專利名稱：半導體晶片等的處理方法及其處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及半導體晶片等的處理方法及其控制裝置，詳細地說，涉及對下述蒸汽處理方法及其處理裝置的改良。這種蒸汽處理方法及其改良裝置是在已進行過從半導體硅晶片、液晶基板及其掩模用基板等的被干燥介質的表面上，用數種清洗用藥液除掉灰塵、有機殘留物或無機殘留物等的藥液處理(化學處理)之后，把進行用清洗用純水從被干燥介質的表面上洗掉上述清洗用藥液的最終的水洗處理(沖洗處理)的這一連串的清洗處理，接著在該清洗處理中的最終的水洗處理結束之后，除去附著殘留在被干燥介質的表面上的上述清洗用純水，即附著水(水滴)的干燥處理為止，在密閉著的容器中分步驟地進行。特別是對附著殘留在被干燥介質的表面上的上述附著水的除去，用由易于與該附著水混合且表面張力極小的例如IPA(異丙醇)溶劑等組成的有機溶劑的混合置換來進行干燥。
以往，作為從被干燥介質的表面上用若干種清洗用藥液除掉灰塵、有機殘留物或無機殘留物的藥液處理，到用清洗用純水從被干燥介質的表面上洗掉該藥液的最終的水處理為止的一連串的清洗處理和、在該清洗處理結束之后，把附著殘留在被干燥介質的表面上的附著水(水滴)，用例如由IPA(異丙醇)溶劑等組成的有機溶劑的蒸汽之間的混合置換進行除去的干燥處理，在密閉著的容器內進行的蒸汽處理方法，人們開發(fā)提出了種種的方法。
例如，人們知道在日本國出愿特開昭62-136825號(以后，稱之為前者)和日本國出愿特開平7-130699號(以后，稱之為后者)等的公開公報中的提案。
但是，在前者的蒸汽處理方法中，在一連串的清洗處理之后，要向容器內邊從其上部供給有機溶劑的蒸汽邊把清洗用純水壓向下方使之從容器的底部一側排出那樣地進行排液。即，在把清洗用純水向容器外全部壓出排液期間，必須連續(xù)地而且邊加上把清洗用純水壓向下方使之從容器的底部一側進行排液所必要的合適的壓力邊供給有機溶劑的蒸汽。因此，在前者中，由于每進行一次干燥處理(每一循環(huán)處理)都必須向容器內供給大量的有機溶劑，大量使用高價的有機溶劑在成本上是不利的，是不經濟的。所以，為了把容器內的清洗用純水壓出到容器以外，必須邊加必要的壓力邊向容器內供給有機溶劑的蒸汽，因此必須有泵之類的氣體加壓裝置。
另一方面，在后者中，在用已供給了清洗用純水的清洗槽進行完一連串的清洗處理中的最終的水洗處理之后，在把被干燥介質從該清洗槽的純水中向上提拉到密閉包圍清洗槽的其上方的密閉室去的同時開始向該密閉室內供給有機溶劑的蒸汽，使之凝縮到被提拉到密閉室內的被干燥介質的表面上，用這種辦法進行與該表面附著水的置換。即，有機溶劑的蒸汽向密閉室內的供給至少在被干燥介質從純水中的提拉已完全結束之前要連續(xù)地，而在用蒸汽把從純水中把被干燥介質完全提拉上來的寬大的密閉室內充滿之前要繼續(xù)地進行。因此，即使是在后者中，也和前者一樣，由于每一次干燥處理(每一次循環(huán)處理)都必須連續(xù)地供給大量的有機溶劑，故存在著在價格上不利，不經濟的問題。
于是，本發(fā)明人在反復進行了種種研究的結果，使已供給到容器內的有機溶劑的一部分在液體水面上進行凝縮，并在該水面上，形成一從被干燥介質的表面向著該水面的適當的厚度的混合層。而且使該混合層在比靠近被干燥介質的表面的一側還靠近水面的一側這一方與有機溶劑之間的混合濃度低。即，著眼于產生使借助于與有機溶劑之間的混合濃度分布的梯度，使液體從被干燥介質的表面一側向水面一側流動的液流發(fā)生表面張力，實現了本發(fā)明。
本發(fā)明的目的是，提供一種在使用了有機溶劑的被干燥介質的蒸汽干燥處理中，使得可以大幅度地削減每一次干燥處理(每一次循環(huán)處理)的有機溶劑的使用量的半導體晶片等的處理方法及其處理裝置。
本發(fā)明的另一目的是，提供一種除與有機溶劑之間的混合置換作用之外使得還可以用張力有效且確實地從被干燥介質的表面上除去附著水的半導體晶片等的處理方法及其處理裝置。
本發(fā)明的其它目的將從詳細的說明和附圖中了解清楚。
這些目的可以用本發(fā)明所提供的半導體晶片等的處理方法及其處理裝置達到。
本發(fā)明的處理方法，是一種在密閉的容器室內，進行從被干燥介質的清洗處理到干燥處理為止的一連串的處理的半導體晶片等的處理方法，包含有下述工序把多片被干燥介質垂直并排地運進放置在上述容器室內，在進行完清洗處理中的最終的水洗處理之后，向上述容器室內供給溫純水的工序；從上述容器室內的至少上述溫純水的水面向在其上部一側確保的上部空間中供給有機溶劑的蒸汽或霧的工序；在停止了上述有機溶劑的供給之后，邊從容器的底部一側吸引排液上述溫純水邊從其上部一側連續(xù)地供給惰性氣體的工序；在上述溫純水的吸引排液完畢之后，用繼續(xù)進行的上述吸引使容器內吸引減壓，使被干燥介質干燥的工序，并且，至少在從容器的底部一側吸引排液溫純水的工序中，在溫純水的吸引排液結束期間，要邊進行管理控制，使得容器內的減壓度保持到預定的設定減壓度，邊進行被干燥介質的干燥處理。
此外，在上述的處理方法中，在向容器室內供給溫純水之際把水溫設定為30～60℃的范圍內，而在把溫純水吸引液到容器外的吸引排液結束期間，把容器內的設定減壓度設定在-350～-50mmHg的范圍內，理想的是把溫純水的溫度設定為40～50℃的范圍內，把容器內的減壓度設定為-300～-150mmHg的范圍內，特別是把溫純水的水溫設定為45℃，把容器內的設定減壓度設定為-240mmHg。
此外，在上述的處理方法中，在向容器內供給有機溶劑的時候，要使得邊對該容器內進行吸引排氣邊供給。而該有機溶劑的供給至少要進行到用有機溶劑把容器內的上部空間充滿為止。即，進行到有機溶劑到達由于溫純水的吸引排液而伴生的該溫純水的水面的下降而露出的全部被干燥介質為止。
另外，本發(fā)明的處理方法，是一種在密閉的容器內，進行從被干燥介質的清洗處理到干燥處理為止的一連串的處理的半導體晶片等的處理方法，把多片的被干燥介質垂直并排地運進上述容器內，在已開始了從清洗處理到干燥處理為止的各個處理步驟內至少到清洗處理的水洗處理為止連續(xù)地向該容器內供給惰性氣體的狀態(tài)下，進行清洗處理中的水洗處理。
因此，倘采用上述的本發(fā)明的處理方法，則在從藥液清洗到最終的水洗處理為止的一連串的清洗處理結束之后，采用向容器內供給水溫為30～65℃范圍的溫純水，直到把被干燥介質沒入狀地浸泡起來的水位為止的辦法，使得用溫純水的熱能把被干燥介質加熱到30～65℃附近的所需的溫度為止，以促進干燥處理時的干燥。接著，在從溫純水的水面向已在其上部一側確保的上部空間內供給蒸汽化或霧化了的有機溶劑，在該有機溶劑的供給停止后開始的、從容器的底部一側對溫純水進行吸引排液的工序中，在溫純水的吸引排液結束的期間，把容器內的減壓度保持在-350～-50mmHg的設定減壓度。這樣一來，已供給到容器內的有機溶劑的蒸汽或霧的一部分就將在溫純水的水面上凝縮，在該水面上形成混合液層，而其蒸汽化或霧化則用已保持為容器內的設定減壓度的減壓氣氛和溫純水的熱能進行保持，并在隨著溫純水的水面下降而露出的被干燥介質的表面上凝縮并進行與該表面的附著水之間的混合置換，該附著水與有機溶劑之間的混合液一起順著被干燥介質的表面，向著溫純水的水面滴下，并且隨著從在上述混合液層上所產生的被干燥介質的表面向溫純水的水面的液流而從該表面上除去。即，被干燥介質通過與有機溶劑之間的混合置換所產生的置換作用和從被干燥介質的表面向著溫純水的水面導入附著水的混合液層所產生的液流作用這兩個作用進行干燥處理。借助于已保持于設定減壓度的容器內的減壓氣氛和溫純水的熱能，反復連續(xù)地進行有機溶劑在從上述混合液層露出來的被干燥介質的周圍再次被蒸汽化和在其表面上的前邊說過的凝縮。
其次，在向容器內的上部空間中供給有機溶劑的蒸汽或霧的工序中，采用邊對容器內進行吸引排氣邊供給的辦法平穩(wěn)地向該容器的上部空間中導入有機溶劑的蒸汽或霧，在短時間內，使已用有機溶劑把該上部空間充滿的溶劑氛圍汽化。用這種辦法，就可以平穩(wěn)地進行向以后的處理工序的轉移。采用用吸引排氣使容器內適當減壓的辦法，使有機溶劑在比在大氣壓(常壓)中的沸點還低的溫度下汽化。用這種辦法，就可在低的溫度狀態(tài)下，在上部空間里制作出溶劑(蒸汽)氣氛。
本發(fā)明的處理裝置，是一種在密閉的容器內，進行從被干燥介質的清洗處理到干燥處理為止的一連串的處理的半導體晶片等的處理裝置，在容器的上部一側具備有大小為可以至少把多片被干燥介質并排垂直地運進收容起來，形狀為在上部開了口的有底箱形，在上部開口處具有自由開閉密閉蓋的容器；連接到該容器底部一側上，依據從被干燥介質的清洗處理開始到干燥處理為止的各個處理步驟打開藥液閥門和純水閥門，通過給液通路，向上述容器內供給藥液和純水，直到至少把被干燥介質浸泡為沒入狀態(tài)為止，同時，在清洗處理中的水洗處理結束之后，打開溫純水閥門通過給液通路直到上述水位為止供給溫純水的給液裝置；至少被連接到該給液裝置和上述容器的上部一側或同一容器的底部一側，打開排液閥門通過排液通路從上述容器內使藥液和純水，及溫純水相應于上述各個處理步驟進行吸引排液的排液裝置；連接到上述容器的上部一側，打開溶劑閥門通過溶劑供給通路向容器內供給有機溶劑的蒸汽或霧的溶劑供給裝置；連接到同一容器的上部一側，打開氣體閥門通過氣體供給通路向容器內供給惰性氣體的氣體供給裝置；且至少在從容器的底部一側通過上述排液通路對溫純水進行吸引排液的處理步驟中包含有在溫純水的吸引排液結束期間，檢測容器內的減壓度的檢測裝置；連接配備于該檢測裝置和上述排液裝置或氣體供給裝置之間，在上述溫純水的吸引排液結束期間，比較處理從上述檢測裝置輸出出來的現在的減壓度和設定減壓度，使得把容器內的減壓度保持為設定減壓度，并根據該處理信息調節(jié)上述排液裝置的排液速度或氣體供給裝置的供給速度的控制裝置。
此外，在上邊說過的處理裝置中，在把溫純水供往容器內的時候的該水溫設定于30～60℃的范圍內，將溫純水吸引排液到容器外的該吸引排液結束的期間的容器內的設定減壓度設定在-350～-50mmHg的范圍內，理想的是把溫純水的水溫設定在40～50℃的范圍內，把容器內的設定減壓度設定在-300～-150mmHg范圍內，特別理想的是把溫純水的水溫設定為45℃，把容器內的設定減壓度設定為-240mmHg。
因此，倘采用上述的本發(fā)明的處理裝置，則在從開了口的上部開口把多片被干燥介質并排垂直狀地運進收容到容器中后，用密閉蓋把容器的上部開口蓋緊的同時，根據各個處理步驟分步驟地(按次序)打開藥液閥門和純水閥門，以及水溫為30～65℃范圍的溫純水閥門。這樣一來，就從容器的底部一側通過給液裝置的給液通路，根據從被干燥介質的清洗處理到干燥處理的各個處理步驟，向該容器內供給藥液和純水以及溫純水，直到把被干燥介質浸沒進去的水位為止。用這種辦法，使得在容器內形成邊與被干燥介質的表面接觸邊流動的藥液和純水以及溫純水的上升水流，根據上述各個步驟進行處理。這時，已連接到容器的上部一側的排液裝置的排液閥門已打開，多余的藥液、純水和溫純水就通過排液通路吸引排液到容器外邊。
接著，在上述各個處理步驟中的處理已結束了的時刻，打開溶劑供給裝置的溶劑閥門，從容器內的至少是溫純水的水面向在其上部一側所確保的上部空間通過溶劑供給通路供給有機溶劑的蒸汽或霧。這種供給用有機溶劑的蒸汽或霧進行直到使之充滿容器內的上部空間為止。這時，采用用已連接到容器的上部一側的排液裝置繼續(xù)地進行容器內的吸引排氣的辦法，使容器內適當減壓，并在上部空間中用短時間迅速地形成有機溶劑的溶劑氣氛。另外，伴隨著容器內的減壓而連通的溶劑供給裝置內，比如在產生有機溶劑的蒸汽的蒸汽產生部件內也將適當地減壓，所以在比在大氣壓(常壓)中的沸點還低的溫度下，有機溶劑邊被蒸汽化邊通過溶劑供給通路供往容器內，在該容器內形成低溫狀態(tài)的溶劑氣氛。
其次，在容器內的上部空間被有機溶劑充滿了的時刻，關閉溶劑閥門，打開已連接到容器下部一側的排液裝置的排液閥門。這樣一來，容器內的純水就通過排液通路從容器的底部一側被吸引排往容器之外。這時，用檢測裝置檢測伴隨著溫純水的吸引排液所產生的容器內的減壓并逐次輸出到控制裝置，用該控制裝置，比較處理用檢測裝置檢測出來的現在的減壓度和容器內的-350～-50mmHg范圍的設定減壓度，根據該處理信息，用控制裝置進行調節(jié)改變排液裝置的溫純水的排液速度或氣體供給裝置的惰性氣體的供給速度的管理。因此，在溫純水的吸引排液結束期間，容器內保持設定減壓度。即，使已供往容器內的有機溶劑的蒸汽或霧的一部分在溫純水的水面上凝縮，在該水面上形成混合液層的同時，其蒸汽化或霧化要用已保持為容器內的設定減壓度的減壓氣氛和溫純水的熱能進行保持，在隨著溫純水的水面下降而露出的被干燥介質的表面上凝縮，進行與該表面的附著水之間的混合置換，該附著水與有機溶劑之間的混合液一起在順著被干燥介質的表面向溫純水的水面滴下，而且隨著在上述混合液層上產生的從被干燥介質的表面向著溫純水的表面的流液而從該表面上除掉。即，被干燥介質通過與有機溶劑之間的混合置換所產生的置換作用和在被干燥介質的表面向溫純水的水面導入附著水的混合液層上產生的液流作用的雙重作用下進行干燥處理。這時，用已保持為設定減壓度的容器內的減壓氣氛和溫純水的熱能，反復連續(xù)地進行有機溶劑在從上述混合液層向露出來的被干燥介質的周圍再次被蒸汽化，在其表面上進行前邊說過的凝縮。
在容器內的溫純水全部被吸引排液完畢之后，用繼續(xù)進行的該吸引使容器內減壓，進行把殘留在該容器內的有機溶劑、溶劑之間的混合液、濕氣等全部被排到容器之外的被干燥介質的干燥處理。然后，把惰性氣體從其上部一側供往容器內部使該容器返回大氣壓(常壓)打開密閉蓋把被干燥介質從容器內運出來，從清洗處理到干燥處理的一連串的處理就結束了。


圖1的示意圖示出了實施本發(fā)明的半導體晶片等的處理方法的處理裝置的一個例子；圖2是容器的縱剖示意圖；圖3是示出了在吸引排液溫純水的工序中，在溫純水的吸引排液結束了的期間，在反復連續(xù)地進行使已溶進溫純水中的有機溶劑在從該溫純水的水面露出的被干燥介質的周圍再次蒸汽化的該再蒸汽化現象條件成立的容器內，進行的附著水與有機溶劑之間的置換作用和在從被干燥介質的表面向著溫純水的水面的混合液層上產生的液流作用這兩個作用進行的被干燥介質的干燥原理的關鍵部分的放大示意圖；圖4的控制框圖示出了在吸引排液溫純水的工序中，使容器內的減壓度P1保持為設定減壓度P的控制裝置的一個例子；圖5是圖4的控制示意圖；圖6的控制框圖是在吸引排液溫純水的工序中，使容器內的減壓度P1保持為設定減壓度P的控制裝置的另一個例子；圖7是圖6的控制示意圖；圖8的流程圖示出了從清洗處理到干燥處理的一連串的處理中的處理動作；圖9的流程圖示出了在吸引排液溫純水的工序中，把容器內的減壓度P1控制管理為設定減壓度P的其動作；圖10是圖9的時間圖；圖11的流程圖示出了從清洗處理到干燥處理的一連串的處理中的處理動作的另一實施例；圖12是圖11的時間圖；圖13的示意圖示出了實施把容器構成為內外二層構造的本發(fā)明的半導體晶片等的處理方法的處理裝置的一例。
依據附圖對本發(fā)明的實施的具體例進行說明。
圖1的示意圖示出了實施本發(fā)明的半導體晶片等的處理方法的處理裝置的構成例。1是已密閉為可開可閉的容器，2是給液裝置，該裝置連接到容器1的底部一側，用后邊要講的藥液閥門3、純水閥門4和溫純水閥門5這些各個閥門3、4、5的閥片通過給液通路6根據從清洗處理到干燥處理的一連串的各個處理步驟向容器1內供給數種藥液和純水及溫純水直到把被干燥介質W沒入狀地浸泡起來的水位為止；7是排液裝置，該裝置用該給液裝置2的給液通路6和分別連接到上述容器1的上部一側、后邊要講的排液閥門8、9的閥片，根據上述各個處理步驟通過各自的排液通路10、11從容器1內對藥液和純水以及溫純水進行吸引排液；12是溶劑供給裝置，該裝置被連接到容器1的上部一側，并用后邊要講的溶劑閥門13的閥片根據上述各個處理步驟通過溶劑供給通路14向容器1內供給有機溶劑的蒸汽或霧；15是氣體供給裝置，該裝置被連接到容器1的上部一側，并用后邊要講的氣體閥門16的閥片根據上述各個處理步驟通過氣體供給通路17向容器1內供給惰性氣體；18是檢測裝置；該裝置具備于上述容器1的上部一側，檢測容器1內的壓力；19是控制裝置，該裝置根據上述檢測裝置18所檢測出來的檢測信號，調節(jié)由上述氣體供給裝置15進行的惰性氣體向容器1內的供給速度，構成為使得借助于與這些各個裝置2、7、12、15、18、19的從清洗處理到干燥處理的一連串的各個處理步驟對應的動作，可以在密閉容器1內進行從被干燥介質W的清洗處理到干燥處理的一連串的處理。
容器1被構成為呈現有底箱型，其大小(開口形狀)為在垂直狀態(tài)下以一定的間隔約可并排地支持收容多片被干燥介質，而其深度約為把被干燥介質M沒入狀地浸泡起來的同時，在其上部一側可以確保供給惰性氣體的適當容積的上部空間20，且在其上部開有開口，在其上部開口處，開閉自如地具備在把被干燥介質M運進收容之后，就進行密閉的密閉蓋21。構成為把給液裝置2的給液通路6連接到底部一側的同時，把排液裝置7的排液流路11、溶劑供給裝置12的供給流路14、氣體供給裝置15的供給流路17分別連接到其上部一側。
此外，雖然沒有畫出來，但在容器1內備有支持多片被干燥介質W的下半部一側的支持裝置，構成為用該支持裝置使得可以把多片被干燥介質W以適當的間隔垂直并排地收容到容器1內。
給液裝置2所起的作用是，根據被干燥介質W的清洗處理的各個步驟從容器底部的給液口2-1，向容器1內供給數種的藥液和純水等，在被干燥介質W的干燥處理時，在其處理準備步驟會向容器1內供給溫純水，把給液流路6連接到在向中央傾斜的容器1的底部中央開了口的給液口2-1上的同時，通過混合閥門22，把藥液閥門3、純水閥門4和溫純水閥門5連接于該給液流路6上，又在混合閥門22與給液口2-1之間連接備有這些各個閥門3、4、5的總閥門23，構成為使得借助于該總閥門23的閥片和各個閥門3、4、5的閥片，根據被干燥介質W的從清洗處理到干燥處理的各個處理步驟，可以從上述給液口2-1向容器1內連續(xù)地供給藥液、純水和溫純水。
排液裝置7從其上部一側把在被干燥介質W的清洗處理時多余的藥液和純水等排液到容器1的外部。即，起著下述三個作用借助于與被干燥介質W之間的接觸而混入了從其表面上去掉的灰塵、有機殘留物和無機殘留物的溢出水，從其上部一側吸引排液到容器1的外部的作用；在被干燥介質W的干燥處理時為了促進該被干燥介質W的干燥而供往容器1內的溫純水從其底部一側吸引排液到容器1的外部的作用；使之在溫純水的排液結束之后仍繼續(xù)工作以把容器1內的殘留的有機溶劑或濕氣等吸引排液到容器1的外部的作用，構成為使得可以在上述的給液流路6的半道上分支連接排液流路10，并把排液流路11連接到已在相當于把被干燥介質W沒入狀地浸泡起來的水面L的高度的容器1的上部一側部位開了口的排液口7-1上的同時，把排液閥門8、9分別連接備于各排液流路10、11上，借助于排液閥門8、9的閥片通過排液流路11，從其上部一側的排液口7-1把多余的藥液和純水，從其底部的給液口21通過排液流路10把溫純水，分別強制性地吸引排液到容器之外。即，底部的給液口2-1，除去起著把藥液和純水及溫純水供液到容器1內的本來的作用之外，在把溫純水排液到容器1外的情況下，還起著作為排液口的作用。
順便說一下，吸引部件24已變成為由帶流量調節(jié)功能的吸引泵24-1等構成，該泵24-1以一定的排液速度或邊使其排液速度適當可變邊把藥液、純水等和溫純水排液到容器1之外，即，邊使藥液和純水等以及溫純水的排液量保持一定或者邊使其排液量適當可變邊進行排液，并連接到控制裝置19的后邊要講的控制部分19-1上，借助于從該控制部分19-1輸出來的處理信號，特別是變成為使得適當可變調節(jié)為了使溫純水的排液量比現在的排液量還少而使吸引泵24-1的吸引功率減小(下降)，或者，為了比現在的排液量加大而加大吸引泵24-1的吸引功率(上升)等的吸引泵24-1的吸引輸出功率。
溶劑供給裝置12是一種起著下述作用的裝置在被干燥介質W的清洗處理中的最終的水洗處理結束了之后，把將附著殘留于被干燥介質W的表面上的附著水用與該附著水之間的混合置換除掉(降低附著水的表面張力而除掉)的有機溶劑的蒸汽供往容器1內。它被構成為把溶劑供給流路14連結到在相當于上述的排液流路的連接部位的容器1上，已在上部一側部位上開了口的溶劑導入口12-1上的同時，把溶劑閥門13連接備于該溶劑供給流路14上，且連接備有蒸汽產生部件25，在該蒸汽產生部件25中被蒸汽化了的有機溶劑的蒸汽借助于閥門13的開閉從其上部一側供往容器1內，或者使其供給停止。
順便提一下，蒸汽產生部件25由蒸汽產生槽等構成，該槽具備加熱之類的加熱裝置，用于貯存易于和附著于被干燥介質W的表面上的附著水混合且表面張力極小的例如IPA(異丙醇)溶劑等組成的有機溶劑的同時，并使該有機溶劑加熱沸騰而蒸汽化，并構成為通過從該蒸汽產生槽進行連接配管的溶劑供給通路14而向連通的容器1內供給已蒸汽化了的有機溶劑的蒸汽。此外，雖然沒有畫出來，但也可不連接到蒸汽產生部件25上而把可以用規(guī)定的壓力將有機溶劑壓送往溶劑供給流路14內的壓送泵連接備于溶劑供給通路14上，使得邊霧化邊從已連接到該壓送泵上的貯存有機溶劑的貯存槽供往容器1內，可任選。在這種情況下，在容器1的壁面上具有噴霧口，可以用該噴霧口邊霧化邊把有機溶劑的霧供往容器1內。此外，也可使上述貯存槽上備有加熱器等的加熱裝置，邊把有機溶劑加熱到30～60℃的范圍邊供往容器1內。這樣一來，與邊使常溫的有機溶劑霧化邊供往容器1內相比，就可以得到不讓使溫度降低等的容器1內的內部氣氛產生變化的抑制效果。
氣體供給裝置15起著如下的作用把被干燥介質W運進收容于容器1內，從用密閉蓋21把容器1的上部開口密閉起來之后開始連續(xù)地向該容器1內供給惰性氣體(N2)，把在被干燥介質W運進收容時進入容器1內的空氣(氧)排除于容器1之外，在從被干燥介質W的清洗處理到干燥處理為止的各處理步驟中，使容器1內繼續(xù)保持氣體氣氛狀態(tài)的作用；在被干燥介質W的干燥處理步驟中，向容器1內供給貯存溫純水使得一直到把該被干燥介質W沒入狀地浸泡起來的水位為止，用從該純水的水面L向在其上部一側所確保的上部空間20內，由上述溶劑供給裝置12供給的有機溶劑的蒸汽充滿該上部空間，在該有機溶劑的供給停止以后進行的、用排液裝置7進行的把純水吸引排液到容器1之外的時候，為了根據來自以從檢測裝置18輸出來的檢測信號(容器1內的壓力信息)，依據從控制裝置19來的處理信號(閥門的閥片張開度的大小等)把容器1內的減壓度P1保持為設定減壓度P，根據來自控制裝置19的處理信號，向該容器1內連續(xù)地供給惰性氣體的作用，并構成為把氣體供給流路17連接到在與上述溶劑供給流路上14的連接部位相當的容器1的上部一側部位中的其壁部上已開了口的氣體導入口15-1的同時，把氣體閥門16連接備于該氣體供給流路17上，借助于該氣體閥門16的開閉，在從被干燥介質W的清洗處理到干燥處理結束為止的一連串的處理步驟中，從上述氣體導入時口15-1向容器1內連續(xù)地供給惰性氣體，或根據從清洗處理到干燥處理的各個步驟，間歇地供給，或者停止其供給。
附帶說一下，氣體閥門16邊用打開閥門、關閉閥門以及使用恒定的供給速度或者使其供給速度適當可變邊向容器1內供給惰性氣體。即，由邊使惰性氣體的供給量保持恒定或邊使其供給速度適當可變邊供給的帶流量調節(jié)功能的閥門等構成，構成為連接到控制裝置19的控制部分19-1上，并為了使惰性氣體的供給量比現在的供給量還少，用從該控制部分19-1輸出來的處理信息，使閥門開度減小(收攏)，或為了比現在的供給量增大而使閥門開度加大等的閥門開度得以適當調節(jié)可變。圖中26是已連接備于氣體供給流路17上的安全(輔助)閥門。
檢測裝置18的作用是，在從被干燥介質W的清洗處理到干燥處理的各個處理步驟中，特別是在被干燥介質W的干燥處理開始之后到結束的過程中，在向容器1內供給貯存溫純水，從把被干燥介質W沒入狀地浸泡起來的該水面L在其上部一側所確保的上部空間20被有機溶劑的蒸汽充滿之后開始的溫純水的吸引排液時，在該吸引排液結束了的期間，逐次檢測容器1內的減壓度P1，并把該檢測信號(壓力信息)逐次輸出到控制裝置19，由進行把容器1內的壓力位移變換成電壓并把其壓力值，即檢測到的信號逐次輸出到控制部分19的后邊要講的處理部分19-10的動作的壓電傳感器或壓力傳感器等構成，變成為連接配置到確保上部空間20的容器1的壁面上的同時，還連接到控制部分19-1的處理部分19-10上，并把所檢測到的容器1內的檢測信號，即容器1內的現在減壓度P1輸出到該處理部分19-10中去。
順便提一下，在本實施例中，在把惰性氣體供往容器1內的氣體供給裝置15的氣體供給流路17的途中部位上連接備有檢測裝置18(參看圖1)，使得通過該氣體供給流路17可以檢測容器1內的減壓度P1。
控制裝置19的作用是，在被干燥介質W的一連串的清洗處理中的最終的水洗處理結束，向容器1內供給溫純水且已向其上部空間20中供給了有機溶劑的蒸汽之后開始的容器1中的溫純水的吸引排液結束了的期間，為了使容器1內的減壓度P1保持為預定的設定減壓度P，使氣體供給裝置15的氣體閥門16的閥門開度比現在的閥門開度減小或者增大等的閥門開度進行適當調節(jié)可變以使得向容器1內的供給的惰性氣體的供給速度(供給量)調節(jié)可變，或者為了使排液裝置7的吸引部件24(吸引泵)的吸引輸出功率比現在的吸引輸出功率減小或增大等的吸引泵的吸引輸出功率適當調節(jié)可變以調節(jié)可變溫純水的排液速度(排液量)等，它具有控制部分19-1，用于存儲容器1內的設定減壓度P的同時，進行其減壓度P和從檢測裝置中18逐次輸出出來的容器1內的現在的減壓度P1之間的判斷處理，當處理判斷為從檢測裝置18中逐次輸出出來的容器1內的現在的減壓度P1比設定減壓度P低的時候就向該氣體閥門16輸出內容為減小氣體閥門16閥門開度處理信息，以使得供往容器1內的惰性氣體的供給量比現在的供給量小(參看圖4)，或者向吸引部件24輸出內容為加大吸引部件24的吸引輸出的處理信息，以使溫純水的排液量比現在的排液量多(參看圖6)，在容器1內的溫純水的吸引排液結束后的期間，在容器1內，把減壓度P1管理控制為設定減壓度P。
在本發(fā)明中，把向容器1內供給的溫純水的水溫設定為30～60℃的范圍，把被干燥介質W的一連串的清洗處理中的最終的水洗處理結束，且已向容器1內的上空間20中供給了有機溶劑的蒸汽之后開始的容器1內的溫純水的吸引排液結束的期間中的容器1內的設定減壓度P設定于-350～-50mmHg的范圍這件事，在使本發(fā)明成立方面是很重要的。
順便說一下，溫純水的水溫，在與有機溶劑的蒸汽之間的置換和最后進行的因容器1內的減壓所產生的被干燥介質W的干燥處理中，在促進該被干燥介質W的干燥方面是重要的。即，在進行附著于被干燥介質上的附著水和有機溶劑的蒸汽之間的混合置換之前，若不認真地進行把被干燥介質W的表面加熱到適宜的加熱溫度的加熱處理，則附著水和有機溶劑的蒸汽之間的混合置換不能有效的進行，或者在由容器1內的減壓進行的被干燥介質W的表面干燥時，變得不能從該表面上迅速地除掉殘留在其表面上的很少的一點附著水和有機溶劑的蒸汽的混合水，且與上述變化的量相對應，將招致干燥時間加長等的結果的緣故。因此，在本發(fā)明中，考慮到促進被干燥介質W的干燥的被干燥介質W的加熱處理溫度把溫純水的低的一側的水溫設定為30℃。另一方面，為了促進被干燥介質W的干燥而過分地提高溫純水的水溫，則將變成為不能產生借助于溫差進行的被干燥介質W的表面的附著水與有機溶劑的蒸汽之間的混合置換作用。即，有機溶劑的蒸汽借助于比其沸點還低的被干燥介質W表面溫度之間的溫差在該表面上凝縮并進行與附著水之間的混合置換，但是，當被干燥介質W的表面溫度上升到蒸汽的沸點附近時，在該表面上的上述凝縮就變得難于產生，使應用了有機溶劑的蒸汽的本來的蒸汽干燥效果降低，與這一降低的量相對應，將會招致干燥時間拉長等的結果的緣故。因此，在本發(fā)明中把溫純水的高的一側的水溫設定為比大氣壓下的有機溶劑的沸點還低的65℃。
于是，本發(fā)明考慮到因象這樣地溫純水的水溫過低、過高所引起的前邊說過的缺點，而且，在對溫純水從容器1的底部一側進行吸引排液的工序中，為了使得在從借助于在隨著該吸引排液而下降的溫純水的水面L上形成的混合液層N中，比如說由張力極小的的IPA(異丙醇)溶劑等組成的有機溶劑的蒸汽凝縮而在溫純水的水面L上形成的混合液層N中露出來的被干燥介質W的周圍使有機溶劑再次蒸汽化的該再次蒸汽化現象能夠反復連續(xù)地進行的條件在容器1內成立，在把溫純水供給時的水溫已設定到30℃的情況下，就把容器1內的減壓度P設定為-350mmHg。即，在已把水溫設定為30℃的情況下，若設定減壓度P超過了-350mmHg，則溫純水的水溫將達到沸點附近從而在溫純水中有發(fā)生氣泡等的缺欠之虞。即，所產生的氣泡將會上浮到水面L上來，破壞在該水面L上形成的混合液層N，使得借助于在該混合液層N上產生的液流把附著水從被干燥介質W的表面上除掉的液流作用變差，存在著不能得到用在混合液層N上產生的液流作用進行的被干燥效果的可能。另一方面，在已把溫純水的水溫設定為65℃的情況下，就把容器1內的設定減壓度P設定為-50mmHg。即，在溫純水的水溫已設定為65℃的情況下，若設定減壓度P變得比-50mmHg還低，則在從容器1的底部一側吸引排液溫純水的工序中，就無望使來自混合液層N的有機溶劑進行有效的再蒸汽化。
另外，在上述的溫純水的水溫條件以及容器1內的設定減壓條件中，忽略促進被干燥介質W的干燥的被干燥介質W的加熱，在假定已把溫純水的水溫設定于30℃以下，比如說25℃，把容器1內的減壓度設定為超過了-350mmHg，比如說設定為-400mmHg的情況下，雖然仍可考慮為使得上邊說過的有機溶劑的再蒸汽化現象得以連續(xù)地進行的條件在容器1內成立，但若這樣地使減壓度上升到-400mmHg，則對于進行減壓的容器1的耐壓強度的提高就要求更高，為要制造能滿足該耐壓強度的容器1，將招致成本的高漲，或者若變?yōu)槭谷萜?內減壓到-400mmHg，則與這一減壓相對應，結果將變成需要大型的吸引泵等的麻煩。此外，當把溫純水的水溫設定為65℃以上時，則除了因上邊說過的有機溶劑的蒸汽所產生的蒸汽干燥效果降低的麻煩之外，由于對被干燥介質過度加熱，故還有因熱而使被干燥介質W的品質下降的等的產生熱影響等的缺欠的可能。
因此，在本發(fā)明中，慮及因溫純水的水溫過低、過高所引起的上述的缺欠，以及因在容器1內增高設定減壓度所引起的上述的缺欠之類的事情，且從在從容器1的底部一側對溫純水吸引排液的工序中，必須在容器1內使有機溶劑在從水面L的混合液層N露出來的被干燥介質的周圍再次被蒸汽化的該再蒸汽化現象得以連續(xù)地進行的條件成立等可知，在把溫純水的水溫已設定到30～50℃的情況下，把容器1內的設定減壓度P設定為-350～-50mmHg的范圍內是必不可少的條件。理想的是在把溫純水的水溫已設定到40-50℃的范圍內的情況下，把容器1內的設定減壓度P設定為-300～-150mmHg的范圍內，實驗的結果是，特別理想的是在已把溫純水的水溫定為45℃的情況下，使容器1內的設定減壓度為-240mmHg。
其次，若邊參照已示于圖8和圖10的從清洗處理到干燥處理的一連串的處理中的處理動作的流程圖和時間圖，以及已示于圖9的干燥處理時的容器1內的減壓度P1的控制管理的流程圖，邊對以上那樣構成的處理裝置的處理方法(以下，叫做本方法)進行說明，則首先把多片被干燥介質W從敞開口的上部開口以適當的間隔垂直并排狀地運進收容于容器1內(步驟30)。當把干燥介質W運進收容于容器1內，用密閉蓋21把容器1的上部開口密閉起來后，就打開氣體供給裝置15的氣體閥門16，通過氣體流路17從氣體導入口15-1開始向容器1內供給惰性氣體(步驟31)。這時，排液閥門8、9中的任意一方或雙方打開，平行地進行容器1內的吸引排氣。
當在容器1內形成了惰性氣體的氣體氣氛時，就打開藥液閥門3，通過給液流路6從底部的給液口2-1，隔開規(guī)定的時間分步驟地且連續(xù)地向容器1內供給與在藥液清洗中的各個處理步驟相對應的數種藥液，在容器1內，形成邊與以適當的間隔垂直地并排的各被干燥處理介質W的表面接觸邊流動的藥液的上升水流，進行該被干燥介質W的藥液清洗(化學處理)。當藥液清洗結束，藥液閥門3閉上之后，接下來就打開純水閥門4，通過給液流路6從底部的給液口2-1向容器1內連續(xù)地供給純水，在容器1內形成邊與各被干燥介質W的表面接觸邊流動的純水的上升水流，進行該被干燥介質W的最終水洗處理(沖洗處理)，結束由純水進行的一連串的清洗處理(步驟32)。這時，排液閥門9已經打開，通過排液流路11使多余的藥液、純水變成溢出水從排液口7-1吸引排液到容器1之外。
當從藥液清洗到最終的水洗處理的一連串的清洗處理結束，純水閥門4關閉向容器1內的純水供給停止后，接下來打開溫純水閥門5通過給液流路6從底部的液口2-1向容器1內連續(xù)地供給水溫為45℃的溫純水，在容器1內形成邊與被干燥介質W的表面接觸邊流動的上升水流，進行把被干燥介質W的表面加熱到45℃附近的溫度為止的被干燥介質W的加熱處理(步驟33)。這時，排液閥門9在上述清洗處理結束之后也繼續(xù)打開，借助于溫純水的供給，容器1內的純水采用通過排液流路11從排液口12-1吸引排液到容器1之外的辦法，把容器1內置換成溫純水的同時，多余的溫純水則變成為溢出水被吸引排液到容器1之外。
當用45℃的溫純水的熱能進行的被干燥介質W的加熱處理結束，溫純水閥門5關閉向容器1內的溫純水的供給停止后，接著打開溶劑供給裝置12的溶劑閥門13，從溫純水的水面L，通過溶劑供給流路14，從蒸汽導入口12-1，向在其上部一側確保的容器1內的上部1空間20中，供給用蒸汽產生裝置25蒸汽化了的有機溶劑的蒸汽(步驟34)。該有機溶劑的供給一直進行到上部空間蒸汽充滿為止，在該上部空間中已形成了蒸汽氣氛的那一時刻關閉溶劑閥門13停止其供給。這時，在排液閥門9從清洗處理時開始繼續(xù)打開，有機溶劑的蒸汽正向上部空間20供給的期間內，平行地進行該上部空間20的吸引排氣，對該上部空間20進行適當減壓。
當在容器1內的上部空間20中形成了有機溶劑的蒸汽氣氛，溶劑閥門13關閉向上部空間20進行的有機溶劑的供給停止后，其次，打開排液閥門8開始溫純水的吸引排液(步驟35)，通過排液通路10，從底部的給液口2-1把容器1內的溫純水以規(guī)定的速度吸引排液到容器1之外，同時，用檢測裝置18檢測溫純水的吸引排液所伴生的容器1內的現在的減壓度P1，該壓力信息被逐次輸出往控制裝置19的控制部分19-1(步驟36)。壓力信息輸出到控制部分19-1之后，控制部分19-1的處理部分19-10就進行容器1內的現在的減壓度P1與設定于容器1內的-240mmHG的設定減壓度P之間的比較處理(步驟37)。若處理判斷為現在的減壓度P1比設定減壓度P低(P＞P1)，則通過放大器19-11，把為了使從被干燥介質W的清洗處理開始就繼續(xù)進行著的向容器1內的惰性氣體的供給量比現在的供給量小把氣體閥門16的閥門開度縮小的內容的處理信號輸出往該氣體閥門16(步驟38)。另一方面，在處理判斷為現在的減壓度P1比設定減壓度P低情況下，就通過放大器19-11把使向容器1內的惰性氣體的供給量加大到比現在的供給量大把氣體閥門16的閥門開度加大的內容的處理信號輸出往該氣體閥門16(步驟39)。該減壓度P1的控制管理一直進行到溫純水的吸引排液結束為止。
容器1內的溫純水完全被吸引排液，借助于通過排液通路10而繼續(xù)進行的容器1內的吸引排氣使該容器1內減壓，形成為把殘留于該容器1內的有機溶劑、與溶劑之間的混合液和濕氣等完全被排氣往容器1外的被干燥介質W的干燥處理(步驟40)。最后，采用加大向容器1內繼續(xù)進行的惰性氣體的供給量，使該容器1內回到大氣壓(常壓)(步驟41)，采用打開密閉蓋21從容器1內運出被干燥介質W(步驟42)的辦法，從清洗處理到干燥處理的一連串的處理就結束了。最后，關閉＼閥門16和排液閥門8。
這樣一來，倘采用該實施例中的本方式，則在用藥液進行的藥液清洗、用純水進行的最終的水洗處理這一連串的清洗處理結束之后的容器1內的被干燥介質W的表面被用溫純水的熱能進行的加熱到45℃附近的加熱處理結束，接著，從把被干燥介質W沒入狀地浸泡起來的溫純水的水面L在其上部一側確保的上部空間20中供給了有機溶劑的蒸汽之后開始的干燥處理時的溫純水的吸引排液結束后的期間中，容器1內的減壓度被保持為恒定的設定減壓度P。即，使得從水面L的混合液層N，使有機溶劑在從該混合液層N中露出來的被干燥介質W的周圍再蒸汽化的該再蒸汽化現象得以反復連續(xù)地進行的條件可以在容器1內成立。
因此，在吸引排液溫純水的工序中，由于隨著水面L下降，源于在邊與被干燥介質W接觸邊下降后退的該水面L上形成的的混合液層N的有機溶劑的再蒸汽化利用將變成可能，故與現有方式比就可以大幅度地削減每一處理周期的有機溶劑的使用量。而且，已供往容器1內的上部空間20內的有機溶劑的蒸汽，用保持容器1內的-240mmHg的設定減壓度P的減壓氣氛和45℃的溫純水的熱能保持其蒸汽化，與因溫純水的水面L的下降而從該水1面露出來的被干燥介質的表面接觸，用與該表面之間的溫度差在該表面上凝縮并進行與附著水之間的混合置換，附著水與有機溶劑之間的混合液N-1一起，順著被干燥介質W的表面向溫純水的水面L下滴。這樣一來，已形成于溫純水的水面L上的混合液層N的有機溶劑的混合濃度，÷由于繼續(xù)地進行下滴補充混合液N-1，放在溫純水的吸引排液結束后的期間，得以保持恒定，所以借助于因有機溶劑的混合濃度分布而在混合液層N中產生的從被干燥介質W的表面向著溫純水的水面的穩(wěn)定且有效的液流作用，從被干燥介質W的表面上確實且迅速的除去附著水(參看圖3)。
即，倘采用本方式，則在溫純水的吸引排液結束后的期間內，被干燥介質W就可以用附著水與有機溶劑之間的置換作用和在從被干燥介質W的表面向著溫純水的水面L的混合液層N上產生的液流作用的這兩個作用下，確實且迅速地對被干燥介質W進行干燥處理。用保持容器1內的設定減壓度P的減壓氣氛和溫純水的熱能，使得從隨著溫純水的吸引排液而形成的水面L的下降，邊與露出的被干燥介質W的表面接觸邊下降后退的混合液層N的有機溶劑在露出來的被干燥介質W的周圍再蒸汽化，在其表面上的凝縮反復連續(xù)地進行，形成與附著水之間的混合置換，附著水和與有機溶劑之間的混合液N-1一起順著被干燥介質W的表面向溫純水的水面L滴下。即，通過使與有機溶劑之間的混合液N-1向因溫純水的吸引排液而下降的水面L的混合液層N繼續(xù)的進行滴下補充的辦法，就可以邊確實地產生由在該混合液層N上產生的有機溶劑的混合濃度分布形成的從被干燥介質W的表面向著溫純水的水面的液流作用邊從被干燥介質的表面上把附著水用前邊說過的混合置換作用和在混合液層N上產生的液流作用這兩個作用有效地除去。
圖11～圖12是示出了從清洗處理到干燥處理的一連串的處理中的本發(fā)明的處理方法的另一實施例的流程圖和時間圖，在該實施例中，已改變了惰性氣體向容器1內的供給時期，除已改變了惰性氣體向容器1內的供給時期之外，與上述的實施例詳述基本上是一樣的。
簡單地說來，把多片被干燥介質W從敞開口的上部開口運進收容于容器1內(步驟43)，在該上部開口用密閉蓋21密閉或沒有密閉的狀態(tài)下，打開藥液閥門3連續(xù)地向容器1內供給藥液進行被干燥介質W的藥液清洗(化學處理)。其次，打開純水閥門4連續(xù)地向容器1內供給純水進行被干燥介質W的直到最終的水洗處理(沖洗處理)為止的一連串的清洗處理(步驟44)。其次，打開溫純水閥門5向容器1內連續(xù)地供給45℃的溫純水直到使被干燥介質W的表面被加熱到45℃附近進行被干燥介質W的加熱處理(步驟45)。其次，打開溶劑閥門13，從溫純水的水面L向已確保于其上部一側的容器1內的上部空間20供給有機溶劑的蒸汽(步驟46)。接著，打開排液閥門8開始從底部的給液口2-1向容器1外以規(guī)定的排液速度，對容器1內的溫純水進行吸引排液的溫純水吸引排液的同時，打開氣體閥門16開始向容器1內供給惰性氣體(步驟47)。以后，如在前邊說過的實施例的圖9的流程圖中所詳述過的步驟36到步驟39那樣，執(zhí)行在從步驟48到步驟51的步驟，以及如在圖8的流程圖中所詳述過的從步驟40到42那樣，執(zhí)行從步驟52到步驟54的步驟，使之進行從清洗處理到干燥處理的一連串的處理。
圖13示出了已變成了容器1-1的構成形態(tài)的另一實施例，在該實施例中，已構成為內外二層構造，在除去已做成內外二層的構成以外的部分中由于與前邊說過的實施例詳述基本上一樣，所以采取使相同構成的部分用相同的標號的辦法而略去詳細的說明。
然而，該實施例中的容器1-1構成為內外二層構造，內層的處理槽1-10呈現上部開口的有底箱型，大小(開口形狀)約為可在垂直狀態(tài)下，以規(guī)定間隔，并排地支持收容多片被干燥介質M呈現一種有底箱型，且具有可沒入狀地把被干燥介質M浸泡起來的深度；外層的密閉槽1-11，該密閉槽呈現上部開口的有底箱型，其大小約為可把上述的處理槽1-10隔開開口的上部一側和其槽壁外周所需的空間，把上述處理槽1-10密閉狀地游插在內，且在上部開口上具有開閉自如的密閉蓋21-1，并構成為把前邊已詳述的實施例的給液裝置2的給液管道6連接到處理1-10的底部一側，而把排液裝置7的排液流路10、11分別連接到該給液流路6的半道的部位和密閉槽1-11的底部一側，同時，在該密閉槽1-11的上部一側分別連接溶劑供給裝置12的溶劑供給流路14和氣體供給裝置15的氣體供給流路17。
倘采用這種內外二層構造的容器1-1，則伴隨著被干燥介質W的清洗處理時的藥液、純水向處理槽1-10內的連續(xù)地供給所產生的多余的藥液、純水以及被干燥介質W的加熱處理時的溫純水向處理槽1-10內的連續(xù)地供給所伴生的多余的溫純水將變成溢出水從處理槽1-10的上部開口流向密閉槽1-11一側，從該密閉槽1-11的排液流路11所連接的底部的排液口7-1吸引排液到容器1-1外。接著，向在處理槽1-10上部確保的上部空間20-1和該處理槽1-10與密閉槽1-11之間的周圍空間20-2中供給有機溶劑的蒸汽，在該上部空間20-1和周圍空間20-2中形成有機溶劑的蒸汽氣氛，在溶劑閥門13關閉之后開始的溫純水的吸引排液時，通過已連接到給液通路6上的排液通路10從處理槽1-10的底部的給液口2-1以規(guī)定的排液速度吸引排液到容器1-1之外。
此外，應用了這樣的內外二層構造的容器1-1的從清洗處理到干燥處理的一連串的處理中的動作，根據前邊說過的實施例詳述的圖8所示的流程圖和圖10所示的時間圖，以及圖9所示的干燥處理時的密閉槽1-11的減壓度P1的控制管理的流程圖，與前邊說過的實施例詳述同樣地執(zhí)行，或根據圖11所示的流程圖和圖12所示的時間圖，以及圖9所示的控制管理干燥處理時的密閉槽1-11內的減壓度P1的流程圖，與前邊說過的實施例詳述同樣地執(zhí)行，進行從被干燥介質W的清洗處理到干燥處理的一連串的處理。
還有，在前邊說過的實施例中，作為有機溶劑用的是IPA(異丙醇)，但作為醇類，除去該異丙醇之外，還有甲醇、乙醇等。而除醇類之外與醇類具有同樣的水溶性且使對被干燥介質的附著水的表面張力降低的作用的丙酮、二乙基酮等的酮類，還可舉出甲基醚、一甲基醚等的醚類以及乙二醇等的多價醇等。
這樣一來，由于本發(fā)明構成為具有上述構成，故具有下述作用。〖1〗在從藥液清洗到水洗處理為止的一連串的清洗處理結束了之后，向容器內供給水溫為30～60℃范圍的溫純水，直到把被干燥介質沒入狀地浸泡起來的水位為止，在用溫純水的熱能把被干燥介質加熱到30～60℃附近的規(guī)定的溫度的加熱處理結束之后，從溫純水的水面向在去上部一側所確保的上部空間供給有機溶劑的蒸汽或霧，在該有機溶劑的供給停止之后開始的把溫純水從容器的底部一側吸引排液的工序中，在溫純水的吸引排液結束后的期間，保持已供往容器內的上部空間的有機溶劑的蒸汽化或霧化，而且采用使該容器內的減壓度保持為-350～-50mmHg范圍的設定減壓度P的辦法，使得從已形成于溫純水的水面上的混合液層，使有機溶劑在要露出的被干燥介質的周圍再蒸汽化的該再蒸汽化現象得以反復連續(xù)地進行的條件在容器內成立的辦法，使得可以在從水面的混合液層因反復連續(xù)的溫純水的水面下降而露出的干燥介質的周圍邊使有機溶劑再蒸汽化邊使之與其表面接觸，并借助于與該表面之間的溫度差在該表面上凝縮后進行與附著水之間的混合置換。因此，由于有機溶劑的再蒸汽化利用是可能的，故與現有的方式比可以大幅度地削減每一處理周期的有機溶劑的使用量。
〖2〗已供到容器內的上部空間中的有機溶劑的蒸汽，用保持容器內的-350～-50mmHg范圍的設定減壓度P的減壓氣氛和30～65℃范圍的溫純水的熱能保持其蒸汽化，使之與因溫純水的水面的下降而從該水面露出的被干燥介質的表面接觸，借助于與該表面之間的溫度差在該表面上凝縮后進行與附著水之間的混合置換，同時，繼續(xù)向溫純水的水面的混合液層滴下補充混合液，用因有機溶劑的混合濃度分布而在該混合液層上產生的從被干燥介質的表面向著溫純水的水面的液流，就可從被干燥介質的表面上確實且迅速地除掉附著水。即，用與有機溶劑之間的混合置換而產生的置換作用和在從被干燥介質的表面向溫純水的水面導入附著水的混合液層上產生的液流作用這兩個作用，就可有效地進行干燥處理。
〖3〗在向容器內的上部空間供給有機溶劑的蒸汽或霧的工序中，采用邊對容器內進行吸引排氣邊進行的辦法，向該容器內的上部空間平穩(wěn)地導入有機溶劑的蒸汽或霧，使得該上部空間在短時間內進行被有機溶劑充滿后的溶劑氣氛化。這樣，就可以平穩(wěn)地轉移到以后的處理工序中去。另外，因為容器內可用吸引排氣進行適當減壓，所以有機溶劑可以用比在大氣壓(常壓)中的＼沸點還低的溫度蒸汽化。因此，由于在上部空間中可以以比常壓低的溫度形成溶劑(蒸汽)氣氛，故在安全性方面也是有利的。
因此，倘采用本發(fā)明，則在應用了有機溶劑的被干燥介質的蒸汽干燥處理中，由于可以促進干燥的同時，可以大幅度地削減每一干燥處理(每一循環(huán)處理)的有機溶劑的使用量，所以將變成為可獲得低成本化，在成本上有利的處理方法和處理裝置。而且，借助于與有機溶劑之間的混合置換所形成的混合置換作用和從被干燥介質的表面向溫純水的水面導入附著水的混合液層中產生的液流作用這兩個作用，使得變成為劃時代的處理方法和處理裝置使高效率且高精度的干燥處理變成為可能，可以預期縮短處理時間的同時，還可以期待更好的干燥效果等。
權利要求
1.一種在密閉容器內進行從被干燥介質的清洗處理到干燥處理的一連串的處理的半導體晶片等的處理方法，其特征是包括把多片被干燥介質垂直并排狀地運進放置在上述容器內，在進行完清洗處理中的水洗處理之后，向上述容器內供給溫純水的工序；從上述容器內的至少上述溫純水的水面向在其上部一側確保的上部空間中供給有機溶劑的蒸汽或霧的工序；在停止了上述有機溶劑的供給之后，邊從容器的底部吸引排液上述溫純水邊從其上部一側連續(xù)地供給惰性氣體的工序；在上述溫純水的吸引排液結束之后，用繼續(xù)進行的上述吸引使容器內吸引減壓，使被干燥介質干燥的工序，以及，至少在從容器的底部一側吸引排液溫純水的工序中，在溫純水的吸引排液結束期間，要進行管理控制，使得容器內的減壓度保持在設定減壓度。
2.根據權利要求1所述的半導體晶片等的處理方法，其特征是在向容器內供給有機溶劑的工序中，邊對容器內進行吸引排氣邊進行供給的同時，在上部空間被有機溶劑充滿了的時刻停止該有機溶劑的供給。
3.根據權利要求1所述的半導體晶片等的處理方法，其特征是在向容器內供給溫純水時，其水溫為30～65℃的范圍，在把溫純水吸引排液到容器外的其吸引排液結束后的期間的容器內的設定減壓度為-350～-50mmHg的范圍。
4.根據權利要求1所述的半導體晶片等的處理方法，其特征是容器內的減壓度，可借助于使惰性氣體的供給速度或溫純水的排液速度可變而形成的流量控制來保持。
5.根據權利要求1所述的半導體晶片等的處理方法，其特征是容器內的減壓度，可借助于使惰性氣體的供給速度或溫純水的排液速度保持恒定的流量控制來保持。
6.根據權利要求1所述的半導體晶片等的處理方法，其特征是至少已被供給到容器的上部空間中的有機溶劑的蒸汽或霧在溫純水的水面上凝縮并在該水面上形成混合液層，在隨著溫純水的吸引排液而伴有的水面降下所露出的被干燥介質的表面上凝縮進行與該表面的附著水之間的混合置換的同時，用容器內的保持為恒定的設定減壓度和溫純水的熱能，使有機溶劑從上述混合液層再次蒸汽化，該有機溶劑的蒸汽邊上浮到露出來的被干燥介質的周圍邊反復連續(xù)地進行在被干燥介質表面上的上述凝縮。
7.一種在密閉容器內進行從被干燥介質的清洗處理到干燥處理為止的一連串的處理的半導體晶片等的處理方法，其特征是包括把多片被干燥介質垂直并排狀地運進放置在上述容器內，在從清洗處理到干燥處理的各處理步驟中，至少在到干燥處理結束為止已開始連續(xù)的惰性氣體的供給的狀態(tài)下，在進行完清洗處理中的水洗處理之后，向上述容器內供給溫純水的工序；從上述容器內的至少是把被干燥介質沒入狀地浸泡起來的上述溫純水的水面向在其上部一側所確保的上部空間內，供給有機溶劑的蒸汽或霧的工序；在上述有機溶劑的供給停止后，從容器的底部一側吸引排液上述溫純水的工序；在上述溫純水的吸引排液結束之后，用繼續(xù)進行的上述吸引對容器內進行吸引減壓，使被干燥介質干燥的工序，以及，至少在從容器的底部一側吸引排液溫純水的工序中，在溫純水的吸引排液結束后的期間，進行控制使得容器內的減壓度保持為設定減壓度。
8.根據權利要求7所述的半導體晶片的處理方法，其特征是在向容器內供給有機溶劑的工序中，邊對容器內進行吸引排氣邊進行供給的同時，在上部空間被有機溶劑充滿了的時刻停止該有機溶劑的供給。
9.根據權利要求7所述的半導體晶片的處理方法，其特征是在向容器內供給溫純水時，其水溫為30～65℃的范圍，在把溫純水吸引排液到容器外的吸引排液結束后的期間的容器內的設定減壓度為-350～-50mmHg的范圍。
10.根據權利要求7所述的半導體晶片的處理方法，其特征是容器內的減壓度，可借助于使惰性氣體的供給速度或溫純水的排液速度可變而形成的流量控制來保持。
11.根據權利要求7所述的半導體晶片的處理方法，其特征是容器內的減壓度，可借助于使惰性氣體的供給速度或溫純水的排液速度保持恒定的流量控制來保持。
12.根據權利要求7所述的半導體晶片的處理方法，其特征是至少已被供給到容器的上部空間中的有機溶劑的蒸汽或霧在溫純水的水面上凝縮并在該水面上形成混合液層，在隨著溫純水的吸引排液而伴有的水面降下所露出的被干燥介質的表面上凝縮進行與該表面的附著水之間的混合置換的同時，用容器內的保持為恒定的設定減壓度和溫純水的熱能使有機溶劑從上述混合液層再次蒸汽化，該有機溶劑的蒸汽邊上浮到露出來的被干燥介質的周圍邊反復連續(xù)地進行在被干燥介質表面上的上述凝縮。
13.一種在密閉的容器內，進行從被干燥介質的清洗處理到干燥處理為止的一連串的處理的半導體晶片等的處理裝置，包含有大小為可以至少把多片被干燥介質并排垂直狀地運進收容起來，形狀為在上部開了口的有底箱形，在上部開口處具有自由開閉的密閉蓋的容器；連接到該容器的底部一側，在清洗處理中的水洗處理結束之后，向該容器內供給溫純水直到把被干燥介質沒入狀地浸泡起來的水位為止的給液裝置；至少被連接到該給液裝置和上述容器的上部一側或同一容器的底部一側，從上述容器內吸引排液溫純水的排液裝置；連接到上述容器的上部一側，向容器內供給有機溶劑的蒸汽或霧的溶劑供給裝置；連接到上述容器的上部一側，向容器內供給惰性氣體的氣體供給裝置；具備于上述容器的上部一側，檢測容器內的減壓度的檢測裝置；連接配備于該檢測裝置和上述排液裝置或氣體供給裝置之間，至少在從容器的底部一側吸引排液溫純水的處理步驟中，在上述溫純水的吸引排液結束期間，為了把容器內的減壓度保持在設定減壓度，根據從上述檢測裝置輸出來的現在的減壓度，調節(jié)上述排液裝置的排液速度或氣體供給裝置的供給速度的控制裝置。
14.根據權利要求13所述的半導體晶片的處理裝置，其特征是在向容器內供給溫純水時，其水溫為30～65℃的范圍，在把溫純水吸引排液到容器外的其吸引排液結束后的期間的容器內的設定減壓度為-350～-50mmHg的范圍。
15.一種在密閉的容器內，進行從被干燥介質的清洗處理到干燥處理為止的一連串的處理的半導體晶片等的處理裝置，包含有大小為可以至少把多片被干燥介質并排垂直狀地運進收容起來，形狀為在上部開了口的有底箱形，在上部開口處具有自由開閉的密閉蓋的容器；連接到該容器的底部一側，在清洗處理中的水洗處理結束之后，向該容器內供給溫純水直到把被干燥介質沒入狀地浸泡起來的水位為止的給液裝置；至少被連接到該給液裝置和上述容器的上部一側或同一容器的底部一側，從上述容器內吸引排液溫純水的排液裝置；連接到上述容器的上部一側，向容器內供給有機溶劑的蒸汽或霧的溶劑供給裝置；以及連接到上述容器的上部一側，向容器內供給惰性氣體的氣體供給裝置。
全文摘要
干燥處理方法及其處理裝置,水洗處理后,向已密閉的容器內供給溫純水。從被干燥介質沒入狀地浸泡在內的溫純水的水面,向容器上部空間供給有機溶劑的蒸汽或霧。充滿之后,停止有機溶劑的供給,邊從容器的底部一側對溫純水進行吸引排液,邊向該容器內供給惰性氣體。吸引排液結束后的期間,進行控制管理,使得把容器內的減壓度P1保持為設定減壓度P。對容器內進行吸引減壓的辦法,進行被干燥介質的干燥處理。
文檔編號B08B3/10GK1204863SQ9712295
公開日1999年1月13日 申請日期1997年11月26日 優(yōu)先權日1997年7月9日
發(fā)明者小柳哲雄, 山口弘, 橫田一夫, 丹下浩一, 三宗直文 申請人:藍天株式會社