專利名稱：一種耐磨的輔助噴嘴及其制造設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種機(jī)織部件，尤其涉及一種輔助噴嘴及其制造設(shè)備。
技術(shù)背景隨著技術(shù)的進(jìn)步，在織造領(lǐng)域無梭織機(jī)已經(jīng)全面代替了有梭織機(jī)。而片梭織機(jī)、噴水織 機(jī)、劍桿織機(jī)以及噴氣織機(jī)中，噴氣織機(jī)又已優(yōu)異的性能成為未來的發(fā)展趨勢。國內(nèi)噴氣織 機(jī)總量已達(dá)到10萬臺以上，并且自2001年起，每年新增數(shù)量維持在2力臺左右。噴氣織機(jī)通過氣流完成引緯過程，目前普遍采用主噴嘴+輔助噴嘴+異形鋼筘的方式。平均每臺噴氣織 機(jī)大約需要使用30個左右的輔助噴嘴，而目前進(jìn)口輔助噴嘴的使用壽命大約為3-5年，國產(chǎn)輔助噴嘴的使用壽命大約為1年左右，因此輔助噴嘴成為噴氣織機(jī)最主要的消耗件之一，而 如何提高輔助噴嘴的使用壽命也成為當(dāng)前噴氣織機(jī)研究領(lǐng)域的一個熱點。輔助噴嘴噴管一般由不銹鋼板沖壓拉伸而成，目前提高其使用壽命的方法主要采取表面 氮化或鍍鈦，國內(nèi)由于考慮到成本問題一般采用氮化處理。經(jīng)過處理的輔助噴嘴使用壽命一 般能夠提高一倍達(dá)到兩年左右。但是由于目前噴氣織機(jī)的速度不斷提高，所使用紗線的范圍 越來越廣泛，從而對輔助噴嘴提出了更高的要求。 發(fā)明內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種耐磨的輔助噴嘴，己解決現(xiàn)有技術(shù)中使用 壽命短的缺陷。技術(shù)方案本實用新型提供了一種耐磨的輔助噴嘴，包括噴管1和套筒2,表面有一層含硅類金 剛石薄膜。所述的薄膜是通過氣相沉積附在噴嘴表面的。所述的一種耐磨的輔助噴嘴的制造設(shè)備，包括真空計l、靶2、基片3、樣品臺4、 真空系統(tǒng)5、磁場6和諧振7，基片3放置在樣品臺4上，通過靶2做為濺射來源制備含硅 類金剛石薄膜。類金剛石膜的制備方法主要包括物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積。具體來說物理氣相沉積 方法包括離子束沉積方法，濺射沉積，磁過濾陰極弧沉積，脈沖激光沉積等；化學(xué)氣相沉 積方法包括:直接光化學(xué)氣相沉積，直流輝光放電化學(xué)氣相沉積，頻射化學(xué)氣相成績，電子 回旋共振化學(xué)氣相沉積等。
類金剛石膜是碳的一種非晶亞態(tài)結(jié)構(gòu)，屬于無定形碳，膜中的化學(xué)鍵主要是金剛石鍵和 石墨鍵。有益效果類金剛石膜的主要性能包括高硬度和高彈性模量，優(yōu)異的耐磨性和低摩擦系數(shù)，極高 的化學(xué)惰性可防止外界的腐蝕等。因此通過在輔助噴嘴不銹鋼噴管上鍍類金剛石膜可大大提 高其使用壽命，從而降低噴氣織機(jī)的使用成本。


圖l輔助噴嘴結(jié)構(gòu)示意圖。圖2制造設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合具體實施例，進(jìn)一步闡述本發(fā)明。應(yīng)理解，這些實施例僅用于說明本發(fā)明 而不用于限制本發(fā)明的范圍。此外應(yīng)理解，在閱讀了本發(fā)明講授的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù) 人員可以對本發(fā)明作各種改動或修改，這些等價形式同樣落于本申請所附權(quán)利要求書所限定的范圍。實施例1下面結(jié)合具體實施例對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)闡述，參照附圖2。 薄膜采用雙放電腔微波全方位離子注入系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括抽真空部分、真空反應(yīng)部分、 產(chǎn)生等離子體部分以及檢測部分。選用輔助噴嘴不銹鋼噴管作為基體3材料，甲烷和氬氣 作為反應(yīng)源氣體，硅靶2作為濺射源來制備含硅的類金剛石膜。首先在真空室5中用Ar離子對輔助噴嘴不銹鋼噴管進(jìn)行濺射清洗數(shù)分鐘，通過離子 的轟擊和濺射作用使其表層吸附的雜質(zhì)、油污、氧化物等脫離，同時通過對表面的轟擊， 提高不銹鋼表面溫度，從而有利于薄膜的結(jié)合以及降低結(jié)合應(yīng)力。輔助噴嘴不銹鋼噴管放 在沉積室中的樣品臺4上，樣品臺的高度調(diào)到適當(dāng)位置，關(guān)上真空室5，打開機(jī)械泵預(yù)抽， 當(dāng)真空計真空度達(dá)到2 8Pa時，開啟分子泵，這樣兩泵進(jìn)行接力式抽氣，真空被抽至3 X10—3Pa，然后通入氬氣，加勵磁線圈6電流，開微波源7，在微波啟動后功率達(dá)到設(shè)定值 時，這時等離子體密度達(dá)到最大，在基體3加射頻負(fù)偏壓并加上冷卻水，使Ar離子在負(fù) 偏壓的作用下，加速向基片3運動，Ar離子在基片3的表面發(fā)生非彈性碰撞，將基片3上 吸附的雜質(zhì)濺射掉。雜質(zhì)清除干凈后，為了防止Ar離子會對基片3進(jìn)行濺射，所以要關(guān) 掉Ar氣，然后關(guān)閉微波7源和磁場源6。經(jīng)過Ar離子清洗后的基片3就可以進(jìn)行薄膜制備。輔助噴嘴不銹鋼噴管清洗后，在基片3上加上射頻負(fù)偏壓，提高薄膜的沉積速率以及 薄膜的性能，但是需要注意的是在關(guān)閉所有設(shè)備后，必須等試樣隨真空室一起自然冷卻下 來以后才能取出來，否則薄膜很容易剝落，因此導(dǎo)致化學(xué)氣相沉積制備薄膜的時間較長。
權(quán)利要求1.一種耐磨的輔助噴嘴，包括噴管(1)和套筒(2)，其特征在于表面有一層含硅類金剛石薄膜。
2. 如權(quán)利要求1所述的一種耐磨的輔助噴嘴，其特征在于所述的薄膜是通過氣相沉積 附在噴嘴表面的。
3. —種耐磨的輔助噴嘴的制造設(shè)備，由真空部分、真空反應(yīng)部分、產(chǎn)生等離子體部分以 及檢測部分四個部分組成，其特征在于包括真空計(1)、靶(2)、基片(3)、樣品臺(4)、真空系統(tǒng)(5)、磁場(6)和諧振(7)，基片(3)放置在樣品臺(4)上，通 過靶(2)做為濺射來源制備含硅類金剛石薄膜。
專利摘要本實用新型涉及一種耐磨的輔助噴嘴及其制造設(shè)備，輔助噴嘴包括噴管(1)和套筒(2)，表面有一層含硅類金剛石薄膜，其制造設(shè)備由真空部分、真空反應(yīng)部分、產(chǎn)生等離子體部分以及檢測部分四個部分組成，包括真空計(1)、靶(2)、基片(3)、樣品臺(4)、真空系統(tǒng)(5)、磁場(6)和諧振(7)，基片(3)放置在樣品臺(4)上，通過靶(2)作為濺射來源制備含硅類金剛石薄膜，該薄膜具有高硬度和高彈性模量，優(yōu)異的耐磨性和低摩擦系數(shù)，極高的化學(xué)惰性。提高了輔助噴嘴的使用壽命，降低噴氣織機(jī)的使用成本。
文檔編號D03D47/30GK201033817SQ20072006942
公開日2008年3月12日 申請日期2007年4月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月27日
發(fā)明者程隆棣, 薛文良, 魏孟媛 申請人:東華大學(xué)