一種晶片清洗的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種晶片清洗機，包括架體、至少一個清洗槽，所述清洗槽位安裝在架體上，清洗槽上活動連接有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗裝置本體，清洗裝置本體上設有旋轉軸，旋轉軸上固定有清洗滾筒，旋轉軸與驅動裝置相連，通過驅動裝置實現(xiàn)旋轉軸沿其軸心轉動，所述清洗滾筒上設有供清洗液流通的孔。本實用新型具有清洗高效的特點。
【專利說明】一種晶片清洗機

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種清洗裝置，尤其涉及一種晶片清洗機。

【背景技術】
[0002]晶片在制程中所沾附的化學藥劑或雜質，必須經(jīng)由清洗機適時予以清洗?，F(xiàn)有清洗機的清洗時，通常將晶片放置在籃筐內(nèi)，通過上下或左右抖動的形式將籃筐在清洗液中運動，這種清洗方式存在清洗不均勻，清洗速度慢，清洗不徹底的問題。
實用新型內(nèi)容
[0003]針對現(xiàn)有技術的不足，本實用新型的目的在于提供一種能夠高效清洗的晶片清洗機。
[0004]本實用新型采用的技術方案是:一種晶片清洗機，包括架體、至少一個清洗槽，所述清洗槽安裝在架體上；清洗槽上活動連接有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗裝置本體，清洗裝置本體上設有旋轉軸，旋轉軸上固定有清洗滾筒，旋轉軸與驅動裝置相連，通過驅動裝置實現(xiàn)旋轉軸沿其軸心轉動，所述清洗滾筒上設有供清洗液流通的孔。
[0005]進一步，清洗裝置本體上設有橫桿；清洗槽上設有定位結構，所述橫桿通過定位結構連接在清洗槽上。
[0006]進一步，所述定位結構為位于操作平臺上的清洗槽頂面的一組相對邊上的定位板，定位板上設有凹槽，通過將橫桿的兩端卡入所述凹槽實現(xiàn)清洗裝置與清洗槽的活動連接。
[0007]進一步，所述定位板上還設有用于進一步固定橫桿的鎖定板。
[0008]進一步，所述驅動裝置包括驅動電機，所述驅動電機設置在架體上；驅動電機的輸出軸上設有動力輸出輪，旋轉軸的前端設有轉動輪，所述動力輸出輪通過傳動裝置與轉動輪相連。
[0009]進一步，所述清洗裝置本體包括前立板、后立板、左立板、右立板，所述前立板、右立板、后立板、左立板首尾相連,前立板與后立板相互平行，左立板與右立板相互平行，前立板與左立板相互垂直；前立板、后立板的高度小于左立板、右立板的高度；所述橫桿有兩根，橫桿之間相互平行；橫桿穿過左立板、右立板；所述左立板、右立板之間通過滾動軸承連接有旋轉軸，所述旋轉軸與橫桿平行，所述旋轉軸位于橫桿的下方。
[0010]進一步，所述轉動輪位于旋轉軸上緊貼右立板的左側面的位置上，所述轉動輪的外側面上設有齒；所述右立板上設有穿過右立板的滾動軸承，滾動軸承上固定有傳動軸，所述傳動軸平行于旋轉軸；所述傳動軸的兩端固定有傳動輪，位于傳動軸左端的傳動輪上設有齒并與轉動輪上的齒嚙合，位于傳動軸右端的傳動輪與驅動電機上的動力輸出輪相連。
[0011]進一步，動力輸出輪的外側面上設有齒，位于傳動軸右端的傳動輪的外側面上也設有與動力輸出輪上的齒相適應的齒，動力輸出輪上的齒與位于傳動軸右端的傳動輪上的齒嚙合。
[0012]進一步，所述滾筒上設有可以打開/關閉的門；所述架體上設有抽風裝置，所述抽風裝置的抽風口設在，所述清洗槽頂面的上方。
[0013]進一步，所述清洗槽的底面為與清洗滾筒形狀相適應的圓弧面。
[0014]本實用新型的有益效果是:由于清洗滾筒可以在清洗槽中轉動，清洗滾筒中的晶片在清洗滾筒不停地被翻滾，達到高效清洗的目的?，F(xiàn)有技術中采用上下或左右顛簸籃筐的方式來清洗，由于晶片呈形狀不規(guī)則的片狀，這種清洗方式不容易將晶片有效地翻動，本實用新型所述方案中，晶片能被有效地、不斷地翻滾，因此清洗地比較均勻。設有抽風裝置，可以有效地將清洗液中會發(fā)出的氣體吸走，優(yōu)化了操作環(huán)境。由于不采用上下或左右震動籃筐的方式，在同樣保證在工作中浸沒晶片的情況下所使用的清洗液數(shù)量少，使用過程中揮發(fā)的清洗液數(shù)量也少，有效地降低了成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是本使用新型一較佳實施例的結構示意圖。
[0016]圖2是圖1的正視圖。
[0017]圖3是圖2沿A-A方向的垂直剖面圖。
[0018]圖4是圖2沿B-B方向的水平切面圖。
[0019]圖5是清洗裝置的結構示意圖。
[0020]其中:1_架體；2_定位板；3_鎖定板；4_抽風裝置；5_抽風裝置；6_驅動電機；7-清洗槽；8-橫桿；9_傳動輪；10-傳動輪；11-旋轉軸；12-清洗滾筒；13-轉動輪；14_動力輸出輪；15_左立板；16_前立板；17_后立板；18_右立板；19_傳動軸；20_操作平臺；21-清洗裝置本體。

【具體實施方式】
[0021]下面，結合附圖和實施例對本實用新型做進一步說明。
[0022]如圖1到圖5所示，一種晶片清洗機，包括架體1、五個清洗槽7，所述清洗槽7位安裝在架體I的操作平臺20上:清洗槽7上活動連接有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗裝置本體21，清洗裝置本體21上設有旋轉軸11，旋轉軸11上固定有清洗滾筒12，旋轉軸11與驅動裝置相連，通過驅動裝置實現(xiàn)旋轉軸11沿其軸心轉動，所述清洗滾筒12上設有供清洗液流通的孔。所述清洗槽中，部分流通的清洗液是酸液，部分流通的清洗液是水。
[0023]清洗裝置本體21上設有橫桿8 ;清洗槽7上設有定位結構，所述橫桿8通過定位結構連接在清洗槽7上。
[0024]所述定位結構為位于操作平臺20上的清洗槽頂面的一組相對邊上的定位板2，定位板2上設有凹槽，通過將橫桿8的兩端卡入所述凹槽實現(xiàn)清洗裝置與清洗槽7的連接。所述定位板2上還設有用于進一步固定橫桿8的鎖定板3。
[0025]所述驅動裝置包括驅動電機6，所述驅動電機設置6在架體I上；驅動電機6的輸出軸上設有動力輸出輪14，旋轉軸的前端設有轉動輪13，所述動力輸出輪12通過傳動裝置與轉動輪13相連。
[0026]所述清洗裝置本體包括前立板16、后立板17、左立板15、右立板18，所述前立板16、右立板18、后立板17、左立板15首尾相連,前立板16與后立板17相互平行,左立板15與右立板18相互平行，前立板16與左立板15相互垂直；前立板16、后立板17的高度小于左立板15、右立板18的高度；所述橫桿8有兩根，橫桿8之間相互平行；橫桿8穿過左立板15、右立板18 ;所述左立板15、右立板18之間連接有通過滾動軸承連接有旋轉軸11，所述旋轉軸11與橫桿8平行，所述旋轉軸11位于橫桿8的下方。
[0027]所述轉動輪13位于旋轉軸11上緊貼右立板18的左側面的位置上，所述轉動輪13的外側面上設有齒；所述右立板18上設有穿過右立板18的滾動軸承，滾動軸承上固定有傳動軸19,所述傳動軸19平行于旋轉軸11 ;所述傳動軸19的兩端固定有傳動輪10,9,位于傳動軸19左端的傳動輪9上設有齒并與轉動輪13上的齒嚙合，位于傳動軸19右端的傳動輪10通過傳動裝置與驅動電機6上的動力輸出輪14相連。
[0028]動力輸出輪14的外側面上設有齒,所述位于傳動軸19右端的傳動輪10的外側面上也設有與動力輸出輪14上的齒相適應的齒，動力輸出輪14上的齒與位于傳動軸19右端的傳動輪10上的齒嚙合。
[0029]所述滾筒12上設有可以打開/關閉的門；所述架體I上設有抽風裝置5，所述抽風裝置的抽風口設在所述清洗槽7側面且高于清洗槽7頂面的位置上。所述清洗槽7的底面為與清洗滾筒12形狀相適應的圓弧面。
[0030]以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權利要求】
1.一種晶片清洗機，包括架體(I)、至少一個清洗槽(7)，所述清洗槽(7)安裝在架體(I)上，其特征在于:清洗槽(7)上活動連接有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗裝置本體(21)，清洗裝置本體(21)上設有旋轉軸(11)，旋轉軸(11)上固定有清洗滾筒(12 )，旋轉軸(II)與驅動裝置相連，通過驅動裝置實現(xiàn)旋轉軸(11)沿其軸心轉動，所述清洗滾筒(12)上設有供清洗液流通的孔。
2.如權利要求1所述的一種晶片清洗機，其特征在于:清洗裝置本體(21)上設有橫桿(8 );清洗槽(7 )上設有定位結構，所述橫桿(8 )通過定位結構連接在清洗槽(7 )上。
3.如權利要求2所述的一種晶片清洗機，其特征在于:所述定位結構為位于操作平臺(20)上的清洗槽頂面的一組相對邊上的定位板(2)，定位板(2)上設有凹槽，通過將橫桿(8)的兩端卡入所述凹槽實現(xiàn)清洗裝置與清洗槽(7)的活動連接。
4.如權利要求3所述的一種晶片清洗機，其特征在于:所述定位板(2)上還設有用于進一步固定橫桿(8)的鎖定板(3)。
5.如權利要求2到4任意一權利要求所述的一種晶片清洗機，其特征在于:所述驅動裝置包括驅動電機(6)，所述驅動電機(6)設置在架體(I)上；驅動電機(6)的輸出軸上設有動力輸出輪(14 )，旋轉軸的前端設有轉動輪(13 )，所述動力輸出輪(12 )通過傳動裝置與轉動輪(13)相連。
6.如權利要求5所述的一種晶片清洗機，其特征在于:所述清洗裝置本體包括前立板(16)、后立板(17)、左立板(15)、右立板(18),所述前立板(16)、右立板(18)、后立板(17)、左立板(15)首尾相連,前立板(16)與后立板(17)相互平行,左立板(15)與右立板(18)相互平行，前立板(16)與左立板(15)相互垂直；前立板(16)、后立板(17)的高度小于左立板(15)、右立板(18)的高度；所述橫桿(8)有兩根，橫桿(8)之間相互平行；橫桿(8)穿過左立板(15 )、右立板(18 );所述左立板(15)、右立板(18 )之間通過滾動軸承連接有旋轉軸(11)，所述旋轉軸(11)與橫桿(8 )平行，所述旋轉軸(11)位于橫桿(8 )的下方。
7.如權利要求6所述的一種晶片清洗機，其特征在于:所述轉動輪(13)位于旋轉軸(11)上緊貼右立板(18)的左側面的位置上，所述轉動輪(13)的外側面上設有齒；所述右立板(18)上設有穿過右立板(18)的滾動軸承,滾動軸承上固定有傳動軸(19),所述傳動軸(19)平行于旋轉軸(11);所述傳動軸(19)的兩端固定有傳動輪(10，9)，位于傳動軸(19)左端的傳動輪(9)上設有齒并與轉動輪(13)上的齒嚙合，位于傳動軸(19)右端的傳動輪(10)與驅動電機(6)上的動力輸出輪(14)相連。
8.如權利要求7所述的一種晶片清洗機，其特征在于:動力輸出輪(14)的外側面上設有齒，位于傳動軸(19)右端的傳動輪(10)的外側面上也設有與動力輸出輪(14)上的齒相適應的齒，動力輸出輪(14)上的齒與位于傳動軸(19)右端的傳動輪(10)上的齒哨合。
9.如權利要求1所述的一種晶片清洗機，其特征在于:所述滾筒(12)上設有可以打開/關閉的門；所述架體(I)上設有抽風裝置(5 )，所述抽風裝置的抽風口設在所述清洗槽(7 )側面且高于清洗槽(7)頂面的位置上。
10.如權利要求1所述的一種晶片清洗機，其特征在于:所述清洗槽(7)的底面為與清洗滾筒(12)形狀相適應的圓弧面。
【文檔編號】B08B15/04GK203917241SQ201420102841
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年3月8日 優(yōu)先權日:2014年3月8日
【發(fā)明者】馬玉水 申請人:山東高唐杰盛半導體科技有限公司