整流二極管(硅粒）串聯(lián)組成，是高壓整流中將交流變成直 流必不可少的原件。由于高壓整流是以陰極射線掃描的方式呈現(xiàn)圖像的屏幕(包括老式電 視機，電腦屏幕）中必不可少的部分。有很多廠家生產(chǎn)高壓硅堆。電壓從1KV~1000KV;電 流從1mA?100Α不等。
[0003] 目前，在行業(yè)生產(chǎn)中，對于電流在350mA以下的高壓硅堆稱為下電流高壓硅堆。對 于小電流高壓硅堆在生產(chǎn)的過程中，會有一道焊接工序，而在焊接工序后，在小電流高壓硅 堆表面長會附著有焊油、灰塵、水汽等雜質，如果直接將這樣的高壓硅堆作為成品使用，會 對其耐久性、可靠性等性能造成影響，因此研究出一種小電流高壓硅堆清洗工藝以去除其 表面的雜質勢在必行。


【發(fā)明內容】

[0004] 本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種能夠很好的將高壓硅堆表面的雜質清洗的 小電流高壓硅堆清洗工藝。
[0005] 為解決上述技術問題，本發(fā)明的技術方案為：一種小電流高壓硅堆清洗工藝，其創(chuàng) 新點在于：所述步驟為： a) 首先，利用機械臂將高壓硅堆放入混酸溶液中清洗，清洗的時間1^=2228±58,混酸 溶液的溫度T=10°C ±2°C，同時，在清洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆能夠 充分與混酸溶液接觸； b) 將經(jīng)過混酸清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程中，機械臂自動 擺動，以除去高壓硅堆表面的混酸溶液； c) 然后，再利用機械臂將高壓硅堆放入稀ΗΝ0溶液中進行清洗，清洗的時間 t2=22s± 1S，同時，在清洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆能夠充分與稀ΗΝ0溶 液接觸； d) 將經(jīng)過稀ΗΝ0清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程中，機械臂自 動擺動，以除去高壓硅堆表面的稀ΗΝ0溶液； e) 最后，利用機械臂將高壓硅堆放入稀HF中清洗，清洗的時間t3=22s±ls，同時，在清 洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆能夠充分與稀HF溶液接觸； f) 將經(jīng)過稀HF清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程中，機械臂自 動擺動，以除去高壓硅堆表面的稀HF溶液； g) 最后，將高壓硅堆放入甩千機中進行脫水處理，脫水的時間t4=180s，完成清洗。 [0006] 進一步的，所述步驟b中的溢水清洗一共有兩道清洗工序，分別為一級溢水 清洗及二級溢水清洗，其中一級溢水清洗的時間t5=30s土ls，二級溢水清洗的時間 t6=250s 土 5s。
[0007]進一步的，所述步驟d中的溢水清洗為一道清洗工序，清洗的時間t7=120s±5s。 [000S]進一步的，所述步驟f中的溢水清洗一共有兩道清洗工序，分別為一級溢水 清洗及二級溢水清洗，其中一級溢水清洗的時間t 8=30s±ls，二級溢水清洗的時間 t9=250s 土 5s。
[0009]本發(fā)明的優(yōu)點在于：利用本工藝對焊接后的小電流高壓硅堆進行清溝，可以很好 的去除附著在高壓硅堆表面的焊油、水汽等雜質，相應的增加其耐久性及可靠性。

【具體實施方式】
[0010] 本發(fā)明的小電流高壓硅堆清洗工藝主要包括以下幾個步驟： 第一步，首先，利用機械臂將高壓硅堆放入混酸溶液中清洗，清洗的時間1^=2228±58, 混酸溶液的溫度T=1(TC ±2°C，同時，在清洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆 能夠充分與混酸溶液接觸。
[0011] 第二步，將經(jīng)過混酸清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程中， 機械臂自動擺動，以除去高壓硅堆表面的混酸溶液。
[0012] 本步驟中的，溢水清洗一共有兩道清洗工序，分別為一級溢水清洗及二級溢水清 洗，其中一級溢水清洗的時間t5=30s±ls，二級溢水清洗的時間t6=250s±5s。
[0013] 第三步，然后，再利用機械臂將高壓硅堆放入稀ΗΝ0溶液中進行清洗，清洗的時間 t2=22s±ls，同時，在清洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆能夠充分與稀hno溶 液接觸。
[0014] 第四步，將經(jīng)過稀ΗΝ0清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程 中，機械臂自動擺動，以除去高壓硅堆表面的稀ΗΝ0溶液。
[0015] 本步驟中的，溢水清洗為一道清洗工序，清洗的時間t7=120s±5s。
[0016] 第五步，最后，利用機械臂將高壓硅堆放入稀HF中清洗，清洗的時間t3=22s± Is, 同時，在清洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆能夠充分與稀HF溶液接觸。
[0017] 第六步，將經(jīng)過稀HF清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程中， 機械臂自動擺動，以除去高壓硅堆表面的稀HF溶液。
[0018] 本步驟中的溢水清洗一共有兩道清洗工序，分別為一級溢水清洗及二級溢水清 洗，其中一級溢水清洗的時間t8=30s±ls,二級溢水清洗的時間t9=250s±5s。
[0019] 第七步，最后，將高壓硅堆放入甩干機中進行脫水處理，脫水的時間t4=180s，完成 清洗。
[0020] 表1為利用本發(fā)明的小電流高壓硅堆清洗工藝對高壓硅堆進行清洗后進行測試 的數(shù)據(jù)表。測試環(huán)境是在溫度在25土5°C，相對濕度彡60%條件下，放置2小時以上 24小時 以內后按電性測試條件進行測試。

【權利要求】
1. 一種小電流高壓硅堆清洗工藝，其特征在于：所述步驟為： a) 首先，利用機械臂將高壓硅堆放入混酸溶液中清洗，清洗的時間teZZZsiSs，混酸 溶液的溫度T=10°C ±2°C，同時，在清洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆能夠 充分與混酸溶液接觸； b) 將經(jīng)過混酸清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程中，機械臂自動 擺動，以除去高壓硅堆表面的混酸溶液； c) 然后，再利用機械臂將高壓硅堆放入稀HNO溶液中進行清洗，清洗的時間 t2=22s± ls，同時，在清洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆能夠充分與稀HNO溶 液接觸； d) 將經(jīng)過稀HNO清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程中，機械臂自 動擺動，以除去高壓硅堆表面的稀HNO溶液； e) 最后，利用機械臂將高壓硅堆放入稀HF中清洗，清洗的時間t3=22s±ls，同時，在清 洗的過程中，機械臂自動擺動，以方便高壓硅堆能夠充分與稀HF溶液接觸； f) 將經(jīng)過稀HF清洗后的高壓硅堆放入溢水中清洗，同時，在清洗的過程中，機械臂自 動擺動，以除去高壓硅堆表面的稀HF溶液； g) 最后，將高壓硅堆放入甩干機中進行脫水處理，脫水的時間t4=180s，完成清洗。
2. 根據(jù)權利要求1所述的小電流高壓硅堆清洗工藝，其特征在于：所述步驟b中的溢 水清洗一共有兩道清洗工序，分別為一級溢水清洗及二級溢水清洗，其中一級溢水清洗的 時間t 5=30s±ls，二級溢水清洗的時間t6=250s±5s。
3. 根據(jù)權利要求1所述的小電流高壓硅堆清洗工藝，其特征在于：所述步驟d中的溢 水清洗為一道清洗工序，清洗的時間t7=120s±5s。
4. 根據(jù)權利要求1所述的小電流高壓硅堆清洗工藝，其特征在于：所述步驟f中的溢 水清洗一共有兩道清洗工序，分別為一級溢水清洗及二級溢水清洗，其中一級溢水清洗的 時間t 8=30s±ls，二級溢水清洗的時間t9=250s±5s。
【文檔編號】B08B3/08GK104241098SQ201410519686
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年9月30日 優(yōu)先權日:2014年9月30日
【發(fā)明者】黃麗鳳, 王志敏, 張龍 申請人:如皋市大昌電子有限公司