真空爐清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種真空降解清洗裝置，具體為一種真空爐清洗裝置，包括底座、爐體和爐蓋，爐蓋固定連接有支架，支架鏈接在底座上，支架與底座垂直設(shè)置；爐體內(nèi)置有加熱器，爐體底部開設(shè)有廢料收集斗；爐蓋上設(shè)有放置工件的料斗；爐體另一側(cè)從上往下依次設(shè)有超壓安全閥、供水系統(tǒng)和真空泵。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)合理，能有效的回收熱解后的高分子聚合物等有機(jī)廢料，能有效的降低高分子聚合物在降解作用下產(chǎn)生的污染物的排放，環(huán)保，清洗效果好。
【專利說明】真空爐清洗裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及紡絲輔助設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是一種針對(duì)紡絲行業(yè)中過濾器、噴絲板和噴絲組件等公件上附著的高分子聚合物的真空降解清洗裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]目前，大量的應(yīng)用在紡絲行業(yè)中，針對(duì)過濾器、噴絲板和噴絲組件等公件上附著的高分子聚合物清洗的方式，是以化學(xué)溶解或是高溫煅燒等方式為主。化學(xué)溶解劑不但是一種有毒介質(zhì)，而且易燃、易導(dǎo)致環(huán)境污染；高溫煅燒容易導(dǎo)致精細(xì)工件的損壞，也會(huì)導(dǎo)致大量不可降解的污染物的排放。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是:克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，環(huán)保，清洗效果好的真空爐清洗裝置。
[0004]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種真空爐清洗裝置，具有底座，所述底座上方同軸向設(shè)有爐體和爐蓋，爐蓋固定連接有支架，支架通過軌道活動(dòng)鏈接在底座上，支架與底座垂直設(shè)置；所述爐體內(nèi)置有加熱器，加熱器上方設(shè)有淋水器，爐體底部開設(shè)有用于收集高分子聚合物熔化物的廢料收集斗；所述爐蓋上設(shè)有放置工件的料斗；所述爐體另一側(cè)從上往下依次設(shè)有超壓安全閥、供水系統(tǒng)和真空泵。
[0005]進(jìn)一步地，所述爐體內(nèi)壁設(shè)有保溫層，保溫層材質(zhì)為石棉。
[0006]進(jìn)一步地，所述料斗底端設(shè)有落料口，當(dāng)爐蓋閉合后，落料口與廢料收集斗上下匹配。
[0007]進(jìn)一步地，所述爐體上連接設(shè)有觸媒裝置和控制器，觸媒裝置內(nèi)裝有催化劑，控制器用于控制真空爐清洗裝置的整個(gè)電源和信號(hào)。
[0008]進(jìn)一步地，所述爐體上連接有真空壓力表，用于直觀地觀察爐體內(nèi)的真空度。
[0009]本實(shí)用新型工作原理:利用高分子聚合物在300度左右時(shí)可熔融，高于300度隔絕空氣可裂解焦化，高于400度在有少量空氣并有一定真空度的環(huán)境中可完全氧化的特性。先將粘有高分子污物的工件加熱到300度，使工件上數(shù)量較多的高分子聚合物熔化后流淌到爐體底端的廢料收集斗內(nèi)，然后再將爐溫升到400-500度，同時(shí)打開真空泵，并通入少量新鮮空氣，在催化劑作用下，使剩余的聚合物充分氧化，生成的二氧化碳，經(jīng)淋水器中的水噴淋后通過真空泵抽吸,和水一起排出爐外。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)合理，能有效的回收熱解后的高分子聚合物等有機(jī)廢料，能有效的降低高分子聚合物在降解作用下產(chǎn)生的污染物的排放，環(huán)保，清洗效果好。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0012]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2是圖1的左視圖。
[0014]其中:1.爐體，2.爐蓋，3.保溫層，4.加熱器，5.超壓安全閥，6.供水系統(tǒng)，7.真空泵，8.廢料收集斗，9.料斗，10.落料口，11.支架，12.淋水器，13.觸媒裝置，14.控制器。

【具體實(shí)施方式】
[0015]現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖僅以示意方式說明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。
[0016]如圖1和圖2所示的真空爐清洗裝置，具有底座，所述底座上方同軸向設(shè)有爐體I和爐蓋2，爐蓋2固定連接有支架11，支架11通過軌道活動(dòng)鏈接在底座上；爐體I內(nèi)置有加熱器4，加熱器4上方設(shè)有淋水器12，爐體I底部開設(shè)有廢料收集斗8 ;爐蓋2上設(shè)有放置工件的料斗9 ;爐體I另一側(cè)從上往下依次設(shè)有超壓安全閥5、供水系統(tǒng)6和真空泵7。
[0017]爐體I內(nèi)壁設(shè)有保溫層3 ;料斗9底端設(shè)有落料口 10 ;爐體I上連接設(shè)有觸媒裝置13和控制器14 ;爐體I上連接有真空壓力表。
[0018]工作時(shí)，打開爐蓋2，將需要清洗的工件放入料斗9，關(guān)好爐蓋2并鎖緊；開啟真空泵7，檢查各處是否密封良好，真空壓力表上顯示真空度為-0.08MPa ;操作控制器14，啟動(dòng)加熱器4，將工件加熱至30(TC，保溫120分鐘；爐溫升至310°C，打開供水系統(tǒng)6和真空泵7，淋水器12工作，真空度達(dá)到0.08MPa,加熱器4繼續(xù)工作，將工件加熱至450°C，保溫300分鐘；關(guān)閉加熱器4，等爐溫降至200°C以下，關(guān)閉供水系統(tǒng)6 ;等爐溫降至120°C以下，打開爐蓋2，取出已經(jīng)清洗好的工件。
[0019]以上述依據(jù)本實(shí)用新型的理想實(shí)施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)實(shí)用新型技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)實(shí)用新型的技術(shù)性范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來確定其技術(shù)性范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種真空爐清洗裝置，其特征在于:具有底座，所述底座上方同軸向設(shè)有爐體(I)和爐蓋(2)，爐蓋(2)固定連接有支架(11)，支架(11)通過軌道活動(dòng)鏈接在底座上；所述爐體(I)內(nèi)置有加熱器(4)，加熱器(4)上方設(shè)有淋水器(12)，爐體(I)底部開設(shè)有廢料收集斗(8);所述爐蓋(2)上設(shè)有放置工件的料斗(9);所述爐體(I)另一側(cè)從上往下依次設(shè)有超壓安全閥(5)、供水系統(tǒng)(6)和真空泵(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空爐清洗裝置，其特征在于:所述爐體(I)內(nèi)壁設(shè)有保溫層⑶。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空爐清洗裝置，其特征在于:所述料斗(9)底端設(shè)有落料口(10)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空爐清洗裝置，其特征在于:所述爐體(I)上連接設(shè)有觸媒裝置(13)和控制器(14)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空爐清洗裝置，其特征在于:所述爐體(I)上連接有真空壓力表。
【文檔編號(hào)】B08B7/04GK204035134SQ201420482271
【公開日】2014年12月24日 申請(qǐng)日期:2014年8月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月25日
【發(fā)明者】徐漢興, 李協(xié)智 申請(qǐng)人:張家港錦億化纖有限公司