用于具有凹槽和錐度的分散機盤的齒的制作方法
【專利摘要】一種用于從纖維原料上移除污物的分散機盤段，其包括：徑向的內(nèi)緣和外緣；多個徑向的同心齒排；每個齒排具有限定分布在齒中間的多個通道的多個齒；每個通道具有一個下方的通道基部表面，且每個齒包括：頂部表面，至少一個從通道基部表面延伸到頂部表面的正表面；和所述至少一個正表面包括至少兩個凹槽。
【專利說明】用于具有凹槽和錐度的分散機盤的齒
相關申請
[0001]本申請要求2012年12月26日提交的美國臨時專利申請61/746，011號的優(yōu)先權，該申請的全部內(nèi)容通過引用包含在本申請中。
【技術領域】
[0002]本公開涉及分散機盤段。
【背景技術】
[0003]再生紙和包裝材料被本領域技術人員稱為“纖維原料(fiber stock)”。纖維原料通常經(jīng)過幾個過程來移除復印紙的墨水和調(diào)色劑。諸如塑料的污物被本領域人員統(tǒng)稱為“膠粘物(stickies)”。移除過程并不完全有效，殘留的墨水、調(diào)色劑和膠粘物典型地被分散來避免膠粘物粘在造紙機的零件上，導致新紙產(chǎn)生孔洞或薄弱點。膠粘物結(jié)塊和堆積在造紙機上會導致空閑時間，從而增加制造過程的成本。殘留的墨水顆粒典型地顯示為再生紙上的眼鏡，嚴重降低了其價值。
[0004]一種叫分散機的機器能用于減少墨水和膠粘物顆粒的尺寸，從而在隨后的造紙機操作中，紙的品質(zhì)可以最小地壓實。分散機通常具有兩個彼此面對的圓盤。通常被稱作轉(zhuǎn)盤的一個盤旋轉(zhuǎn)的同時，被稱作靜盤的另一個盤靜止。圓錐形機器也用于轉(zhuǎn)動的圓錐體移動的同時靜止的圓錐體通常保持靜止的地方。
[0005]盤或圓錐體表面可以安裝盤段，盤段帶有沿切線排安裝的椎體或齒。這些排通常選擇在允許橫切轉(zhuǎn)盤和靜盤的齒在盤或圓錐體之間的平面的半徑上，從而從轉(zhuǎn)盤的中心流到盤或圓錐體外圍的纖維通常在流動靠近靜盤齒時接收來自轉(zhuǎn)盤齒的沖擊。轉(zhuǎn)盤和靜盤的齒之間的間隙大約是I到12_，使纖維通常不被切斷，而是典型地狠狠地、交替地彎曲。這個動作通常將墨水和調(diào)色劑顆粒打碎成更小的顆粒并分解膠粘顆粒。通常認為新鮮的粘滯表面收集細纖維顆粒且進一步鈍化為更小的顆粒。增加彎曲的次數(shù)，經(jīng)驗顯示纖維通常增加不需要的顆粒還原過程。增加更多的齒通常增加分散過程的效率，但在合理成本能制造的齒的大小限制了這個數(shù)量。US7，172，148中描述的傳統(tǒng)的分散機盤，一單獨的凹槽從齒的頂部表面延伸到頂部表面和通道基部表面中間的一個點。
[0006]對于圓錐形分散機，其圓錐體包括椎體或齒，通常發(fā)生同樣的動作且齒的設計與平的盤基本相同。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]通過增加接觸纖維原料的邊緣的數(shù)量可以提高分散的效率，且減少進入造紙機的墨水、調(diào)色劑和膠粘物的數(shù)量。通過在齒的一側(cè)或多側(cè)設置凹槽，可以提高接觸邊緣的數(shù)量，同時基本維持齒的結(jié)構(gòu)完整性。由齒的側(cè)邊限定的平面在整個文章中被稱作“正表面(face surface)，，。
[0008]用于從纖維原料除去污物的分散機盤段，該盤段包括:徑向內(nèi)緣和徑向外緣，多個徑向同心齒排，每個齒排具有限定齒之間的多個通道的很多齒，每個通道具有下部通道基部表面，且每個齒包括:頂部表面、從通道基部表面延伸到頂部表面的至少一個正表面，其中至少一個正表面包括至少兩個凹槽。
[0009]至少一個齒在其至少一個表面上具有多個凹槽。附加到齒的正表面的凹槽有助于增加施加結(jié)合的齒排之間的材料上的圓周摩擦，從而改善污物從所需的材料上分離。當齒在通道基部表面和齒頂部表面之間垂直移動材料時，通過使用相對齒表面的正表面的垂直軸成角度的凹槽，有助于改變沿齒高度軸的材料方向。
[0010]每個齒的內(nèi)外表面以一銳角從通道基部表面向頂部表面延伸，使齒可以是截棱錐形。具有多個凹槽的齒，當凹槽延伸到齒的頂部表面時，其頂部表面部分將內(nèi)表面和外表面凹槽彼此分開。此外，對于多凹槽齒，其頂部表面部分將沿正表面的凹槽分開；這個正表面可以是內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面。在一些實施例中，該正表面可以是限制兩個齒之間通道的齒的側(cè)表面。
[0011]在一些實施例中，內(nèi)側(cè)正表面和外側(cè)正表面的凹槽可以是錐形的。如，至少一個凹槽，其寬度從頂部表面朝通道基部表面在正表面朝外成錐形。在另一個實施例中，當凹槽從頂部表面朝通道基部表面延伸時，凹槽的深度從正表面進入或朝齒/材料內(nèi)成錐形。在涉及成錐形的凹槽的實施例中，頂部表面部分將內(nèi)側(cè)正表面和外側(cè)正表面凹槽彼此分開。
[0012]在一些實施例中，至少一個凹槽的寬度沿其長度改變。如至少一個凹槽在齒正表面向外逐漸減小。在另一個實施例中，至少一個凹槽的深度沿其長度改變。如凹槽朝通道基部表面延伸過齒正表面時，至少一個凹槽的深度在齒正表面向內(nèi)逐漸增大。在一些實施例中，凹槽不能相互連接通過齒。在其他一些實施例中，至少兩個凹槽連接是可能的。
[0013]每個齒也可以具有相對布置的導源和尾緣。每個齒的內(nèi)側(cè)正表面的凹槽和每個齒的外側(cè)正表面的凹槽限定附加導緣和附加尾緣。
[0014]在這個公開的一個實施例中，在齒的內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面上的多個凹槽在頂部表面和通道基部表面之間延伸基本相同的長度，從頂部表面到頂部表面和通道基部表面中間的一個點。
[0015]在本公開的另一個實施例中，在齒的內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面上的多個凹槽在頂部表面和通道基部表面之間延伸相同長度，如至少一個凹槽從齒頂部表面延伸到或基本到通道基部表面。
[0016]在本公開的另一個實施例中，在齒的內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面上的多個凹槽在頂部表面和通道基部表面之間延伸不同長度。如一個或多個凹槽從頂部表面延伸到通道基部表面，和一個或多個凹槽從頂部表面延伸到頂部表面和通道基部表面中間的凹槽下方最低端點，和一個或多個凹槽從通道基部表面向上延伸但不到頂部表面，和一個或多個凹槽從頂部表面下方延伸到通道基部表面中間的一個點。
[0017]在又一個實施例中，齒的內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面上的單個凹槽的寬度可以變化。在內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面上的單個凹槽的寬度也可以沿任一單獨齒變化。如一個凹槽可以具有比該齒正表面上的剩下凹槽寬的寬度。每個凹槽的長度，無論寬窄可以是前面提到長度的任何一種，如從頂部表面到通道基部表面的整個長度，或從頂部表面到頂部表面和通道基部表面中間的一個點的長度，或從通道基部表面到頂部表面下方的一個點的長度。此外，一個或多個凹槽從頂部表面下方延伸到通道基部表面中間的一個點。[0018]在本公開的又另一實施例中，可變長度(如前面所述)的多個錐形凹槽出現(xiàn)在齒的內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面。
[0019]在本公開的另一實施例中，在內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面上的凹槽相對于齒表面的正表面的垂直軸成角度，每個凹槽可以是相同長度或不同長度。成角度的凹槽可以具有相同寬度或不同寬度并具有錐形。凹槽的寬度和深度兩者可以逐漸變小。相反地，凹槽的寬度和深度之一可以是逐漸變小的。凹槽的角度可以是大約5度到大約60度。
[0020]構(gòu)想的從纖維材料中移除污物的分散機盤段，其包括:徑向的內(nèi)緣和外緣以及多個徑向的同心齒排；每個齒排具有限定分布在齒中間的多個通道的多個齒；每個通道具有一個下方的通道基部表面，且每個齒包括:頂部表面、至少一個從通道基部表面延伸到頂部表面的正表面，所述至少一個正表面限定了相對于正表面的垂直軸成角度Θ的至少兩個凹槽。
[0021]本公開的一個實施例中的內(nèi)側(cè)正表面和另一個實施例中的外側(cè)正表面或內(nèi)側(cè)正表面和外側(cè)正表面兩者用在本公開的同一實施例中是可能的。在又一實施例中，可以使用任何齒表面上的前面描述的凹槽的任一組合。
[0022]分散機盤包括:多個徑向同心齒排，其中每一排構(gòu)造成與相對盤上的齒排之間哨合；徑向同心排的相鄰齒限定了相鄰齒之間的通道，其中每個通道與相對盤上各個齒排對準，且多個凹槽在至少一個同心排上的每個齒的正表面上。
[0023]此外，分散機盤可以分割成分散機盤段。在一些實施例中，分散機盤在至少一個同心排內(nèi)具有齒，每個齒具有上表面和從一個通道延伸的各自齒的頂部表面的凹槽。在分散機的至少一些實施例中，在每個齒上的至少一個凹槽的深度沿高凹槽的長度變化。在一些實施例中，該凹槽部分沿齒的高度延伸且凹槽是平行的。在其他一些實施例中，凹槽傾斜于分散機盤的旋轉(zhuǎn)平面。在至少一些實施例中，每個齒的至少一個凹槽的寬度不同于該齒上至少另一個凹槽的寬度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]上述內(nèi)容通過對公開的附圖中示出的實施例的詳細描述變得更清楚，附圖中不同的圖中，相同的參考特征指代相同的零件。附圖不一定按比例繪制，其重點在顯示所公開裝置的示例實施例。
[0025]圖la、lb和Ic顯示了帶有盤段的傳統(tǒng)的分散機。
[0026]圖2顯示了具有多個長度和寬度相近的凹槽的齒的示意圖。
[0027]圖3顯示了具有多個不同長度的凹槽的齒的示意圖。
[0028]圖4顯示了具有多個不同寬度的多個凹槽的齒的示意圖。
[0029]圖5顯示了具有寬度逐漸減小的一個凹槽的齒的示意圖。
[0030]圖6顯示了具有深度逐漸減小的一個凹槽的齒的示意圖。
[0031]圖7顯示了具有深度逐漸減小的非對稱形狀的齒的示意圖。
[0032]圖8是圖7的鏡像圖。
[0033]圖9顯示了具有不同形狀的多個凹槽的齒的頂部示意圖。
[0034]圖10顯示了具有成角度凹槽的齒的示意圖?！揪唧w實施方式】
[0035]增加用于材料的接觸邊緣的數(shù)量可以提高纖維原料中污物和膠粘物的分解并提高分散機的效率。
[0036]根據(jù)本公開的任一實施例中的分散機盤段具有至少一個齒，齒的內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面包括至少兩個凹槽。具有至少兩個凹槽的齒的凹槽長度、寬度、形狀、寬度逐漸減小的凹槽、深度逐漸減小的凹槽或內(nèi)側(cè)正表面或外側(cè)正表面上成角度凹槽可以任意組合。
[0037]盡管凹槽在附中被描繪成長圓形、圓柱形或圓錐形，凹槽可以是其他實施例中的三角形、金字塔形或四邊形。
[0038]圖la、Ib和Ic顯示了分散機的傳統(tǒng)盤段10。在圖1a中，傳統(tǒng)的盤段10是一個轉(zhuǎn)盤盤段15。每個傳統(tǒng)盤段10是模鑄金屬件，成餅狀，如環(huán)狀去頭楔形，具有總的平面基板。然而，傳統(tǒng)盤段10可以是圓形或半圓形的，且基板可以是圓錐形或部分圓錐形。每個傳統(tǒng)盤段10具有朝向傳統(tǒng)盤段10固定在其上的盤(未示出)的公共中心軸19的內(nèi)緣22。每個傳統(tǒng)盤段10還具有靠近朝向傳統(tǒng)盤段10固定在其上的盤(未示出)的外周的外緣24。每個傳統(tǒng)盤段10具有齒28的同心排26。本領域技術人員把齒28當做金字塔形(椎體)。齒28的每個同心排26在距離公共中心軸19的相同半徑距離處(如半徑32)。
[0039]圖1b是一個靜盤盤段15的橫截面圖。當纖維原料(未示出)接觸靜盤盤段15的內(nèi)緣12附近的靜盤盤段15時，纖維原料流過齒28的同心排26，流向靜盤盤段15的外緣24。
[0040]圖1c是彼此相對布置的轉(zhuǎn)盤12和靜盤13的橫截面圖。靜盤13具有靜盤盤段15的環(huán)形陣列，而轉(zhuǎn)盤12具有轉(zhuǎn)盤盤段14的環(huán)形陣列。
[0041]轉(zhuǎn)盤盤段14上的齒28與靜盤盤段15陣列的齒排相互結(jié)合，如圖1c所示。相互結(jié)合的齒28橫切轉(zhuǎn)盤12和靜盤13之間的間隙30中的徑向延伸平面。
[0042]轉(zhuǎn)盤12上的轉(zhuǎn)盤盤段14的陣列和靜盤13上的靜盤盤段15的陣列通常繞一公共中心軸19旋轉(zhuǎn)。
[0043]當轉(zhuǎn)盤12旋轉(zhuǎn)時，纖維原料(未示出)通常作為纖維原料墊移動經(jīng)過靜盤盤段15和轉(zhuǎn)盤盤段14的陣列之間的蛇形間隙30。當該墊移動通過齒28之間時，纖維原料的彎曲將膠粘物從纖維原料中的纖維中拉出來。
[0044]轉(zhuǎn)盤12和轉(zhuǎn)盤盤段14的旋轉(zhuǎn)施加了一個離心力，將纖維原料移動直通相對的盤段陣列之間的間隙30。當纖維原料徑向移動超過轉(zhuǎn)盤盤段14和靜盤盤段15的外緣24時，纖維原料進入分散機的套31中。
[0045]附圖中保持相同的元件使用相同的參考標識。圖2顯示了具有基本相同長度的凹槽110的齒100的正表面140。凹槽100從齒100的頂部表面120延伸到通道基部表面130。每個凹槽110的寬度150和深度160近似或基本相同。
[0046]圖3顯示了具有不同長度的凹槽210的齒200的正表面240。凹槽210從頂部表面220延伸到通道基部表面230，或從頂部表面220到頂部表面220和通道基本表面230中間的一個點255，或從通道基部表面230到頂部表面200下方的一個點，或一個或多個凹槽210從頂部表面220下方的一個點延伸到通道基部表面230中間的一個點，或具有具有至少一個長度不同于其他凹槽210的凹槽210，具有相同或基本相同的寬度250和深度的凹槽210的任一組合。[0047]圖4顯示了具有相同長度的凹槽310的齒300的表面340。在其他實施例中，凹槽的長度可以是不同的。凹槽310可以從頂部表面320延伸到通道基部表面330，或從頂部表面320到頂部表面和通道基部表面330之間的一個點，或從通道基部表面330到頂部表面320下方的一個點，或一個或多個凹槽310從頂部表面320下方的一個點延伸到通道基部表面330中間的一個點，或具有至少一個長度不同于其他凹槽310的凹槽，具有至少一個寬度350不同于其他凹槽310的凹槽310的任一組合。進入齒300的凹槽310的深度360沿朝向齒頂部方向或相反方向是變化的，如線性地。此外，凹槽310的深度360在相同齒300上從凹槽310到凹槽310變化。
[0048]圖5顯示了具有單個凹槽410的齒400的正表面440。凹槽410的寬度450從在或靠近頂部表面420的最窄點到在或靠近通道基部表面430的最寬點逐漸形成錐度。凹槽410的寬度450沿正表面440逐漸減少的同時，凹槽410的深度460和長度保持不變或凹槽的深度460保持不變時凹槽的長度變化。
[0049]圖6顯示了具有單個凹槽510的齒的正表面540。凹槽510具有第一深度560，其從頂部表面520到在凹槽510的最低點的第二深度570成錐度。第一深度560可以當做正表面540和頂部表面520的凹槽510的頂部內(nèi)背部580之間的距離來測量。凹槽510的最低點可以是最靠近通道基部表面530的點。第二深度570可以當做正表面540和凹槽510的最低內(nèi)背部590之間的距離來測量。凹槽510的錐形從第一深度560到第二深度570增加且如大約Imm到大約IOmm,或可能大約2mm到大約IOmm,或可能大約Imm到大約3mm,或可能大約2_到大約5_以及其間的任何尺寸。凹槽510具有可變的錐形深度，其中第一深度560和第二深度570對每個凹槽510可以是相同的，也可以是不同的。除了凹槽510中具有不同深度，每個凹槽510的深度可以逐漸減小。此外，在正表面540上的凹槽510的長度可以隨第一深度560和第二深度570變化而變化。凹槽510的上端位于通道基部表面530和頂部表面520之間的任何點，同時在或靠近通道基部表面530的是凹槽510的最低點，或凹槽510從頂部表面520延伸到通道基部表面530中間的一個點，或具有沿正表面540布置但不延伸到頂部表面520和通道基本表面530的凹槽510同時至少一個凹槽510具有第一深度560和第二深度570。圖6中未顯示，與齒500的底部相比，凹槽的深度比齒500頂部的大。
[0050]圖7顯示了具有深度逐漸減小的不對稱形狀的齒600的俯視圖。在開口 621的左側(cè)612，從正表面640到凹槽最里邊的點655的角度淺而尖，如小于大約90度。在右側(cè)613，從正表面640到凹槽最里邊的點655的角度是大約90度。在一些實施例中，從前表面640到凹槽最里邊的點655的角度是對稱的。在其他一些實施例中，從前表面640到凹槽最里邊的點655的角度是不對稱的。
[0051]圖8顯示了圖7的鏡像、具有深度逐漸減小的不對稱形狀的齒600的俯視圖。在開口 721的右側(cè)712，從正表面740到凹槽最里邊的點755的角度淺而尖，如小于大約90度。在左側(cè)713，從正表面740到凹槽最里邊的點755的角度是大約90度。在一些實施例中，從前表面740到凹槽最里邊的點755的角度是對稱的。在其他一些實施例中，從前表面740到凹槽最里邊的點655的角度是不對稱的。
[0052]圖9顯示了多個凹槽的齒800的俯視圖，齒800是圖7和圖8所示的形狀的任意組合。如圖9所示，開口 821具有開口 621 (見圖7)的形狀。在第一淺側(cè)818，從正表面840到凹槽最里邊的點855的角度淺而尖，如小于大約90度。在尖側(cè)813，從正表面840到凹槽最里邊的點855的角度是大約90度。開口 822具有開口 721 (見圖8)的形狀。在第二淺側(cè)812，從正表面840到凹槽最里邊的點855的角度淺而尖，如小于大約90度。在尖側(cè)813，從正表面840到凹槽最里邊的點855的角度是大約90度。在其他實施例中，用圖7或圖8中的至少一個結(jié)構(gòu)的凹槽可以用于至少一個齒。
[0053]圖10顯示具有頂部表面920、通道基部表面930和凹槽910的齒900的正表面940。凹槽910以大約5度到大約60度之間的角度Θ布置。在其他實施例中，角度Θ可以在大約10到大約60度之間，或可能在相對于齒900的正表面940的垂直軸成大約30度到大約60度。在一些實施例中，角度Θ可以在分散機的相同齒上的至少一個凹槽中變化。在一些實施例中，角度Θ在分散機上的不同齒上的至少一個凹槽之間變化。角度Θ允許凹槽的邊緣與不同角度的纖維原料結(jié)合，來增加接觸纖維原料的邊緣的數(shù)量并以改善分散的方式改變纖維原料的方向。與此相比，傳統(tǒng)分散機盤齒上的傳統(tǒng)凹槽的角度Θ是大約零度。凹槽910顯示為具有不同的長度965和相同的寬度950。在一些實施例中，凹槽910也具有相同的深度(未示出)。凹槽910可以具有不同的寬度950和相同的長度965以及相同深度。在其他實施例中，凹槽910可以具有相同的寬度和不同的高度。在另一個實施例中，至少一個凹槽的長度延伸通過至少一個齒的旁邊的正表面。在一些實施例中，當凹槽910穿過正表面940時，凹槽910的寬度950由窄到寬形成錐度。在一些實施例中，當凹槽910穿過正表面940時，深度可以從淺到深形成錐度。上述實施例的組合也是可以的。
[0054]顯示并描述了優(yōu)選的實施例，在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以做出各種改變和替代。因此，應該理解本發(fā)明通過示例來描述而不是限制。
【權利要求】
1.用于從纖維原料上移除污物的分散機盤段，其包括: 徑向的內(nèi)緣和外緣； 多個徑向的同心齒排； 每個齒排具有限定分布在齒中間的多個通道的多個齒； 每個通道具有一個下方的通道基部表面，且每個齒包括: 頂部表面， 至少一個從通道基部表面延伸到頂部表面的正表面；和 其中，所述至少一個正表面包括至少兩個凹槽。
2.根據(jù)權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個從頂部表面延伸到或基本到通道基部表面。
3.根據(jù)權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個具有比至少一個齒的頂部表面低的最聞端。
4.根據(jù)權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個具有在至少一個齒的頂部表面和通道基部表面中間的最低端。
5.根據(jù)權利要求 1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個的寬度不同于正表面上其他凹槽的寬度。
6.根據(jù)權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個的寬度沿長度變化，使長度在正表面上向外形成錐度。
7.根據(jù)權利要求1所述的分散機盤段，其中，凹槽中至少一個的深度沿長度變化，使長度向正表面內(nèi)形成錐度。
8.用于從纖維原料上移除污物的分散機盤段，其包括: 徑向的內(nèi)緣和外緣以及多個徑向的同心齒排； 每個齒排具有限定分布在齒中間的多個通道的多個齒； 每個通道具有一個下方的通道基部表面，且每個齒包括: 頂部表面， 至少一個從通道基部表面延伸到頂部表面的正表面，所述至少一個正表面限定了相對于正表面的垂直軸成角度Θ的至少兩個凹槽。
9.根據(jù)權利要求8所述的分散機盤段，其中，角度Θ在大約5度到大約60度之間。
10.根據(jù)權利要求8所述的分散機盤段，其中，正表面上凹槽的至少一個的長度不同于該正表面上其他凹槽的長度。
11.根據(jù)權利要求8所述的分散機盤段，其中，正表面上凹槽的至少一個的寬度不同于該正表面上其他凹槽的寬度。
12.根據(jù)權利要求8所述的分散機盤段，其中，凹槽的至少一個的寬度沿長度變化，使該凹槽延伸過正表面時長度向外形成錐度。
13.根據(jù)權利要求8所述的分散機盤段，其中，凹槽的至少一個的深度沿長度變化，使該凹槽朝通道基部表面延伸過正表面時長度向內(nèi)形成錐度。
14.分散機盤，包括: 多個徑向同心齒排，其中每個齒排構(gòu)造成哨合在相對盤上的齒排之間； 徑向同心齒排的相鄰齒限定了相鄰齒之間的通道，其中每個通道與相對盤上對應齒排對齊，且 多個凹槽在至少一個同心排上的每個齒的正表面上。
15.根據(jù)權利要求14所述的分散機盤,其中，分散機盤被分割成盤段。
16.根據(jù)權利要求14所述的分散機盤，其中，在徑向同心齒排的至少一排上的每個齒具有上表面和從一個通道延伸到各自齒的頂部表面的凹槽。
17.根據(jù)權利要求14所述的分散機盤，其中，每個齒上的至少一個凹槽的深度沿該凹槽長度變化。
18. 根據(jù)權利要求14所述的分散機盤，其中，凹槽的至少一個部分沿齒的高度延伸。
19.根據(jù)權利要求14所述的分散機盤，其中，凹槽是平行的。
20.根據(jù)權利要求14所述的分散機盤，其中，凹槽傾斜于盤旋轉(zhuǎn)的平面。
21.根據(jù)權利要求14所述的分散機盤，其中，每個齒上的至少一個凹槽的寬度不同于該齒上其他一個凹槽的寬度。
【文檔編號】D21C9/08GK103898792SQ201310706284
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2013年12月19日 優(yōu)先權日:2012年12月26日
【發(fā)明者】伊斯莫·伊哈萊恩 申請人:安德里茲有限公司