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用于在基底上形成基準(zhǔn)的設(shè)備和方法

文檔序號(hào):1781142閱讀:242來源:國知局
專利名稱:用于在基底上形成基準(zhǔn)的設(shè)備和方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在基底上形成具有基本上連續(xù)的部分的基準(zhǔn)的方法。所述基準(zhǔn)可用于確定基底的位置。
背景技術(shù)
包括柔性電子或光學(xué)元件在內(nèi)的許多制品的制造,涉及沉積或形成在細(xì)長基底或幅材上的材料層之間的配準(zhǔn)。材料層在幅材上的形成可以在一個(gè)連續(xù)工藝或步驟中進(jìn)行并且重復(fù)著含有多個(gè)步驟的過程。例如,通過多個(gè)沉積步驟,可以將材料的圖案以層的形式沉積在細(xì)長基底(例如幅材)上從而形成分層電子或光學(xué)器件。一些制品需要施加在基底的一側(cè)或兩側(cè)上的特征的精確配準(zhǔn)。為了實(shí)現(xiàn)層之間的準(zhǔn)確配準(zhǔn),必須在基底穿過多個(gè)制造步驟移動(dòng)時(shí),保持橫向 (橫維)定位和縱向(順維)定位。當(dāng)基底是柔性的或可拉伸的時(shí),保持形成在基底上的層之間的配準(zhǔn)變得更加復(fù)雜。一些制品以多個(gè)步驟制成,在這些步驟期間材料或工藝被依次施加到基底,要求每一工序精確位置配準(zhǔn)。基準(zhǔn)是基底的取向特征,其可用于在基底連同其上形成的制品穿過各種制造步驟移動(dòng)時(shí)確定基底位置。期望增加從基底基準(zhǔn)能夠獲得的分辨率,以增強(qiáng)基底位置感測。需要在基底上形成基準(zhǔn)的增強(qiáng)的方法和系統(tǒng),其能夠簡化生產(chǎn),降低成本和/或增加基底位置感測的分辨率。本發(fā)明滿足了這些需求和其它需求,并且提供了優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)的其它優(yōu)點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例涉及一種被構(gòu)造為在基底上形成基準(zhǔn)的設(shè)備。第一基準(zhǔn)裝置在基底上標(biāo)記一個(gè)基準(zhǔn),第二基準(zhǔn)裝置在基底上標(biāo)記另一個(gè)基準(zhǔn)。由第一和第二基準(zhǔn)裝置形成的每個(gè)基準(zhǔn)至少具有連續(xù)的部分,所述連續(xù)的部分相對(duì)于基底的縱向軸線具有有限且非零的斜率。移動(dòng)機(jī)構(gòu)沿著所述縱向軸線提供基底與第一和第二基準(zhǔn)裝置之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。第一和第二基準(zhǔn)裝置耦接在一起,致動(dòng)器使第一和第二基準(zhǔn)裝置一起沿著具有橫向軸線分量的軌線來回移動(dòng)。在第一和第二基準(zhǔn)裝置沿著所述軌線的移動(dòng)期間并且在沿著所述縱向軸線的相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間,第一基準(zhǔn)裝置操作以在基底上形成一個(gè)基準(zhǔn),第二基準(zhǔn)裝置操作以在基底上形成另一個(gè)基準(zhǔn)。另一個(gè)實(shí)施例涉及一種被構(gòu)造為在基底上印刷基準(zhǔn)的設(shè)備。所述設(shè)備包括噴墨以印刷第一基準(zhǔn)的第一印刷孔。第二印刷孔噴墨以印刷第二基準(zhǔn)。移動(dòng)機(jī)構(gòu)沿著基底的縱向軸線提供基底與第一和第二印刷孔之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。致動(dòng)器使第一和第二印刷孔一起沿著至少具有橫向軸線分量的軌線來回移動(dòng)。在第一和第二印刷孔沿著所述軌線的移動(dòng)期間并且第一和第二印刷孔與基底之間沿著所述縱向軸線的相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間,第一印刷孔在基底上印刷一個(gè)基準(zhǔn),第二印刷孔在基底上印刷另一個(gè)基準(zhǔn)。
另一個(gè)實(shí)施例涉及一種在具有縱向軸線和橫向軸線的基底上形成基準(zhǔn)的方法。第一基準(zhǔn)裝置和第二基準(zhǔn)裝置一起沿著具有沿橫向軸線的分量的軌線來回移動(dòng),同時(shí)基底與第一和第二基準(zhǔn)裝置沿著縱向軸線相對(duì)運(yùn)動(dòng)。第一基準(zhǔn)裝置在沿著所述軌線的移動(dòng)期間并且沿著所述縱向軸線的相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間操作以在基底上形成一個(gè)基準(zhǔn)。第二基準(zhǔn)裝置在沿著所述軌線的移動(dòng)期間并且在相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間操作以在基底上形成另一個(gè)基準(zhǔn)。本發(fā)明的上述發(fā)明內(nèi)容并非意圖描述本發(fā)明的每一個(gè)實(shí)施例或每種實(shí)施方式。結(jié)合附圖并參照下文的具體實(shí)施方式
以及所附權(quán)利要求書,再結(jié)合對(duì)本發(fā)明比較完整的理解,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和成效將變得顯而易見并且為人所領(lǐng)悟。


圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于在基底上形成基準(zhǔn)的設(shè)備的框圖;圖2是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的形成基準(zhǔn)的方法的流程圖;圖3示出用于在被約束在滾筒上的柔性幅材上形成基準(zhǔn)的設(shè)備;圖4示出具有第一和第二印刷孔的單個(gè)印刷頭,所述第一和第二印刷孔相對(duì)于基底的橫向軸線成一角度取向,以形成相移的基準(zhǔn);圖5示出分別具有第一和第二印刷孔的兩個(gè)印刷頭,所述第一和第二印刷孔取向以形成相移的基準(zhǔn);圖6是具有兩個(gè)耦接的基準(zhǔn)裝置和一個(gè)額外的基準(zhǔn)裝置的設(shè)備的框圖;圖7和圖8示出可利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的方法形成的分段連續(xù)的基準(zhǔn);圖9示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的形成第一和第二基本上連續(xù)的基準(zhǔn)以及離散的基準(zhǔn)的單個(gè)印刷頭的操作;圖10是示出可利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的方法形成的正弦和余弦基準(zhǔn)的曲線圖;圖11是印刷在5密耳聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底上的基準(zhǔn)的照片。雖然本發(fā)明可修改為各種修改形式和替代形式,但其具體的方式已以舉例的方式在附圖中示出并且將會(huì)作詳細(xì)描述。然而,應(yīng)當(dāng)理解,其目的不在于將本發(fā)明局限于所述具體實(shí)施例。相反,其目的在于涵蓋由所附權(quán)利要求書限定的本發(fā)明范圍內(nèi)的所有修改形式、 等同形式和替代形式。
具體實(shí)施例方式在下文對(duì)所舉例說明的實(shí)施例的敘述中將參考構(gòu)成本發(fā)明一部分的附圖,并且其中通過舉例說明示出可以在其中實(shí)施本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)理解,在不脫離本發(fā)明的范圍的前提下,可以利用其他實(shí)施例并且可以進(jìn)行結(jié)構(gòu)改變。本發(fā)明的實(shí)施例示出用于在基底上形成基準(zhǔn)的方法和系統(tǒng),其增強(qiáng)基底位置感測的分辨率。例如,本文所述的基準(zhǔn)可用于在滾筒式制造工藝期間方便沉積在基底幅材上的多個(gè)材料層之間的對(duì)齊。在以前的一些方法中,沿著基底的軸線布置基準(zhǔn),這些基準(zhǔn)包括一系列離散的基準(zhǔn)標(biāo)記,類似于尺上的標(biāo)記。然后,使用這些離散的標(biāo)記來確定沿著所述軸線的基底位置。 然而,這種類型的基準(zhǔn)僅可在基準(zhǔn)標(biāo)記處提供間歇的位置檢測,而無法在離散的基準(zhǔn)標(biāo)記之間的間隔期間提供位置信息。根據(jù)本文所述的各種實(shí)施例形成的基準(zhǔn)包括基本上連續(xù)的或分段連續(xù)的基準(zhǔn)元素,即,具有基本上連續(xù)的部分的基準(zhǔn),其可用于提供連續(xù)的位置更新和更準(zhǔn)確的基底定位。圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于在基底100上形成基準(zhǔn)的設(shè)備的框圖?;?00 可由任何合適的材料制成,并可為剛性或柔性的。為了參考,圖1中示出了基底100的橫向軸線101和縱向軸線102。該設(shè)備至少包括第一基準(zhǔn)裝置110,其被構(gòu)造為在基底100上形成一個(gè)基準(zhǔn)111 ;第二基準(zhǔn)裝置120,其被構(gòu)造為在基底100上形成另一個(gè)基準(zhǔn)121。第一基準(zhǔn)裝置Iio的操作受第一基準(zhǔn)控制模塊115控制。第二基準(zhǔn)裝置120的操作受第二基準(zhǔn)控制模塊125控制?;鶞?zhǔn)裝置110、120可包括能夠在基底上形成基準(zhǔn)的任何類型的裝置。例如,基準(zhǔn)裝置可通過噴墨印刷、激光印刷、激光劃片、機(jī)械劃片、直接接觸印刷、激光燒蝕和/或其他技術(shù)來形成基準(zhǔn)111、121。第一和第二基準(zhǔn)裝置110、120通過耦接件130耦接在一起,并例如通過使第一和第二基準(zhǔn)裝置110、120懸在基底100上方來相對(duì)于基底100的表面定位。致動(dòng)器140使基準(zhǔn)裝置110、120 —起橫穿基底100的表面沿著軌線150來回移動(dòng),所述軌線至少具有橫向軸線101分量。致動(dòng)器控制模塊160可包括模擬和/或數(shù)字電路,并且/或者可包括實(shí)現(xiàn)硬件或軟件的處理器,該致動(dòng)器控制模塊控制致動(dòng)器140的操作,因而控制第一和第二基準(zhǔn)110、120沿著軌線150的移動(dòng)?;鶞?zhǔn)裝置110、120來回移動(dòng)的頻率可恒定或不恒定,并且/或者可在不連續(xù)的步驟中執(zhí)行。一個(gè)特別可用的實(shí)施方式是使第一和第二基準(zhǔn)裝置 110、120相對(duì)于縱向軸線以基本上恒定的空間頻率沿著軌線150來回移動(dòng)。在此實(shí)施方式中,如果基底100沿著縱向軸線102相對(duì)于第一和第二基準(zhǔn)裝置110、120的移動(dòng)是基本上空間恒定的,則所得基準(zhǔn)111、121為正弦曲線并且相對(duì)于基底的縱向軸線具有基本上恒定的空間頻率,如圖1所示。當(dāng)基底速度基本上恒定時(shí),具有恒定的空間頻率的基準(zhǔn)可用于產(chǎn)生恒定的頻率基準(zhǔn)傳感器信號(hào)?;鶞?zhǔn)形成設(shè)備還包括機(jī)構(gòu)170,該機(jī)構(gòu)被構(gòu)造為沿著基底的縱向軸線102提供基底100與第一和第二基準(zhǔn)裝置110、120之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。在一些實(shí)施方式中,通過使第一和第二基準(zhǔn)裝置110、120移動(dòng)來提供所述相對(duì)運(yùn)動(dòng),而在一些實(shí)施方式中,通過使基底100 移動(dòng)來提供所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)。例如,縱向移動(dòng)機(jī)構(gòu)170可包括活動(dòng)臺(tái)或滾筒。縱向移動(dòng)機(jī)構(gòu)170的操作受控制模塊180的控制,該控制模塊可為電子器件并且可耦接到致動(dòng)器移動(dòng)控制模塊160以協(xié)調(diào)致動(dòng)器140和基底100的移動(dòng)??墒褂梅答亖頊p小移動(dòng)誤差。圖1的基準(zhǔn)形成設(shè)備被構(gòu)造為在基底100上形成兩個(gè)基準(zhǔn)111、121,但是如果需要,可使用額外的基準(zhǔn)裝置來形成額外的基準(zhǔn)。每一基準(zhǔn)由一個(gè)基準(zhǔn)裝置獨(dú)立地形成。在圖ι所示的實(shí)例中,第一基準(zhǔn)裝置110操作以形成一個(gè)基準(zhǔn)111,第二基準(zhǔn)裝置120操作以形成另一基準(zhǔn)121?;鶞?zhǔn)111、121中的每一個(gè)通常具有使得基準(zhǔn)111、121相對(duì)于縱向軸線的斜率為有限且非零值的區(qū)域。具有傾斜區(qū)域的基準(zhǔn)是有利的,因?yàn)橄啾扔谘刂卓v向布置的一系列離散的基準(zhǔn)元素(例如,尺型標(biāo)記),它們提供更多的位置信息。離散的基準(zhǔn)標(biāo)記通常僅在每一離散標(biāo)記處提供位置信息,而在離散的基準(zhǔn)標(biāo)記之間不提供額外的位置信息。因此,一系列離散的尺型標(biāo)記形式的基準(zhǔn)的分辨率受標(biāo)記之間的距離控制。相比之下,對(duì)于具有連續(xù)的傾斜區(qū)域的基準(zhǔn),基準(zhǔn)的分辨率不受離散標(biāo)記之間的距離的約束。在基準(zhǔn)的形狀已知的情況下,可使用檢測到的形狀來提供連續(xù)的位置信息,從而增大基底位置感測的分辨率。圖2的流程圖示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的形成基準(zhǔn)的方法。第一和第二基準(zhǔn)裝置一起橫穿基底沿著至少具有橫向軸線分量的軌線移動(dòng)210。沿著基底的縱向軸線提供第一和第二基準(zhǔn)與基底之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)220。在沿著軌線移動(dòng)并且基底與第一和第二基準(zhǔn)裝置之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間,操作第一基準(zhǔn)裝置,以在基底上形成一個(gè)基準(zhǔn)230。在沿著軌線移動(dòng)并且基底與第一和第二基準(zhǔn)裝置之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間,操作第二基準(zhǔn)裝置,以在基底上形成另一個(gè)基準(zhǔn)M0。第一和第二基準(zhǔn)中的每一個(gè)具有使得基準(zhǔn)相對(duì)于縱向軸線的斜率為有限且非零值的區(qū)域。圖3示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于在基底上形成基準(zhǔn)的設(shè)備的視圖,所述基底包括被約束在滾筒上的柔性幅材。在此實(shí)施例中,基底是柔性的細(xì)長幅材300。示出幅材300 的橫向軸線301和縱向軸線302的取向以便于參考。幅材300被約束在筒370上,以例如在滾筒式工藝期間方便在幅材300上形成基準(zhǔn)311、321的處理。第一基準(zhǔn)裝置310和第二基準(zhǔn)裝置320通過耦接件330耦接在一起,并懸于幅材300上方。幅材300通過筒370的旋轉(zhuǎn)提供基準(zhǔn)裝置310、320與幅材300之間沿著縱向幅材軸線302的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。致動(dòng)器 340使第一和第二基準(zhǔn)裝置310、320 —起沿著軌線350移動(dòng),該軌線基本上平行于幅材300 的橫向軸線301。第一基準(zhǔn)裝置310操作以在幅材300上形成一個(gè)基準(zhǔn)311,第二基準(zhǔn)裝置 320操作以在幅材300上形成另一個(gè)基準(zhǔn)321。筒370的旋轉(zhuǎn)受筒控制機(jī)構(gòu)(未示出)控制。致動(dòng)器340的移動(dòng)和/或筒370的旋轉(zhuǎn)可由計(jì)算機(jī)控制,以有利于在對(duì)筒旋轉(zhuǎn)和/或致動(dòng)器運(yùn)動(dòng)的速度進(jìn)行編程時(shí)的彈性。 可使用反饋來幫助控制所述運(yùn)動(dòng)和/或旋轉(zhuǎn)。在一些實(shí)施例中,基準(zhǔn)裝置包括噴墨印刷孔,油墨穿過該孔噴到基底上以形成基準(zhǔn)。如圖4所示,用于形成基準(zhǔn)460、461的噴墨孔410、420可在噴墨印刷頭430上間隔開, 該噴墨印刷頭用作將噴墨孔410、420耦接在一起的耦接件。第一孔410用于在基底上形成一個(gè)基準(zhǔn)461,第二孔420用于在基底上形成另一個(gè)基準(zhǔn)460。第一和第二孔410、420中的每一個(gè)可獨(dú)立地控制。在一個(gè)實(shí)施例中,噴墨孔410、420被控制以使得其按照基本上恒定的速率噴出滴劑。通過足夠的分辨率,所得基準(zhǔn)460、461平滑且連續(xù),并且相比于類似級(jí)別的光柵掃描印刷的基準(zhǔn)顯示出顯著的改善??煞謩e利用一個(gè)或多個(gè)額外的噴墨孔形成一個(gè)或多個(gè)額外的基準(zhǔn)。當(dāng)形成連續(xù)、周期性的基準(zhǔn)(例如,正弦曲線)時(shí),噴墨印刷頭430與橫向基底軸線之間的角度θ決定著基準(zhǔn)之間的相移。例如,如果θ為零,并且第一和第二基準(zhǔn)裝置的軌線基本上平行于橫向基底軸線,則將形成具有相同頻率和相位的兩個(gè)基準(zhǔn)。在一些實(shí)施例中,可能有利的是生成異相的周期性基準(zhǔn)。兩個(gè)異相的周期性基準(zhǔn) (例如,正弦和余弦基準(zhǔn))的使用能夠提供多余信息,相比于單個(gè)基準(zhǔn)產(chǎn)生更高的抗擾度、 精度和分辨率。圖4示出可用于生成兩個(gè)異相的周期性基準(zhǔn)460、461的構(gòu)型。噴墨印刷頭 430傾斜,以使得θ非零。在噴墨孔410、420按照基本上恒定的速率噴出油墨的同時(shí)噴墨孔410、420沿著與橫向基底軸線基本上平行的軌線450的移動(dòng)將生成異相的周期性基準(zhǔn) 460,461ο在一個(gè)實(shí)施例中,第一噴墨印刷孔410操作以印刷正弦基準(zhǔn),第二噴墨印刷孔420 操作以印刷余弦基準(zhǔn)??衫孟旅娴墓接?jì)算使得第二噴墨孔420印刷的余弦基準(zhǔn)相對(duì)于第一噴墨孔410所印刷的正弦基準(zhǔn)相移90度的角度θ
權(quán)利要求
1.一種被構(gòu)造為在具有縱向軸線和橫向軸線的基底上形成基準(zhǔn)的設(shè)備,所述設(shè)備包括第一基準(zhǔn)裝置,所述第一基準(zhǔn)裝置被構(gòu)造為在所述基底上形成一個(gè)基準(zhǔn),所述一個(gè)基準(zhǔn)至少包括連續(xù)的部分,所述連續(xù)的部分相對(duì)于所述縱向軸線具有有限且非零的斜率;機(jī)械耦接到所述第一基準(zhǔn)裝置的第二基準(zhǔn)裝置,所述第二基準(zhǔn)裝置被構(gòu)造為在所述基底上形成另一個(gè)基準(zhǔn),所述另一個(gè)基準(zhǔn)至少包括連續(xù)的部分,所述連續(xù)的部分相對(duì)于所述縱向軸線具有有限且非零的斜率;移動(dòng)機(jī)構(gòu),所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)被構(gòu)造為沿著所述縱向軸線提供所述基底與所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng);和致動(dòng)器,所述致動(dòng)器被構(gòu)造為在所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置形成所述基準(zhǔn)的操作期間并且在所述基底與所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置之間的所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間,使所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置一起沿著具有橫向軸線分量的軌線橫穿所述基底來回移動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置按照每單位基準(zhǔn)面積基本上恒定的能量操作以在所述基底上形成基準(zhǔn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中由所述第一基準(zhǔn)裝置形成的所述一個(gè)基準(zhǔn)包括第一正弦基準(zhǔn);和由所述第二基準(zhǔn)裝置形成的所述另一個(gè)基準(zhǔn)包括第二正弦基準(zhǔn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置中的一者或多者被構(gòu)造為在所述基底上印刷。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置中的一者或多者被構(gòu)造為刻蝕所述基底。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置中的一者或多者被構(gòu)造為對(duì)所述基底進(jìn)行劃片。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置中的一者或多者包括照相平版印刷裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,還包括至少一個(gè)額外的基準(zhǔn)裝置,其被構(gòu)造為在所述基底上形成至少一個(gè)額外的基準(zhǔn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其中所述額外的基準(zhǔn)裝置未耦接來與所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置一起移動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括滾筒。
11.一種被構(gòu)造為在具有縱向軸線和橫向軸線的基底上印刷基準(zhǔn)的設(shè)備,所述設(shè)備包括第一印刷孔,所述第一印刷孔被構(gòu)造為噴墨以沿著所述基底的所述縱向軸線印刷一個(gè)具有基本上連續(xù)的部分的基準(zhǔn);耦接到所述第一印刷孔的第二印刷孔,所述第二印刷孔被構(gòu)造為噴墨以沿著所述基底的所述縱向軸線印刷另一個(gè)具有基本上連續(xù)的部分的基準(zhǔn);移動(dòng)機(jī)構(gòu),所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)被構(gòu)造為沿著所述基底的所述縱向軸線提供所述基底與所述第一印刷孔和所述第二印刷孔之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng);和致動(dòng)器,所述致動(dòng)器被構(gòu)造為在所述第一印刷孔和所述第二印刷孔印刷所述基準(zhǔn)的操作期間以及沿著所述縱向軸線在所述第一印刷孔和所述第二印刷孔與所述基底之間的所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間,使所述第一印刷孔和所述第二印刷孔一起沿著至少具有橫向軸線分量的軌線來回移動(dòng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其中所述第一印刷孔和所述第二印刷孔被構(gòu)造為按照基本上恒定的速率噴墨以在所述基底上印刷所述基準(zhǔn)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11-12中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述第一印刷孔設(shè)置在第一印刷頭上,所述第二印刷孔設(shè)置在耦接到所述第一印刷頭的第二印刷頭上。
14.根據(jù)權(quán)利要求11-13中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述第一印刷孔和所述第二印刷孔被設(shè)置為使得由所述第一印刷孔印刷的所述一個(gè)基準(zhǔn)相對(duì)于由所述第二印刷孔印刷的所述另一個(gè)基準(zhǔn)相移。
15.根據(jù)權(quán)利要求11、12或14中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中第一印刷孔和所述第二印刷孔設(shè)置在印刷頭的一列中,所述一列相對(duì)于所述橫向軸線成非零角度傾斜。
16.根據(jù)權(quán)利要求11-15中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中所述基準(zhǔn)相對(duì)于所述縱向軸線具有基本上恒定的空間頻率。
17.根據(jù)權(quán)利要求11-16中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,還包括額外的基準(zhǔn)裝置,所述額外的基準(zhǔn)裝置被構(gòu)造為在所述額外的基準(zhǔn)裝置與所述基底之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間操作以在所述基底上形成基本上水平線。
18.根據(jù)權(quán)利要求11-16中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,還包括額外的基準(zhǔn)裝置,所述額外的基準(zhǔn)裝置被構(gòu)造為在所述額外的基準(zhǔn)裝置與所述基底之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間操作以在所述基底上形成一系列離散的基準(zhǔn)標(biāo)記。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備,其中所述額外的基準(zhǔn)裝置耦接以與所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置一起移動(dòng)。
20.根據(jù)權(quán)利要求11-19中任一項(xiàng)所述的設(shè)備,其中由所述第一印刷孔印刷的所述一個(gè)基準(zhǔn)包括正弦波;并且由所述第二印刷孔印刷的所述另一個(gè)基準(zhǔn)包括余弦波。
21.一種在具有縱向軸線和橫向軸線的基底上形成基準(zhǔn)的方法,所述方法包括使第一基準(zhǔn)裝置和第二基準(zhǔn)裝置一起沿著具有沿所述橫向軸線的分量的軌線來回移動(dòng);沿著所述縱向軸線提供所述基底與所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng);在所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)以及沿著所述軌線的移動(dòng)期間操作所述第一基準(zhǔn)裝置,以在所述基底上形成一個(gè)基準(zhǔn);和在所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)以及沿著所述軌線的移動(dòng)期間操作所述第二基準(zhǔn)裝置,以在所述基底上形成另一個(gè)基準(zhǔn)。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法,其中使所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置一起沿著所述軌線來回移動(dòng)包括使所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置一起相對(duì)于所述縱向軸線按照基本上恒定的空間頻率來回移動(dòng)。
23.根據(jù)權(quán)利要求21-22中任一項(xiàng)所述的方法,其中操作所述第一基準(zhǔn)裝置包括操作所述第一基準(zhǔn)裝置以在所述基底上形成一個(gè)正弦基準(zhǔn);和操作所述第二基準(zhǔn)裝置包括操作所述第二基準(zhǔn)裝置以在所述基底上形成另一個(gè)正弦基準(zhǔn),其中所述第一正弦基準(zhǔn)相對(duì)于所述第二正弦基準(zhǔn)相移。
24.根據(jù)權(quán)利要求21-23中任一項(xiàng)所述的方法,其中操作所述第一基準(zhǔn)裝置包括在所述基底上印刷。
25.根據(jù)權(quán)利要求21-M中任一項(xiàng)所述的方法,還包括操作額外的基準(zhǔn)裝置以在所述基底上形成額外的基準(zhǔn)。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法,其中操作所述額外的基準(zhǔn)裝置包括沿著所述縱向軸線印刷基本上直的線。
27.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法,其中操作所述額外的基準(zhǔn)裝置包括在所述基底上印刷離散的基準(zhǔn)標(biāo)記。
28.根據(jù)權(quán)利要求21-27中任一項(xiàng)所述的方法,其中 所述基底是柔性幅材;并且沿著所述縱向軸線提供所述第一基準(zhǔn)裝置和所述第二基準(zhǔn)裝置與所述基底之間的所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)包括將所述柔性幅材約束在筒上并使所述筒旋轉(zhuǎn)。
全文摘要
本發(fā)明涉及在基底上形成基準(zhǔn)的設(shè)備,其中在基底上形成具有基本上連續(xù)的部分的基準(zhǔn)允許確定基底的位置。本發(fā)明公開一種形成基準(zhǔn)的方法,其涉及使第一和第二基準(zhǔn)裝置一起橫穿基底沿著具有沿基底橫向軸線的分量的軌線來回移動(dòng),同時(shí)基底與第一和第二基準(zhǔn)裝置沿著基底的縱向軸線相對(duì)運(yùn)動(dòng)。第一基準(zhǔn)裝置在沿著所述軌線的移動(dòng)以及所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間操作以在基底上形成一個(gè)基準(zhǔn)。第二基準(zhǔn)裝置在沿著所述軌線的移動(dòng)以及所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間操作以在基底上形成另一個(gè)基準(zhǔn)。所述基準(zhǔn)可形成為使得其具有恒定的空間頻率,同時(shí)第一基準(zhǔn)相對(duì)于第二基準(zhǔn)異相。
文檔編號(hào)D06C27/00GK102272375SQ200980153615
公開日2011年12月7日 申請日期2009年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月30日
發(fā)明者丹尼爾·H·卡爾森, 丹尼爾·J·泰斯, 布賴恩·K·納爾遜 申請人:3M創(chuàng)新有限公司
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