本發(fā)明涉及面料處理裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于滌綸面料生產(chǎn)的等離子處理裝置。

背景技術(shù)：

滌綸是合成纖維中的一個(gè)重要品種，是我國聚酯纖維的商品名稱。它是以精對(duì)苯二甲酸（pta）或?qū)Ρ蕉姿岫柞ィ╠mt）和乙二醇（eg）為原料經(jīng)酯化或酯交換和縮聚反應(yīng)而制得的成纖高聚物——聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯（pet），經(jīng)紡絲和后處理制成的纖維。由滌綸組成的滌綸面料是日常生活中用的非常多的一種化纖服裝面料。其最大的優(yōu)點(diǎn)是抗皺性和保形性很好，因此，適合做外套服裝、各類箱包和帳篷等戶外用品?，F(xiàn)有的滌綸面料在生產(chǎn)時(shí)需要對(duì)面料進(jìn)行表面清潔處理。

授權(quán)公告號(hào)：cn201538919u，授權(quán)公告日：2010.08.01，名為“各種紡織面料及無紡布后整理等離子處理技術(shù)設(shè)備”，公開了一種紡織面料的等離子處理設(shè)備，雖然解決的紡織面料的通過等離子處理后印花牢固、涂層時(shí)無污無塵、不易脫膠和不易氣泡等優(yōu)點(diǎn)，但是裝置的進(jìn)料口和出料口分別位于裝置的兩側(cè)，需要額外的裝置改變加工后原料的運(yùn)輸方向，不利于處理后原料的收集，適用范圍窄，不能滿足人們的使用需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)，而提出的一種用于滌綸面料生產(chǎn)的等離子處理裝置。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：

一種用于滌綸面料生產(chǎn)的等離子處理裝置，包括裝置殼體，所述裝置殼體的內(nèi)部設(shè)有儲(chǔ)物腔，所述裝置殼體的頂部設(shè)有與儲(chǔ)物腔連通的第一連接通道，所述第一連接通道的兩側(cè)均設(shè)有固定接于裝置殼體頂部的第一限位輥組，所述第一連接通道的下方設(shè)有兩個(gè)固定連接于儲(chǔ)物腔內(nèi)壁上的第二限位輥組，所述第二限位輥組的一側(cè)設(shè)有豎直設(shè)置的第三限位輥組，所述第三限位輥組位于儲(chǔ)物腔內(nèi)壁中部，所述第三限位輥組的下方兩側(cè)設(shè)有結(jié)構(gòu)相同且平行設(shè)置的第一處理輥組和第二處理輥組，所述第一處理輥組包括等離子放點(diǎn)通道和轉(zhuǎn)動(dòng)電極，所述第一處理輥組和第二處理輥組的兩側(cè)均設(shè)有位于儲(chǔ)物腔內(nèi)壁上的傳送輥組，兩個(gè)傳送輥組的兩側(cè)均設(shè)有位于裝置殼體外壁上的第二連接通道，所述第二連接通道的一側(cè)設(shè)有滑動(dòng)連接于裝置殼體外壁上的導(dǎo)向輥組。

優(yōu)選的，所述第一限位輥組之間設(shè)有原料，所述原料穿過第一限位輥組的一端依次穿過第二限位輥組、離子放點(diǎn)通道和轉(zhuǎn)動(dòng)電極之間、第三限位輥組之間、傳送輥組之間以及第二連接通道并由導(dǎo)向輥組穿出。

優(yōu)選的，所述裝置殼體的頂部設(shè)有抽風(fēng)管道，所述抽風(fēng)管道的頂部所處水平面位于第一限位輥組頂部所處水平面的下方。

優(yōu)選的，所述裝置殼體的外壁上設(shè)有兩個(gè)豎直設(shè)置的滑槽，所述導(dǎo)向輥組包括水平設(shè)置的滑桿和位于滑桿上的導(dǎo)向輥，所述滑桿遠(yuǎn)離導(dǎo)向輥的一端滑動(dòng)連接于滑槽內(nèi)，兩個(gè)導(dǎo)向輥分別位于第二連接通道的兩側(cè)。

優(yōu)選的，所述第二連接通道遠(yuǎn)離儲(chǔ)物腔的內(nèi)壁上卡接有堵帽。

優(yōu)選的，所述裝置殼體的底部設(shè)有萬向輪，所述萬向輪上設(shè)有剎車片。

優(yōu)選的，靠近第二限位輥組的第一處理輥組上等離子放點(diǎn)通道的數(shù)量和轉(zhuǎn)動(dòng)電極的數(shù)量比遠(yuǎn)離第二限位輥組的第一處理輥組上等離子放點(diǎn)通道的數(shù)量和轉(zhuǎn)動(dòng)電極的數(shù)量少一個(gè)。

本發(fā)明中，通過第一限位輥組、第二限位輥組、第三限位輥組、離子放點(diǎn)通道、轉(zhuǎn)動(dòng)電極、傳送輥組、第二連接通道和導(dǎo)向輥組的設(shè)計(jì)使的原料在裝置殼體上進(jìn)料端口和裝置殼體上出料端口的位置可以調(diào)節(jié)，便于加工后原料的收集處理，節(jié)約成本，裝置占地面積小，便于移動(dòng)，適用范圍廣，滿足了人們的使用需求。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提出的一種用于滌綸面料生產(chǎn)的等離子處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明提出的一種用于滌綸面料生產(chǎn)的等離子處理裝置的側(cè)視圖。

圖中：1裝置殼體、2儲(chǔ)物腔、3第一連接通道、4第一限位輥組、5第二限位輥組、6第三限位輥組、7離子放點(diǎn)通道、8轉(zhuǎn)動(dòng)電極、9傳送輥組、10第二連接通道、11導(dǎo)向輥組、12抽風(fēng)管道、13堵帽、14萬向輪、15原料。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。

參照?qǐng)D1-2，一種用于滌綸面料生產(chǎn)的等離子處理裝置，包括裝置殼體1，裝置殼體1的內(nèi)部設(shè)有儲(chǔ)物腔2，裝置殼體1的頂部設(shè)有與儲(chǔ)物腔2連通的第一連接通道3，第一連接通道3的兩側(cè)均設(shè)有固定接于裝置殼體1頂部的第一限位輥組4，第一連接通道3的下方設(shè)有兩個(gè)固定連接于儲(chǔ)物腔2內(nèi)壁上的第二限位輥組5，第二限位輥組5的一側(cè)設(shè)有豎直設(shè)置的第三限位輥組6，第三限位輥組6位于儲(chǔ)物腔2內(nèi)壁中部，第三限位輥組6的下方兩側(cè)設(shè)有結(jié)構(gòu)相同且平行設(shè)置的第一處理輥組和第二處理輥組，第一處理輥組包括等離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8，第一處理輥組和第二處理輥組的兩側(cè)均設(shè)有位于儲(chǔ)物腔2內(nèi)壁上的傳送輥組9，兩個(gè)傳送輥組9的兩側(cè)均設(shè)有位于裝置殼體1外壁上的第二連接通道10，第二連接通道10的一側(cè)設(shè)有滑動(dòng)連接于裝置殼體1外壁上的導(dǎo)向輥組11，第一限位輥組4之間設(shè)有原料15，原料15穿過第一限位輥組4的一端依次穿過第二限位輥組5、離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8之間、第三限位輥組6之間、傳送輥組9之間以及第二連接通道10并由導(dǎo)向輥組11穿出，裝置殼體1的頂部設(shè)有抽風(fēng)管道12，抽風(fēng)管道12的頂部所處水平面位于第一限位輥組4頂部所處水平面的下方，裝置殼體1的外壁上設(shè)有兩個(gè)豎直設(shè)置的滑槽，導(dǎo)向輥組11包括水平設(shè)置的滑桿和位于滑桿上的導(dǎo)向輥，滑桿遠(yuǎn)離導(dǎo)向輥的一端滑動(dòng)連接于滑槽內(nèi)，兩個(gè)導(dǎo)向輥分別位于第二連接通道10的兩側(cè)，第二連接通道10遠(yuǎn)離儲(chǔ)物腔2的內(nèi)壁上卡接有堵帽13，裝置殼體1的底部設(shè)有萬向輪14，萬向輪14上設(shè)有剎車片，靠近第二限位輥組5的第一處理輥組上等離子放點(diǎn)通道7的數(shù)量和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8的數(shù)量比遠(yuǎn)離第二限位輥組5的第一處理輥組上等離子放點(diǎn)通道7的數(shù)量和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8的數(shù)量少一個(gè)。

實(shí)施例一：使用時(shí)，將原料15穿過第一限位輥組4的一端依次穿過第二限位輥組5、離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8之間、第三限位輥組6和傳送輥組9，并由位于靠近第二限位輥組5的第二連接通道10和導(dǎo)向輥組11穿出，或者與上述步驟相反的原料走料順序，隨后，離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8工作對(duì)原料15進(jìn)行等離子處理。

實(shí)施例二：使用時(shí)，將原料15穿過第一限位輥組4的一端依次穿過第二限位輥組5、離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8之間、第三限位輥組6和傳送輥組9，并由位于遠(yuǎn)離第二限位輥組5的第二連接通道10和導(dǎo)向輥組11穿出，或者與上述步驟相反的原料走料順序，隨后，離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8工作對(duì)原料15進(jìn)行等離子處理。

實(shí)施例三：使用時(shí)，將原料的一端依次穿過導(dǎo)向輥組11、第二連接通道10、傳送輥組9、離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8之間，并由與導(dǎo)向輥組11位于裝置殼體1同一側(cè)的另一個(gè)第二連接通道10和另一個(gè)導(dǎo)向輥組11穿出，隨后，離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8工作對(duì)原料15進(jìn)行等離子處理。

實(shí)施例4：使用時(shí)，將原料的一端依次穿過導(dǎo)向輥組11、第二連接通道10、傳送輥組9、離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8之間，并由與導(dǎo)向輥組11位于裝置殼體1另一側(cè)的另一個(gè)第二連接通道10和另一個(gè)導(dǎo)向輥組11穿出，隨后，離子放點(diǎn)通道7和轉(zhuǎn)動(dòng)電極8工作對(duì)原料15進(jìn)行等離子處理。

以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。