超聲波清潔裝置制造方法
【專利摘要】一種超聲波清潔裝置包括一儲液槽、一超聲波發(fā)生器、一排水閥以及一控制模塊，所述儲液槽具有底部以及側(cè)面，用于容納清洗液，所述超聲波發(fā)生器設(shè)置于儲液槽的側(cè)面，所述控制模塊電性連接至超聲波發(fā)生器，用于控制超聲波發(fā)生器的一開關(guān)，使超聲波發(fā)生器產(chǎn)生一超聲波，所述超聲波使清洗液產(chǎn)生一高頻率震蕩，以于儲液槽中浸洗一物件，所述排水閥設(shè)置于儲液槽的底部，用于排除浸洗對象后的清洗液。本實用新型的有益效果為：以超聲波產(chǎn)生一高頻率振蕩來完成清潔工作，清洗完以后的清洗液隨排水閥排出，清潔效率高，有效地克服現(xiàn)有技術(shù)生產(chǎn)過程中的污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)而導(dǎo)電器裝置或者機械裝置產(chǎn)生的各種問題。
【專利說明】超聲波清潔裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于一種超聲波清潔裝置，尤其涉及具有高清潔效率的超聲波清潔裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的發(fā)展，人類的生活處處依賴著各式各樣的電器裝置或者機械裝置。
[0003]在廠商制造電器裝置或者機械裝置的過程中，因制造設(shè)備以及組裝零件沾染污垢、化學(xué)污染物或膠質(zhì)的緣故，時常導(dǎo)致廠商制造出來的電器裝置或者機械裝置產(chǎn)生問題。這些問題可能導(dǎo)致使用者在使用這些有問題的電器裝置或者機械裝置時，產(chǎn)生無法預(yù)期的結(jié)果，而且還有潛在隱患，可能導(dǎo)致電器裝置或者機械裝置燒毀等嚴(yán)重事故。
[0004]綜上所述，如何提供一種在廠商制造電器裝置或者機械裝置的過程中，清潔制造設(shè)備、治具以及組裝零件沾染到的污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)，以提升廠商制造電器裝置或者機械裝置的良率，進而大幅降低廠商制造電器裝置或者機械裝置的成本的清潔裝置，是目前所屬行業(yè)內(nèi)的一個技術(shù)問題。
實用新型內(nèi)容
[0005]針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種超聲波清潔裝置，杜絕了出廠的電器裝置或者是機械裝置產(chǎn)品因在生產(chǎn)過程中沾染污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)而產(chǎn)生的安全問題，提高了產(chǎn)品的合格率。
[0006]本實用新型的技術(shù)方案如下:
[0007]—種超聲波清潔裝置，包括:
[0008]一儲液槽，具有一底部以及一側(cè)面，用于容納清洗液；
[0009]—超聲波發(fā)生器，設(shè)置于所述儲液槽的側(cè)面，用于產(chǎn)生一超聲波；
[0010]一排水閥，設(shè)置于所述儲液槽的底部；以及
[0011]一控制模塊，電性連接至所述超聲波發(fā)生器，具有用于控制所述超聲波發(fā)生器的一開關(guān)，使所述超聲波發(fā)生器產(chǎn)生所述超聲波；
[0012]其中，在所述儲液槽裝有清洗液時，所述超聲波使清洗液產(chǎn)生一高頻率震蕩，用于清潔浸在清洗液中的被清潔對象，所述排水閥用于排除浸洗所述對象后的清洗液。
[0013]上述的超聲波清潔裝置，還包括一料片架，可抽換式地放置于所述儲液槽內(nèi)，用于夾持被清潔對象。
[0014]上述的超聲波清潔裝置，還包括:
[0015]一清洗槽，可移除式地設(shè)置于所述儲液槽上；
[0016]一清洗管；以及
[0017]一循環(huán)模塊，連接所述清洗管，用于通過所述清洗管，將所述儲液槽的清洗液抽送至所述清洗槽，以在所述清洗槽中完成清潔。
[0018]上述的超聲波清潔裝置，所述清洗槽還包括:[0019]一孔洞，用于排除沖洗所述對象后的清洗液；以及
[0020]一濾網(wǎng)，連接所述孔洞，用于過濾沖洗被清潔對象后的清洗液。
[0021]上述的超聲波清潔裝置，還包括一加熱模塊，與所述控制模塊電性連接，其中，所述控制模塊用于控制所述加熱模塊的一開關(guān)，使所述加熱模塊加熱所述清洗液。
[0022]上述的超聲波清潔裝置，還包括一進氣模塊，與所述控制模塊電性連接，其中，所述控制模塊用于控制所述進氣模塊的一開關(guān)，使所述進氣模塊增加所述清洗液的所需氣體。
[0023]本實用新型還包括另一種形式的超聲波清潔裝置，其具體的技術(shù)方案如下:
[0024]一種超聲波清潔裝置，包括:
[0025]一儲液槽，具有一底部、一第一側(cè)面以及一第二側(cè)面，用于容納清洗液，所述第一側(cè)面相對且平行于所述第二側(cè)面；
[0026]一第一超聲波發(fā)生器，設(shè)置于所述儲液槽的第一側(cè)面，用于產(chǎn)生一第一超聲波；
[0027]—第二超聲波發(fā)生器，設(shè)置于所述儲液槽的第二側(cè)面，用于產(chǎn)生一第二超聲波；
[0028]一排水閥，設(shè)置于所述儲液槽的底部；以及
[0029]一控制模塊，電性連接至所述第一超聲波發(fā)生器以及所述第二超聲波發(fā)生器，用于控制所述第一超聲波發(fā)生器的一開關(guān)以及所述第二超聲波發(fā)生器的一開關(guān)，使所述第一超聲波發(fā)生器產(chǎn)生第一超聲波以及使所述第二超聲波發(fā)生器產(chǎn)生第二超聲波；
[0030]其中，在所述儲液槽裝有清洗液時，所述第一超聲波以及所述第二超聲波使所述清洗液產(chǎn)生一高頻率震蕩，用于清潔浸在清洗液中的被清潔對象，所述排水閥用于排除浸洗所述對象后的清洗液。
[0031]進一步地，所述第一超聲波的相位與所述第二超聲波的相位相同。
[0032]進一步地，所述第一超聲波的相位與所述第二超聲波的相位的一差異為90度。
[0033]進一步地，還包括一料片架，可抽換式地放置于所述儲液槽內(nèi)，用于夾持所述對象。
[0034]本實用新型的有益效果為:以超聲波產(chǎn)生一高頻率振蕩，以清潔被清洗的機械裝置或者電器裝置，清洗完以后的清洗液隨排水閥排出，清潔效率高，有效地克服現(xiàn)有技術(shù)技術(shù)中，由于制造設(shè)備以及組裝零件沾染污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)，而導(dǎo)致廠商制造出來的電器裝置或者機械裝置產(chǎn)生的問題。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]圖1為本實用新型第一實施例的超聲波清潔裝置的示意圖。
[0036]圖2為本實用新型第一實施例的超聲波清潔裝置的另一示意圖。
[0037]圖3為本實用新型第一實施例的超聲波清潔裝置產(chǎn)生的超聲波的波形圖。
[0038]圖4為本實用新型第二實施例的超聲波清潔裝置的示意圖。
[0039]圖5為本實用新型第二實施例的超聲波清潔裝置的另一示意圖。
[0040]圖6A為本實用新型第二實施例的超聲波清潔裝置產(chǎn)生的超聲波的波形圖。
[0041]圖6B為本實用新型第二實施例的超聲波清潔裝置產(chǎn)生的超聲波的另一波形圖。
[0042]其中:
[0043]1、2超聲波清潔裝置[0044]101、201 儲液槽
[0045]102、202 清洗槽
[0046]103、203 控制模塊
[0047]104、204 排水閥
[0048]IO5、2O5 加熱模塊
[0049]106、206 進氣模塊
[0050]107超聲波發(fā)生器
[0051]108、208 循環(huán)模塊
[0052]IO9、2O9 清洗管
[0053]110、210 料片架
[0054]111、211 腳輪
[0055]101a、201a 底部
[0056]IOlb 側(cè)面
[0057]102a、202a 孔洞
[0058]102b、202b 濾網(wǎng)
[0059]2Olb 第一側(cè)面
[0060]201c 第二側(cè)面
[0061]207a第一超聲波發(fā)生器
[0062]207b第二超聲波發(fā)生器
[0063]1071 超聲波
[0064]2071第一超聲波
[0065]2072第二超聲波。
【具體實施方式】
[0066]以下將通過實施例來解釋本實用新型內(nèi)容，本實用新型的實施例并非用于限制本實用新型須在如實施例所述的任何特定的環(huán)境、應(yīng)用或特殊方式方能實施。因此，關(guān)于實施例的說明僅為闡釋本實用新型的目的，而非用于限制本實用新型。需要說明的是，以下實施例及圖示中，與本實用新型非直接相關(guān)的組件已省略而未繪示；且圖式中各組件間的尺寸關(guān)系僅為求容易了解，非用于限制實際比例。
[0067]實施例1
[0068]本實用新型實施例所述的一種超聲波清潔裝置I如圖1以及圖2所示，該超聲波清潔裝置I包括一儲液槽101、一清洗槽102、一控制模塊103、一排水閥104、一加熱模塊105、一進氣模塊106、一超聲波發(fā)生器107、一循環(huán)模塊108、一清洗管109、一料片架110以及復(fù)數(shù)個腳輪111。
[0069]儲液槽101包括一底部IOla以及一側(cè)面101b，用于容納清洗液(圖未繪示)。清洗液可以為一具有活性酶的清洗液，以取代傳統(tǒng)的酸堿溶液。在儲液槽101裝有清洗液的情況下才可完成清潔工作。其中，活性酶可以為一生物活性酶，但是對其類型不加以限定。
[0070]所述清洗槽102可移除式地設(shè)置于儲液槽101上，其包括一孔洞102a以及一濾網(wǎng)102b。濾網(wǎng)102b的一端連接孔洞102a?？刂颇K103設(shè)置于儲液槽101外，并電性連接加熱模塊105、進氣模塊106以及超聲波發(fā)生器107，用于分別控制加熱模塊105、進氣模塊106以及超聲波發(fā)生器107的一開關(guān)。排水閥104設(shè)置于儲液槽101的底部101a。加熱模塊105以及進氣模塊106設(shè)置于儲液槽101內(nèi)。超聲波發(fā)生器107設(shè)置于儲液槽101的側(cè)面101b。循環(huán)模塊108設(shè)置于儲液槽101外，并連接清洗管109。料片架110可抽換式地放置于儲液槽101內(nèi)。儲液槽101借助腳輪111支撐于地面上，同時通過腳輪111進行移動。
[0071]在本實施例中，加熱模塊105為一電熱管；循環(huán)模塊108為一具有濾芯的水泵(Pump) 0然而，在其它實施例中，依據(jù)不同的配置方式，加熱模塊105可為不同類型的加熱器；循環(huán)模塊108可為不同類型的液體循環(huán)裝置，并不以本實施例所述的電熱管以及具有濾芯的水泵為限。水泵的組成為現(xiàn)有技術(shù)中本領(lǐng)域技術(shù)人員所常用的組成及結(jié)構(gòu)。
[0072]以下將說明本實用新型的第一實施例的超聲波清潔裝置I的運作方式。
[0073]當(dāng)一使用者通過超聲波清潔裝置I的儲液槽101清潔一對象，例如，沾染到污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)的一電路板(圖未繪示)時，使用者將電路板浸入儲液槽101容納的清洗液中。隨后，使用者通過控制模塊103，使超聲波發(fā)生器107開啟，超聲波發(fā)生器107將產(chǎn)生如圖3繪示的一超聲波1071。通過超聲波1071，儲液槽101容納的清洗液產(chǎn)生一高頻率震蕩。借此，電路板可于儲液槽101容納的清洗液中，借助儲液槽101容納的清洗液的高頻率震蕩進行浸洗，并使得電路板沾染到的污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)脫落。
[0074]具體地，使用者通過料片架110，將沾染到污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)的電路板夾持于料片架110中。隨后，使用者將夾持電路板的料片架110放置于儲液槽101中，使得電路板浸入儲液槽101容納的清洗液中，并借助超聲波1071，使儲液槽101容納的清洗液產(chǎn)生的高頻率震蕩浸洗電路板。在本實施例中，超聲波清潔裝置I為用于浸洗單一物件。然而，在其它實施例中，超聲波清潔裝置I可用于浸洗任意數(shù)目的對象，并不以本實施例所述的單一被清洗物件為限。
[0075]當(dāng)儲液槽101容納的清洗液包括活性酶時，清洗液的溫度以及含氧量將影響清洗液清潔對象的清潔效率。例如，提高清洗液的溫度以及含氧量，將提高清洗液的清潔效率；反之，降低清洗液的溫度以及含氧量，將降低清洗液的清潔效率。詳細地說，使用者通過控制模塊103，使加熱模塊105開啟，加熱清洗液，以提高清洗液的溫度。另外，使用者通過控制模塊103，使進氣模塊106開啟，以增加清洗液中的所需的氣體。其中，進氣模塊106為可提供例如氧氣、氮氣、一氧化碳或二氧化碳等氣體。于本實施例中，進氣模塊106為提供氧氣以增加清洗液中的含氧量。如此一來，通過提高清洗液的溫度以及含氧量的方式，包括活性酶的清洗液的清潔效率大幅提升。
[0076]當(dāng)浸入清洗液的電路板在儲液槽101中浸洗之后，清洗液將混雜有從電路板上脫落的污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)。使用者通過排水閥104，排除具有從電路板上脫落的污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)的清洗液。
[0077]另一方面，當(dāng)使用者通過超聲波清潔裝置I的清洗槽102清潔電路板時，使用者將電路板放置于清洗槽102。隨后，使用者通過循環(huán)模塊108以及清洗管109，將儲液槽101容納的清洗液抽送至清洗槽102，使用者于清洗槽102中沖洗電路板。沖洗電路板之后的清洗液，則借助清洗槽102的濾網(wǎng)102b過濾后，并通過清洗槽102的孔洞102a排除進入儲液槽101中。如此，借助循環(huán)模塊108、清洗管109、清洗槽102的孔洞102a以及濾網(wǎng)102b，使用者可于清洗槽102中，借助儲液槽101容納的清洗液，重復(fù)性地沖洗電路板。
[0078]實施例2
[0079]本實用新型的第二實施例如圖4以及圖5所繪示，為一超聲波清潔裝置2。超聲波清潔裝置2包括一儲液槽201、一清洗槽202、一控制模塊203、一排水閥204、一加熱模塊205、一進氣模塊206、一第一超聲波發(fā)生器207a、一第二超聲波發(fā)生器207b、一循環(huán)模塊208、一清洗管209、一料片架210以及復(fù)數(shù)個腳輪211。
[0080]儲液槽201包括一底部201a、一第一側(cè)面201b以及一第二側(cè)面201c，用于容納清洗液(圖未繪示)。清洗槽202可移除式地設(shè)置于儲液槽201上，其包括一孔洞202a以及一濾網(wǎng)202b。濾網(wǎng)202b的一端連接孔洞202a?？刂颇K203設(shè)置于儲液槽201外，并電性連接加熱模塊205、進氣模塊206、第一超聲波發(fā)生器207a以及第二超聲波發(fā)生器207b，用于分別控制加熱模塊205、進氣模塊206、第一超聲波發(fā)生器207a以及第二超聲波發(fā)生器207b的一開關(guān)。排水閥204設(shè)置于儲液槽201的底部201a。加熱模塊205以及進氣模塊206設(shè)置于儲液槽201內(nèi)。循環(huán)模塊208設(shè)置于儲液槽201外，并連接清洗管209。料片架210可抽換式地放置于儲液槽201內(nèi)。儲液槽201借助腳輪211支撐于地面上，同時通過腳輪211進行移動。
[0081]儲液槽201的第一側(cè)面201b相對且平行于第二側(cè)面201c。第一超聲波發(fā)生器207a設(shè)置于儲液槽201的第一側(cè)面201b ;且第二超聲波發(fā)生器207b設(shè)置于儲液槽201的第二側(cè)面201c。據(jù)此，第一超聲波發(fā)生器207a還相對且平行于第二超聲波發(fā)生器207b。
[0082]在本實施例中，加熱模塊205為一電熱管；循環(huán)模塊208為一具有濾芯的水泵。然而，在其它實施例中，依據(jù)不同的配置方式，加熱模塊205可為不同類型的加熱器；循環(huán)模塊208可為不同類型的液體循環(huán)裝置，并不以本實施例所述的電熱管以及具有濾芯的水泵為限。
[0083]以下將說明本實用新型的第二實施例的超聲波清潔裝置2的運作方式。
[0084]當(dāng)使用者通過超聲波清潔裝置2的儲液槽201清潔被清潔對象時，例如，沾染到污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)的一電路板(圖未繪示)時，使用者將電路板浸入儲液槽201容納的清洗液中。隨后，使用者通過控制模塊203，使第一超聲波發(fā)生器207a以及第二超聲波發(fā)生器207b開啟，第一超聲波發(fā)生器207a以及第二超聲波發(fā)生器207b將分別產(chǎn)生如圖6A或圖6B繪示的一第一超聲波2071以及一第二超聲波2072。通過第一超聲波2071以及第二超聲波2072，儲液槽201容納的清洗液產(chǎn)生一高頻率震蕩。借此，電路板可于儲液槽201容納的清洗液中，借助儲液槽201容納的清洗液的高頻率震蕩進行浸洗，并使得電路板沾染到的污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)脫落。
[0085]第一超聲波2071的一相位以及第二超聲波2072的一相位可相互搭配，以增加高頻率震蕩的振幅。如圖6A所示，第一超聲波2071的相位以及第二超聲波2072的相位相同；另外，如圖6B所示，第一超聲波2071的相位以及第二超聲波2072的相位的一差異約為90度。
[0086]具體地，使用者通過料片架210，將沾染到污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)的電路板夾持于料片架210中。隨后，使用者將夾持電路板的料片架210放置于儲液槽201中，使得電路板浸入儲液槽201容納的清洗液中，并借助第一超聲波2071以及第二超聲波2072，使儲液槽201容納的清洗液產(chǎn)生的高頻率震蕩浸洗電路板。在本實施例中，超聲波清潔裝置2用于浸洗單一物件。然而，在其它實施例中，超聲波清潔裝置2可用于浸洗任意數(shù)目的對象，并不以本實施例所述的單一物件為限。
[0087]當(dāng)儲液槽201容納的清洗液包括活性酶時，清洗液的溫度以及含氧量將影響清洗液清潔對象的清潔效率。例如，提高清洗液的溫度以及含氧量，將提高清洗液的清潔效率；反之，降低清洗液的溫度以及含氧量，將降低清洗液的清潔效率。詳細地說，使用者通過控制模塊203，使加熱模塊205開啟，加熱清洗液，以提高清洗液的溫度。另外，使用者通過控制模塊203，使進氣模塊206開啟，以增加清洗液的含氧量。如此一來，通過提高清洗液的溫度以及含氧量的方式，包括活性酶的清洗液的清潔效率可大幅提升。
[0088]當(dāng)浸入清洗液的電路板在儲液槽201中浸洗之后，清洗液將具有由電路板上脫落的污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)。使用者通過排水閥204，排除具有由電路板上脫落的污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)的清洗液。
[0089]另一方面，當(dāng)使用者通過超聲波清潔裝置2的清洗槽202清潔電路板時，使用者將電路板放置于清洗槽202。隨后，使用者通過循環(huán)模塊208以及清洗管209，將儲液槽201容納的清洗液抽送至清洗槽202，使用者于清洗槽202中沖洗電路板。沖洗電路板之后的清洗液，則借助清洗槽202的濾網(wǎng)202b過濾后，通過清洗槽202的孔洞202a排除進入儲液槽201中。如此，借助循環(huán)模塊208、清洗管209、清洗槽202的孔洞202a以及濾網(wǎng)202b，使用者可于清洗槽202中，借助儲液槽201容納的清洗液，重復(fù)性地沖洗電路板。據(jù)此，以具有活性酶的清洗液的超聲波清潔裝置2為一循環(huán)式清洗設(shè)備，而可有效地利用清洗液，以減少排放，進而可解決廢水排放而造成環(huán)境污染的問題。
[0090]綜上所述，本實用新型的超聲波清潔裝置可通過超聲波發(fā)生器產(chǎn)生的超聲波，使儲液槽中的清洗液產(chǎn)生高頻率震蕩。借助高頻率震蕩的清洗液，浸洗放置于儲液槽中的對象，例如制造設(shè)備、組裝零件或治具，并在儲液槽中的對象浸洗完畢之后，將儲液槽中的清洗液排除。另一方面，本實用新型的超聲波清潔裝置還可通過清洗槽、循環(huán)模塊以及清洗管，借助抽送儲液槽中的清洗液，沖洗放置于清洗槽中的對象，并于清洗槽中的對象沖洗完畢之后，將清洗槽中的清洗液排除入儲液槽中，而成為循環(huán)式的清洗設(shè)備，可重復(fù)性地有效利用清洗液。且以具有生物活性酶的清潔液取代傳統(tǒng)的酸堿溶液，還可解決廢水排放的環(huán)保議題。據(jù)此，本實用新型的超聲波清潔裝置即可有效地克服現(xiàn)有技術(shù)技術(shù)中，由于制造設(shè)備以及組裝零件沾染污垢、化學(xué)污染物或者膠質(zhì)，而導(dǎo)致廠商制造出來的電器裝置或者機械裝置產(chǎn)生問題，降低廠商制造電器裝置或者機械裝置的合格率，進而從另一方面減小了廠商的制造成本。
[0091]上述實施例僅僅是為清楚地說明本實用新型創(chuàng)造所作的舉例，而并非對本實用新型創(chuàng)造【具體實施方式】的限定。為了清楚地說明各部件的組合關(guān)系，上面對各種說明性的部件及其連接關(guān)系圍繞其功能進行了一般地描述，至于這種部件的組合是實現(xiàn)哪種功能，取決于特定的應(yīng)用和對整個裝置所施加的設(shè)計約束條件。對于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)所引伸出的任何顯而易見的變化或變動仍處于本實用新型創(chuàng)造權(quán)利要求的保護范圍之中。
【權(quán)利要求】
1.一種超聲波清潔裝置，其特征在于，包括: 一儲液槽，具有一底部以及一側(cè)面，用于容納清洗液； 一超聲波發(fā)生器，設(shè)置于所述儲液槽的側(cè)面，用于產(chǎn)生一超聲波； 一排水閥，設(shè)置于所述儲液槽的底部；以及 一控制模塊，電性連接至所述超聲波發(fā)生器，具有用于控制所述超聲波發(fā)生器的一開關(guān)，使所述超聲波發(fā)生器產(chǎn)生所述超聲波； 其中，在所述儲液槽裝有清洗液時，所述超聲波使清洗液產(chǎn)生一高頻率震蕩，用于清潔浸在清洗液中的被清潔對象，所述排水閥用于排除浸洗所述被清潔對象后的清洗液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清潔裝置，其特征在于，還包括料片架，可抽換式地放置于所述儲液槽內(nèi)，用于夾持被清潔對象。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清潔裝置，其特征在于，還包括: 一清洗槽，可移除式地設(shè)置于所述儲液槽上； 一清洗管；以及 一循環(huán)模塊，連接所述清洗管，用于通過所述清洗管，將所述儲液槽的清洗液抽送至所述清洗槽，以在所述清洗槽中完成清潔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超聲波清潔裝置，其特征在于，所述清洗槽還包括: 一孔洞，用于排除沖洗所述對象后的清洗液；以及 一濾網(wǎng)，連接所述孔洞，用于過濾沖洗被清潔對象后的清洗液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清潔裝置，其特征在于，還包括一加熱模塊，與所述控制模塊電性連接，其中，所述控制模塊用于控制所述加熱模塊的一開關(guān)，使所述加熱模塊加熱所述清洗液。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清潔裝置，其特征在于，還包括一進氣模塊，與所述控制模塊電性連接，其中，所述控制模塊用于控制所述進氣模塊的一開關(guān)，使所述進氣模塊增加所述清洗液的所需氣體。
7.一種超聲波清潔裝置，其特征在于，包括: 一儲液槽，具有一底部、一第一側(cè)面以及一第二側(cè)面，用于容納清洗液，所述第一側(cè)面相對且平行于所述第二側(cè)面； 一第一超聲波發(fā)生器，設(shè)置于所述儲液槽的第一側(cè)面，用于產(chǎn)生一第一超聲波； 一第二超聲波發(fā)生器，設(shè)置于所述儲液槽的第二側(cè)面，用于產(chǎn)生一第二超聲波； 一排水閥，設(shè)置于所述儲液槽的底部；以及 一控制模塊，電性連接至所述第一超聲波發(fā)生器以及所述第二超聲波發(fā)生器，用于控制所述第一超聲波發(fā)生器的一開關(guān)以及所述第二超聲波發(fā)生器的一開關(guān)，使所述第一超聲波發(fā)生器產(chǎn)生第一超聲波以及使所述第二超聲波發(fā)生器產(chǎn)生第二超聲波； 其中，在所述儲液槽裝有清洗液時，所述第一超聲波以及所述第二超聲波使所述清洗液產(chǎn)生一高頻率震蕩，用于清潔浸在清洗液中的被清潔對象，所述排水閥用于排除浸洗所述對象后的清洗液。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的超聲波清潔裝置，其特征在于，所述第一超聲波的相位與所述第二超聲波的相位相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的超聲波清潔裝置，其特征在于，所述第一超聲波的相位與所述第二超聲波的相位的一差異為90度。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的超聲波清潔裝置，其特征在于，還包括料片架，可抽換式地放置于所述儲液槽內(nèi) ，用于夾持所述對象。
【文檔編號】B08B3/12GK203711401SQ201420054864
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年1月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月28日
【發(fā)明者】徐享文 申請人:徐享文, 黃賴貴美