攝像頭芯片清洗設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種攝像頭芯片清洗設(shè)備，包括蒸餾機(jī)和清洗機(jī)。蒸餾機(jī)包括冷凝裝置、蒸餾槽、新液槽以及渦流泵，所述冷凝裝置位于所述蒸餾槽上方，所述新液槽分別與所述冷凝裝置和所述渦流泵通過連接管道相連接；以及清洗機(jī)包括清洗裝置和冷凝回收裝置，所述清洗裝置的上部通過連接管道連接至所述渦流泵的出口，并于所述清洗裝置的上部設(shè)有蒸氣浴室，下部設(shè)有第一接口用于連接所述蒸餾槽，所述冷凝回收裝置與所述蒸氣浴室相連通，并通過連接管道與所述蒸餾機(jī)相連接。使用本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備，清洗攝像頭芯片的潔凈度高、清洗效果好、清洗全面、清洗效率高，并且因清洗劑回收循環(huán)利用而節(jié)約了成本。
【專利說明】攝像頭芯片清洗設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及清洗設(shè)備領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種攝像頭芯片清洗設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)有攝像頭芯片的清洗機(jī)主要有以下兩種：
[0003] 離心式旋轉(zhuǎn)清洗機(jī)，并以純水為介質(zhì)來進(jìn)行清洗。清洗時，將攝像頭芯片放入離心 式清洗機(jī)的轉(zhuǎn)盤中，并以純水沖洗攝像頭芯片表面，使其表面臟污剝離攝像頭芯片，同時清 洗機(jī)的轉(zhuǎn)盤高速運轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速在2000轉(zhuǎn)/分鐘至3000轉(zhuǎn)/分鐘之間）將臟污甩離攝像頭芯 片，以達(dá)到清潔的目的；以及
[0004] 多槽式超聲波清洗機(jī)，清洗時以純水為介質(zhì)。作業(yè)時，將攝像頭放置于超聲波清洗 機(jī)的第一槽粗洗，并以28KHZ或40KHZ的超聲波作用于攝像頭表面，使其表面臟污剝離攝像 頭芯片，以達(dá)到清潔的目的；之后，再將攝像頭芯片放置于第二槽精洗、第三槽漂洗（與第 一槽的清洗方式一樣）、清洗完成后，將攝像頭芯片再放入第四槽風(fēng)干。
[0005] 離心式旋轉(zhuǎn)清洗機(jī)的缺點：清潔效率不高，通常只有80%左右，且每次可清洗的 產(chǎn)品數(shù)量有限，每次只能洗6?8條產(chǎn)品；其次，離心式清洗機(jī)只能洗到攝像頭表面的臟污， 對于攝像頭芯片側(cè)面、底面以及其它角落無法達(dá)到清洗的目的。
[0006] 多槽式超聲波清洗機(jī)的缺點：可以實現(xiàn)大量清洗，但對于攝像頭表面的油性臟污、 松香等殘留不能有效卻除，同樣存在清洗效率低的問題（清洗效率只有70%左右），并且在 風(fēng)干的時候攝像頭表面會存在有大量水印。
[0007] 因此，為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述不足，本實用新型提出了一種新的解決方案。 實用新型內(nèi)容
[0008] 為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述問題，本實用新型提供了一種攝像頭芯片清洗設(shè)備。 根據(jù)本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備，清洗攝像頭芯片的潔凈度高、清洗效果好、清 洗全面、清洗效率高，并且因清洗劑回收循環(huán)利用而節(jié)約了成本。
[0009] 根據(jù)本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備，包括：
[0010] 蒸餾機(jī)，包括冷凝裝置、蒸餾槽、新液槽以及渦流泵，所述冷凝裝置位于所述蒸餾 槽上方，所述新液槽分別與所述冷凝裝置和所述渦流泵通過連接管道相連接；以及 [0011] 清洗機(jī)，包括清洗裝置和冷凝回收裝置，所述清洗裝置的上部通過連接管道連接 至所述渦流泵的出口，并于所述清洗裝置的上部設(shè)有蒸氣浴室，下部設(shè)有第一接口用于連 接所述蒸餾槽，所述冷凝回收裝置與所述蒸氣浴室相連通，并通過連接管道與所述蒸餾機(jī) 相連接。
[0012] 優(yōu)選的，所述蒸餾機(jī)的外部和所述清洗機(jī)的所述蒸氣浴室的外部均設(shè)有密封罩。
[0013] 可選的，所述冷凝裝置包括冷凝管，或者包括冷凝管和冷卻塔，所述冷凝管設(shè)置于 所述冷卻塔的外部。
[0014] 進(jìn)一步地，所述清洗機(jī)的密封罩的外部設(shè)有清洗提籃和運動滑塊裝置，所述運動 滑塊裝置設(shè)置于所述清洗裝置的上部，并穿過所述蒸氣浴室的內(nèi)部，所述清洗提籃通過所 述運動滑塊裝置進(jìn)出所述清洗裝置。
[0015] 進(jìn)一步地，所述清洗裝置包括第一清洗槽，所述第一清洗槽的上部通過連接管道 連接至所述渦流泵的出口，所述第一接口設(shè)置于所述第一清洗槽的下部，所述運動滑塊裝 置設(shè)置于所述第一清洗槽的上部。
[0016] 更進(jìn)一步地，所述清洗裝置包括第一清洗槽和第二清洗槽，所述第一清洗槽的上 部通過連接管道連接至所述渦流泵的出口，所述第一接口設(shè)置于所述第二清洗槽的下部， 所述運動滑塊裝置設(shè)置于所述第一清洗槽和所述第二清洗槽的上部，所述第一清洗槽與所 述第二清洗槽通過溢流管道相連接。
[0017] 再進(jìn)一步地，所述清洗裝置包括第一清洗槽、第二清洗槽和蒸氣槽，所述第一清洗 槽的上部通過連接管道連接至所述渦流泵的出口，所述第一接口設(shè)置于所述蒸氣槽的下 部，所述運動滑塊裝置設(shè)置于所述第一清洗槽和所述第二清洗槽的上部，所述第一清洗槽 與所述第二清洗槽通過溢流管道相連接，所述第二清洗槽與所述蒸氣槽通過溢流管道相連 接。
[0018] 優(yōu)選的，所述清洗機(jī)還包括超聲波控制器和超聲波震子，所述超聲波控制器位于 所述清洗機(jī)的密封罩的外部，并與所述超聲波震子相連接，所述超聲波震子均勻地分布在 所述第一清洗槽的底部，或者所述第一清洗槽和所述第二清洗槽的底部。
[0019] 優(yōu)選的，所述連接管道為不銹鋼材質(zhì)。
[0020] 可選的，所述冷凝回收裝置包括壓縮機(jī)、冷盤管和回收槽，所述壓縮機(jī)與所述冷盤 管相連接，所述冷盤管位于所述回收槽的上方，所述回收槽的下方設(shè)有第二接口用于連接 所述蒸饋槽或所述新液槽。
[0021] 根據(jù)本申請?zhí)峁┑囊环N攝像頭芯片清洗設(shè)備，能夠帶來至少以下有益效果之一：
[0022] (1)節(jié)約成本。本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備具有蒸餾機(jī)和清洗機(jī)，所述 清洗機(jī)內(nèi)部還具有冷凝回收裝置，所述冷凝回收裝置與所述蒸餾機(jī)共同組成清洗劑的蒸餾 回收系統(tǒng)，用于將清洗劑進(jìn)行回收，并可循環(huán)利用。
[0023] (2)清洗的攝像頭芯片潔凈度高、清洗全面。本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè) 備具有清洗裝置，所述清洗裝置具有多個清洗槽和蒸氣槽，能夠?qū)崿F(xiàn)攝像頭芯片的多次清 洗和蒸氣浴洗，且該清洗機(jī)還具有超聲波清洗，更能夠?qū)z像頭芯片清洗全面徹底。
[0024] (3)清洗攝像頭芯片的效率高。使用本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備，清洗 的數(shù)量一次可達(dá)15條，是現(xiàn)有技術(shù)中離心式水洗機(jī)的2倍以上，具有較高的工作效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025] 圖1示出了本實用新型實施例提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的蒸餾機(jī)的結(jié)構(gòu)示意 圖；
[0026] 圖2示出了本實用新型實施例提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)示意 圖；以及
[0027] 圖3示出了圖2所示的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗裝置和部分冷凝回收裝置的結(jié) 構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0028] 下面參照附圖詳細(xì)介紹本實用新型的示例性實施例。提供這些示例性實施例的目 的是為了使得本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠清楚地理解本實用新型，并且根據(jù)這里的描述能夠 實現(xiàn)本實用新型。附圖和具體實施例不旨在對本實用新型進(jìn)行限定，本實用新型的范圍由 所附權(quán)利要求限定。
[0029] 圖1示出了本實用新型實施例提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的蒸餾機(jī)的結(jié)構(gòu)示意 圖；圖2示出了本實用新型實施例提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。參 照圖1和圖2,該攝像頭芯片清洗設(shè)備，包括蒸餾機(jī)和清洗機(jī)。
[0030] 所述蒸餾機(jī)，包括冷凝裝置、蒸餾槽13、新液槽14以及渦流泵15,該冷凝裝置位于 該蒸餾槽13上方，該新液槽14分別與所述冷凝裝置和所述渦流泵15通過連接管道相連 接；以及
[0031] 所述清洗機(jī)，包括清洗裝置和冷凝回收裝置，該清洗裝置的上部通過連接管道連 接至所述渦流泵15的出口，并于所述清洗裝置的上部設(shè)有蒸氣浴室24,下部設(shè)有第一接口 25用于連接上述蒸餾槽13,所述冷凝回收裝置與上述蒸氣浴室24相連通，并通過連接管道 與上述蒸餾機(jī)相連接。
[0032] 參照圖1和圖2,該蒸餾機(jī)外部和該清洗機(jī)的上述蒸氣浴室24的外部均設(shè)有密封 罩3,用以防止清洗劑的揮發(fā)和過度損耗，使清洗劑回收得更徹底。
[0033] 清洗攝像頭芯片的清洗可以用純水為介質(zhì)，也可以以氫氟醚為介質(zhì)。本實用新型 提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的介質(zhì)最好選用氫氟醚為介質(zhì)，因為氫氟醚在蒸餾后潔凈度比 純水更高，并且氫氟醚本身具有一定的溶解力，可以有效去除攝像頭芯片表面的油性臟污 及松香，在潔凈方面更勝一籌。針對氫氟醚的蒸發(fā)氣化熱小的特點，本實用新型提供的攝像 頭芯片清洗設(shè)備的蒸餾機(jī)的外部和清洗機(jī)的蒸氣浴室24的外部均應(yīng)設(shè)有密封罩3,以利于 清洗劑氫氟醚的回收利用。
[0034] 參照圖1，上述蒸餾機(jī)的冷凝裝置包括冷凝管121，或者包括冷凝管121和冷卻塔 122,所述冷凝管121設(shè)置于所述冷卻塔122的外部。
[0035] 針對清洗劑氫氟醚可蒸餾回收的特點，本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備設(shè) 有蒸餾回收裝置來實現(xiàn)清洗劑的基本凈化循環(huán)使用。上述冷凝裝置最好同時包括冷凝管 121和冷卻塔122,這樣可提高清洗劑的蒸餾回收效率。
[0036] 需要注意的是，本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的蒸餾機(jī)內(nèi)的冷凝裝置并 不局限于冷凝管121和冷卻塔122,只要是可實現(xiàn)清洗劑冷凝回收的裝置即可。
[0037] 上述蒸餾機(jī)還包括電控箱16,所述電控箱16設(shè)置于該蒸餾機(jī)的密封罩3的外部， 以方便工作人員對該蒸餾機(jī)進(jìn)行操作。
[0038] 上述冷凝裝置與上述新液槽14之間有一連通管道，用以將蒸餾的清洗劑冷凝回 收。另外，該冷凝裝置與該新液槽14之間還設(shè)有一卸壓管道17,用以防止冷凝裝置內(nèi)部的 水壓過高。
[0039] 上述新液槽14其實就是一個用以收集蒸餾冷凝后的清洗劑的容器，上述渦流泵 15是現(xiàn)有技術(shù)中已有的，并且本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的蒸餾機(jī)內(nèi)的用以輸 送液體的泵不局限于渦流泵15,只要是可以實現(xiàn)輸送清洗劑的泵即可。但是，本實用新型 中采用的渦流泵15具有很強的自吸力，距液面8米可以吸入液體。而且它的容積比離心泵 小，能迅速排出殘留液體，大大縮短取樣時間并保證采樣的準(zhǔn)確性，有效提高了工作效率。
[0040] 圖3示出了圖2所示的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗裝置和部分冷凝回收裝置的結(jié) 構(gòu)示意圖。參照圖2和圖3,本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)密封罩3的外 部設(shè)有清洗提籃271和運動滑塊裝置272,所述運動滑塊裝置272設(shè)置于所述清洗裝置的上 部，并穿過所述蒸氣浴室24的內(nèi)部，所述清洗提籃271通過所述運動滑塊裝置272進(jìn)出所 述清洗裝置。
[0041] 上述清洗提籃271可以是任何能夠進(jìn)出上述清洗裝置的，并能夠儲存攝像頭芯片 但不儲存清洗劑的即可。上述清洗提籃271設(shè)有一個即可，在能夠通過上述運動滑塊裝置 272進(jìn)出上述清洗裝置的前提下使清洗提籃271的容量盡量大，以提高該清洗機(jī)的工作效 率。
[0042] 上述運動滑塊裝置272能夠控制該清洗提籃271進(jìn)出所述清洗裝置，并能控制該 清洗提籃271停留在所需位置。
[0043] 另外，本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)還包括觸控操作面板29， 該觸控操作面板29位于該清洗機(jī)的密封罩3的外部，并可以方便工作人員操作該清洗機(jī)， 也可以通過該觸控操作面板29對上述運動滑塊裝置272進(jìn)行操控。
[0044] 參照圖2和圖3,本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)的清洗裝置包 括第一清洗槽21，所述第一清洗槽21的上部通過連接管道連接至所述渦流泵15的出口，所 述第一接口 25設(shè)置于所述第一清洗槽21的下部，所述運動滑塊裝置272設(shè)置于所述第一 清洗槽21的上部。
[0045] 參照圖2和圖3,本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)的清洗裝置包 括第一清洗槽21和第二清洗槽22,所述第一清洗槽21的上部通過連接管道連接至所述渦 流泵15的出口，所述第一接口 25設(shè)置于所述第二清洗槽22的下部，所述運動滑塊裝置272 設(shè)置于所述第一清洗槽21和所述第二清洗槽22的上部，所述第一清洗槽21與所述第二清 洗槽22通過溢流管道相連接。
[0046] 參照圖2和圖3,本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)的清洗裝置包 括第一清洗槽21、第二清洗槽22和蒸氣槽23,所述第一清洗槽21的上部通過連接管道連 接至所述渦流泵15的出口，所述第一接口 25設(shè)置于所述蒸氣槽23的下部，所述運動滑塊 裝置272設(shè)置于所述第一清洗槽21和所述第二清洗槽22的上部，所述第一清洗槽21與所 述第二清洗槽22通過溢流管道相連接，所述第二清洗槽22與所述蒸氣槽23通過溢流管道 相連接。
[0047] 需要注意的是，上述清洗裝置包括的裝置組合并不局限于上述的例舉，比如包括 一個清洗槽和一個蒸氣槽的組合。當(dāng)然，該清洗裝置可以包括更多的清洗槽以提高清洗攝 像頭芯片的潔凈度，但是包括的清洗槽的個數(shù)越多清洗攝像頭芯片的效率就越低。另外，上 述清洗裝置最好包括蒸氣槽23,雖然氫氟醚清洗劑具有蒸發(fā)氣化熱小的特點，但為了獲得 更高的清洗攝像頭芯片的潔凈度，應(yīng)運用蒸氣槽23釋放更多的氫氟醚蒸氣，使攝像頭芯片 可以進(jìn)行蒸氣浴洗。
[0048] 參照圖2和圖3,本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)還包括超聲波 控制器281和超聲波震子282,所述超聲波控制器281位于所述清洗機(jī)的密封罩3的外部， 并與所述超聲波震子282相連接，所述超聲波震子282均勻地分布在所述第一清洗槽21的 底部，或者所述第一清洗槽21和所述第二清洗槽22的底部。
[0049] 上述超聲波控制器281和超聲波震子282均為現(xiàn)有技術(shù)中已有的，本實用新型提 供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)也可以不包括超聲波控制器281和超聲波震子282,但 是該清洗機(jī)若包括超聲波控制器281和超聲波震子282,則可以全方位的對攝像頭芯片進(jìn) 行清洗，達(dá)到更好的清洗效果。
[0050] 參照圖2和圖3,本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的清洗機(jī)的冷凝回收裝 置包括壓縮機(jī)261、冷盤管262和回收槽263,所述壓縮機(jī)261與所述冷盤管262相連接，所 述冷盤管262位于所述回收槽263的上方，所述回收槽263的下方設(shè)有第二接口 26用于連 接所述蒸餾槽13或所述新液槽14。
[0051] 上述冷凝回收裝置主要是用于回收氫氟醚蒸氣的，所以所述的冷凝回收裝置不局 限于上述的壓縮機(jī)261、冷盤管262和回收槽263,可以是其他可以冷凝回收氫氟醚蒸氣的 任何裝置。
[0052] 需要注意的是，上述回收槽263的下方設(shè)有的第二接口 26連接所述蒸餾槽13與 連接所述新液槽14的情況相比，第二接口 26連接新液槽14的工作效率要高于第二接口 26 連接蒸餾槽13,但是第二接口 26連接新液槽14情況下回收的清洗劑的潔凈度不如第二接 口 26連接蒸餾槽13情況下回收的清洗劑的潔凈度高。
[0053] 另外，上述蒸氣槽23和上述回收槽263上均設(shè)有用于方便清潔其各自內(nèi)部的開 □。
[0054] 最后需要注意的是，本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備中各個裝置之間的上 述連接管道均為不銹鋼材質(zhì)，以提高該攝像頭芯片清洗設(shè)備的使用壽命。
[0055] 下面參照圖1至圖3介紹一下本實用新型提供的攝像頭芯片清洗設(shè)備的操作流 程：
[0056] a.作業(yè)前，將氫氟醚加入上述蒸餾機(jī)的蒸餾槽5中，經(jīng)加熱蒸餾后，產(chǎn)生潔凈的液 體流入上述蒸餾機(jī)的新液槽14儲存；
[0057] b.清洗液流向，經(jīng)渦流泵15將上述新液槽14的液體送入上述清洗機(jī)的第一清洗 槽21，待其中液體裝滿之后，液體將溢流至第二清洗槽22,第二清洗槽22的液體裝滿之后， 液體將再溢流至上述清洗機(jī)的蒸氣槽23,而該蒸氣槽23的液體裝滿之后，將直接流入上述 蒸餾機(jī)的蒸餾槽5 ;
[0058] c.綜上所述，理論上上述蒸餾機(jī)的新液槽14的液體最為潔凈，其次為上述清洗機(jī) 的第一清洗槽21，再次為第二清洗槽22,而上述清洗機(jī)的蒸氣槽23將在加熱的作用下產(chǎn)生 蒸氣；
[0059] d.清洗作業(yè)步驟。機(jī)器在加滿氫氟醚并正常運轉(zhuǎn)后，液體將按如上a，b項所述的 方向流動，以保證清洗液的潔凈度。清洗時，將產(chǎn)品放入上述清洗機(jī)的第二清洗槽22進(jìn)行 清洗，清洗完成后，清洗提籃271將上升至第二清洗槽22的液體表面，此時上述蒸氣槽23 將源源不斷的釋放氫氟醚蒸氣，使產(chǎn)品進(jìn)入蒸氣浴洗階斷，產(chǎn)品在完成蒸氣浴洗后，再經(jīng)運 動滑塊裝置272上升至第二清洗槽22頂部，在自然條件風(fēng)干并完成清洗。第二清洗槽22 的清洗完成后，再將產(chǎn)品放入上述清洗機(jī)的第一清洗槽21進(jìn)行清洗，清洗完成后，清洗提 籃271將上升至第一清洗槽21的液體表面，使產(chǎn)品進(jìn)入蒸氣浴洗階斷，產(chǎn)品在完成蒸氣浴 洗后，再上升至第一清洗槽21的頂部，在自然條件風(fēng)干并完成清洗。
[0060] 以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本 領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則 之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，包括： 蒸餾機(jī)，包括冷凝裝置、蒸餾槽（13)、新液槽（14)以及渦流泵（15)，所述冷凝裝置位于 所述蒸餾槽（13)上方，所述新液槽（14)分別與所述冷凝裝置和所述渦流泵（15)通過連接 管道相連接；以及 清洗機(jī)，包括清洗裝置和冷凝回收裝置，所述清洗裝置的上部通過連接管道連接至所 述渦流泵（15)的出口，并于所述清洗裝置的上部設(shè)有蒸氣浴室（24)，下部設(shè)有第一接口 (25)用于連接所述蒸餾槽（13)，所述冷凝回收裝置與所述蒸氣浴室（24)相連通，并通過連 接管道與所述蒸餾機(jī)相連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述蒸餾機(jī)的外部和所 述清洗機(jī)的所述蒸氣浴室（24)的外部均設(shè)有密封罩（3)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述冷凝裝置包括冷凝 管（121)，或者包括冷凝管（121)和冷卻塔（122)，所述冷凝管（121)設(shè)置于所述冷卻塔 (122)的外部。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗機(jī)的密封罩（3) 的外部設(shè)有清洗提籃（271)和運動滑塊裝置（272)，所述運動滑塊裝置（272)設(shè)置于所述清 洗裝置的上部，并穿過所述蒸氣浴室（24)的內(nèi)部，所述清洗提籃（271)通過所述運動滑塊 裝置（272)進(jìn)出所述清洗裝置。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗裝置包括第一 清洗槽（21)，所述第一清洗槽（21)的上部通過連接管道連接至所述渦流泵（15)的出口，所 述第一接口（25)設(shè)置于所述第一清洗槽（21)的下部，所述運動滑塊裝置（272)設(shè)置于所 述第一清洗槽（21)的上部。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗裝置包括第一 清洗槽（21)和第二清洗槽（22)，所述第一清洗槽（21)的上部通過連接管道連接至所述渦 流泵（15)的出口，所述第一接口（25)設(shè)置于所述第二清洗槽（22)的下部，所述運動滑塊 裝置（272)設(shè)置于所述第一清洗槽（21)和所述第二清洗槽（22)的上部，所述第一清洗槽 (21)與所述第二清洗槽（22)通過溢流管道相連接。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗裝置包括第一 清洗槽（21)、第二清洗槽（22)和蒸氣槽（23)，所述第一清洗槽（21)的上部通過連接管道 連接至所述渦流泵（15)的出口，所述第一接口（25)設(shè)置于所述蒸氣槽（23)的下部，所述 運動滑塊裝置（272)設(shè)置于所述第一清洗槽（21)和所述第二清洗槽（22)的上部，所述第 一清洗槽（21)與所述第二清洗槽（22)通過溢流管道相連接，所述第二清洗槽（22)與所述 蒸氣槽（23)通過溢流管道相連接。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗機(jī)還包括超 聲波控制器（281)和超聲波震子（282)，所述超聲波控制器（281)位于所述清洗機(jī)的密封 罩（3)的外部，并與所述超聲波震子（282)相連接，所述超聲波震子（282)均勻地分布在所 述第一清洗槽（21)的底部，或者所述第一清洗槽（21)和所述第二清洗槽（22)的底部。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述連接管 道為不銹鋼材質(zhì)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1的攝像頭芯片清洗設(shè)備，其特征在于，所述冷凝回收裝置包括壓縮 機(jī)（261)、冷盤管（262)和回收槽（263)，所述壓縮機(jī)（261)與所述冷盤管（262)相連接， 所述冷盤管（262)位于所述回收槽（263)的上方，所述回收槽（263)的下方設(shè)有第二接口 (26)用于連接所述蒸餾槽（13)或所述新液槽（14)。
【文檔編號】B08B3/08GK203886852SQ201420288149
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2014年5月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月30日
【發(fā)明者】李伶文 申請人:東莞市郴電自動化科技有限公司