本實用新型屬于熨燙設備，具體涉及一種具有蒸汽擴散腔的熨燙底板及蒸汽電熨斗。

背景技術：

現(xiàn)有的熨燙底板，其出氣通孔的端口位于底板底面上的光滑面，蒸汽分布不均，且與被熨燙織物接觸時間較短，不能使被熨燙織物充分接觸蒸汽來最大的保護織物的綿柔特性。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型要解決的技術問題和提出的技術任務是克服現(xiàn)有熨燙底板蒸汽分布不均，且與被熨燙織物接觸時間較短的缺陷，提供一種具有蒸汽擴散腔的熨燙底板及蒸汽電熨斗。

為達到上述目的，本實用新型的具有蒸汽擴散腔的熨燙底板，其上分布用于釋放蒸汽的出氣通孔，其底面具有用于與被熨燙織物接觸的光滑面，其特征是：所述的底面上設有相對于所述光滑面向內(nèi)凹進的蒸汽擴散腔，所述的出氣通孔分布在所述的蒸汽擴散腔內(nèi)。

作為優(yōu)選技術手段：所述的蒸汽擴散腔呈環(huán)形。

作為優(yōu)選技術手段：所述底面上位于所述環(huán)形蒸汽擴散腔內(nèi)側(cè)的部分及位于所述環(huán)形蒸汽擴散腔外側(cè)的部分均為所述的光滑面。

作為優(yōu)選技術手段：所述的底面上設有凹槽作為蒸汽釋放通道，所述凹槽的一端連通所述的蒸汽擴散腔，所述凹槽的另一端敞開于所述熨燙底板的邊緣。

作為優(yōu)選技術手段：所述熨燙底板的一端呈尖角狀，所述的凹槽位于所述熨燙底板的呈尖角狀的一端的底面上。

作為優(yōu)選技術手段：所述的凹槽為多個且呈左右對稱分布。

作為優(yōu)選技術手段：所述的蒸汽擴散腔為分散的多個。

作為優(yōu)選技術手段：所述蒸汽擴散腔的深度小于1mm。

為達到上述目的，本實用新型的蒸汽電熨斗包括本實用新型的具有蒸汽擴散腔的熨燙底板。

本實用新型通過在底面上設相對于光滑面向內(nèi)凹進的蒸汽擴散腔，出氣通孔分布在蒸汽擴散腔內(nèi)，使得熨燙底板貼著待熨織物時，來自出氣通孔的蒸汽通過蒸汽擴散腔向外釋放蒸汽壓力，以保證提供持續(xù)均勻的大面積的蒸汽以及順暢持續(xù)供給蒸汽，并保證較長時間與被熨燙織物接觸，使被熨燙織物充分接觸蒸汽，最大的保護織物的綿柔特性，使熨燙織物能快捷的被熨燙平整滑順。

附圖說明

圖1為本實用新型熨燙底板的底面結(jié)構(gòu)的示意圖；

圖2為本實用新型熨燙底板在蒸汽擴散腔部位的斷面結(jié)構(gòu)的示意圖；

圖3為本實用新型蒸汽電熨斗的示意圖；

圖中標號說明：01-熨燙底板：11-出氣通孔，12-光滑面，13-蒸汽擴散腔，14-凹槽，H-蒸汽擴散腔的深度。

具體實施方式

以下結(jié)合說明書附圖對本實用新型做進一步說明。

如圖3所示的電熨斗，其具有一個相對于現(xiàn)有技術改進的熨燙底板01，該熨燙底板01如圖1-2所示，其上分布用于釋放蒸汽的出氣通孔11，其底面具有用于與被熨燙織物接觸的光滑面12，底面上設有相對于光滑面向內(nèi)凹進的蒸汽擴散腔13，出氣通孔11分布在蒸汽擴散腔13內(nèi)。

具體的，蒸汽擴散腔13呈環(huán)形，圖示為單環(huán)，具體實施時可以是兩個或者更多的環(huán)形。底面上位于環(huán)形蒸汽擴散腔內(nèi)側(cè)的部分及位于環(huán)形蒸汽擴散腔外側(cè)的部分均為光滑面，從而能夠在光滑面接觸被熨燙織物時蒸汽擴散腔能夠朝向被熨燙織物。

底面上設有凹槽14作為蒸汽釋放通道，凹槽14的一端連通蒸汽擴散腔13，凹槽的另一端敞開于熨燙底板01的邊緣以便能夠通過凹槽向外噴射蒸汽。熨燙底板的一端呈尖角狀，凹槽位于熨燙底板的呈尖角狀的一端的底面上。凹槽為多個且呈左右對稱分布。

具體實施時，蒸汽擴散腔為分散的多個。蒸汽擴散腔的深度H小于1mm（參見圖2）。

該蒸汽電熨斗，熨燙底板貼著待熨織物時，來自出氣通孔的蒸汽通過蒸汽擴散腔向外釋放蒸汽壓力，以保證提供持續(xù)均勻的大面積的蒸汽以及順暢持續(xù)供給蒸汽，并保證較長時間與被熨燙織物接觸，使被熨燙織物充分接觸蒸汽，最大的保護織物的綿柔特性，使熨燙織物能快捷的被熨燙平整滑順。