本發(fā)明涉及儲緯器技術領域，特別是涉及一種儲緯裝置及織布系統(tǒng)。

背景技術：

現(xiàn)有的儲緯器，在紡織供緯上，對超細旦緯線或人造棉紗(短纖)，很難實現(xiàn)供緯、儲緯、定長放緯，如20d/24f、20d/48f纖維。供緯時，緯紗繞在固定式的紗架上，紗架對緯紗的摩擦大，緯紗的張力大，破壞了纖維的組織原狀，織出來的布不平整、染色出來的布著色不均勻。

對人造棉或純棉緯紗，在供緯、儲緯時同樣產(chǎn)生過大的摩擦，張力過大，對緯紗破壞程度大、緯紗容易拉斷。所以，現(xiàn)有的儲緯器還不能實現(xiàn)30支以上的棉紗供緯、儲緯、定長放緯的實際應用。

現(xiàn)有的儲緯器，由于繞紗張力不可調(diào)，所以，繞紗速度越快，張力也就隨之越大，對緯紗的破壞程度越大。

目前，亟需一種對緯紗破壞程度小的儲緯裝置。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種儲緯裝置及織布系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有技術中存在的儲緯器對緯紗破壞程度大的技術問題。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術方案：

本發(fā)明提供的一種儲緯裝置，包括殼體、驅(qū)動裝置、繞紗盤、繞紗導輥及電磁控制裝置；

所述繞紗盤定軸轉(zhuǎn)動設置在所述殼體上；

所述繞紗導輥的第一端設置在所述繞紗盤上，所述繞紗導輥的第二端自由，所述繞紗導輥能夠繞其第一端定點轉(zhuǎn)動；

所述驅(qū)動裝置設置在所述殼體內(nèi)，用于帶動所述繞紗盤轉(zhuǎn)動；

所述電磁控制裝置設置在所述殼體上，且位于所述繞紗盤的徑向方向上，用于控制是否放緯。

進一步地，所述繞紗盤上設置有調(diào)節(jié)部；

所述調(diào)節(jié)部用于調(diào)節(jié)所述繞紗導輥在所述繞紗盤上的位置。

進一步地，所述調(diào)節(jié)部為條狀通孔；

所述調(diào)節(jié)部的長度方向與所述繞紗盤的徑向方向平行。

進一步地，所述繞紗盤上設置有固定部；

所述固定部用于連接所述繞紗導輥與所述繞紗盤。

進一步地，所述繞紗導輥包括導輥基座、導輥軸及導輥套；

所述導輥基座與所述導輥軸的底端連接；

所述導輥套活動套設在所述導輥軸上，能夠相對于所述導輥軸轉(zhuǎn)動；

所述導輥基座活動設置在所述繞紗盤上。

進一步地，所述導輥套與所述導輥軸之間設置有導輥軸承。

進一步地，所述導輥軸與所述導輥基座通過螺紋結構連接。

進一步地，所述電磁控制裝置包括外殼、電磁線圈組及電磁針；

所述外殼的底部設置有針孔；

所述電磁線圈組設置在所述外殼內(nèi)部；

所述電磁針設置在所述電磁線圈組中部；

所述電磁線圈組用于控制所述電磁針伸出或縮回所述針孔。

進一步地，所述電磁線圈組包括第一電磁線圈及第二電磁線圈；

所述第一電磁線圈與所述第二電磁線圈同軸設置。

本發(fā)明還提供一種織布系統(tǒng)，包括如前述的儲緯裝置。

本發(fā)明提供的儲緯裝置及織布系統(tǒng)，繞紗導輥設置在繞紗盤上，驅(qū)動裝置帶動繞紗盤定軸轉(zhuǎn)動，繞紗導輥隨繞紗盤一并轉(zhuǎn)動，繞紗導輥一端設置在繞紗盤上、另一端自由，繞紗導輥與繞紗盤的夾角可調(diào)，使得繞紗張力可調(diào)，對緯紗的破壞程度小，解決了現(xiàn)有的儲緯器對緯紗破壞程度大的問題，適于進行推廣應用。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明具體實施方式或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對具體實施方式或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例一提供的一種儲緯裝置的整體結構示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例一提供的一種儲緯裝置的整體結構示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例一提供的一種儲緯裝置的整體結構示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例一提供的一種儲緯裝置的整體結構示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例一提供的一種儲緯裝置中繞紗導輥的部分結構示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例一提供的一種儲緯裝置中繞紗導輥的部分結構示意圖；

圖7為本發(fā)明實施例一提供的一種儲緯裝置中電磁控制裝置的結構示意圖；

圖8為本發(fā)明實施例一提供的一種儲緯裝置中電磁控制裝置的部分結構示意圖。

附圖標記：

1-殼體；2-繞紗盤；3-繞紗導輥；

4-電磁控制裝置；21-調(diào)節(jié)部；31-導輥軸；

32-導輥套；33-導輥軸承；41-外殼；

42-電磁線圈組；43-電磁針；421-第一電磁線圈；

422-第二電磁線圈。

具體實施方式

下面將結合附圖對本發(fā)明的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，術語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，術語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發(fā)明中的具體含義。

實施例一：

在本實施例的可選方案中，如圖1至圖4所示，本實施例提供的一種儲緯裝置，包括殼體1、驅(qū)動裝置、繞紗盤2、繞紗導輥3及電磁控制裝置4；繞紗盤2定軸轉(zhuǎn)動設置在殼體1上；繞紗導輥3的第一端設置在繞紗盤2上，繞紗導輥3的第二端自由，繞紗導輥3能夠繞其第一端定點轉(zhuǎn)動；驅(qū)動裝置設置在殼體1內(nèi)，用于帶動繞紗盤2轉(zhuǎn)動；電磁控制裝置4設置在殼體1上，且位于繞紗盤2的徑向方向上，用于控制是否放緯。

在本實施例中，繞紗盤2定軸轉(zhuǎn)動設置在殼體1上，可在殼體1上轉(zhuǎn)動；繞紗導輥3的一端設置在繞紗盤2上，另一端自由，可定點轉(zhuǎn)動，與繞紗盤2成任意傾斜角度；工作時，驅(qū)動裝置帶動繞紗盤2轉(zhuǎn)動，繞紗導輥3隨之轉(zhuǎn)動，進行繞紗儲緯或放紗供緯。

由于繞紗導輥3與繞紗盤2之間的夾角大小可調(diào)，在繞紗時，繞紗張力可調(diào)，對緯紗的破壞程度小，所以，有利于提高繞紗速度，也就能夠提高儲緯的工作效率。

在本實施例的可選方案中，繞紗盤2上設置有調(diào)節(jié)部21；調(diào)節(jié)部21用于調(diào)節(jié)繞紗導輥3在繞紗盤2上的位置。

在本實施例中，通過調(diào)節(jié)部21，實現(xiàn)繞紗導輥3在繞紗盤2上的位置可調(diào)，從而實現(xiàn)繞紗半徑可調(diào)，在驅(qū)動裝置輸出功率不變的情況下，也能夠調(diào)節(jié)繞紗速度。

在本實施例的可選方案中，調(diào)節(jié)部21為條狀通孔；調(diào)節(jié)部21的長度方向與繞紗盤2的徑向方向平行。

在本實施例中，條狀的調(diào)節(jié)部21位于繞紗盤2的徑向方向上，繞紗導輥3可通過調(diào)節(jié)部21在繞紗盤2上沿繞紗盤2的徑向方向移動，由此，可調(diào)節(jié)繞紗半徑。

在本實施例的可選方案中，繞紗盤2上設置有固定部；固定部用于連接繞紗導輥3與繞紗盤2。

在本實施例中，繞紗導輥3與繞紗盤2之間通過固定部連接，固定部可通過調(diào)節(jié)部21在繞紗盤2上沿繞紗盤2的徑向方向移動。

在本實施例的可選方案中，如圖5和圖6所示，繞紗導輥3包括導輥基座、導輥軸31及導輥套32；導輥基座與導輥軸31的底端連接；導輥套32活動套設在導輥軸31上，能夠相對于導輥軸31轉(zhuǎn)動；導輥基座活動設置在繞紗盤2上。

在本實施例中，導輥軸31與導輥套32內(nèi)外套接，導輥套32能夠在導輥軸31上轉(zhuǎn)動，導輥軸31通過導輥基座活動設置在繞紗盤2上；導輥基座與固定部構成萬向節(jié)結構，實現(xiàn)繞紗導輥3與繞紗盤2之間的夾角可調(diào)。

在本實施例的可選方案中，導輥套32與導輥軸31之間設置有導輥軸承33。

在本實施例中，導輥軸31與導輥套32之間通過導輥軸承33實現(xiàn)二者的相對轉(zhuǎn)動。

在本實施例的可選方案中，導輥軸31與導輥基座通過螺紋結構連接。

在本實施例中，螺紋結構使得導輥軸31與導輥基座之間的連接可靠，便于組裝和拆卸。

在本實施例的可選方案中，如圖7和圖8所示，電磁控制裝置4包括外殼41、電磁線圈組42及電磁針43；外殼41的底部設置有針孔；電磁線圈組42設置在外殼41內(nèi)部；電磁針43設置在電磁線圈組42中部；電磁線圈組42用于控制電磁針43伸出或縮回針孔。

在本實施例中，電磁線圈組42通電，利用電磁力控制電磁針43動作，由針孔伸出或縮回外殼41，由此來控制停止放緯；并且，針孔的延伸方向與繞紗盤2的徑向方向平行，即電磁針43的軸向與繞紗盤2的徑向方向平行。

需要說明的是，電磁針43的材質(zhì)采用硅鋼，導磁率高，易于控制。

在本實施例的可選方案中，電磁線圈組42包括第一電磁線圈421及第二電磁線圈422；第一電磁線圈421與第二電磁線圈422同軸設置。

在本實施例中，第一電磁線圈421和第二電磁線圈422上下對應設置，第一電磁線圈421位于第二電磁線圈422上方；使用時，第一電磁線圈421正向脈沖接通，電磁針43往上吸，放緯；第二電磁線圈422正向脈沖接通，電磁針43往下吸，停止放緯。

實施例二：

在本實施例的可選方案中，本實施例提供的一種儲緯裝置，包括殼體1、驅(qū)動裝置、繞紗盤2、繞紗導輥3及電磁控制裝置4；繞紗盤2定軸轉(zhuǎn)動設置在殼體1上；繞紗導輥3的第一端設置在繞紗盤2上，繞紗導輥3的第二端自由，繞紗導輥3能夠繞其第一端定點轉(zhuǎn)動；驅(qū)動裝置設置在殼體1內(nèi)，用于帶動繞紗盤2轉(zhuǎn)動；電磁控制裝置4設置在殼體1上，且位于繞紗盤2的徑向方向上，用于控制是否放緯。

在本實施例中，由于繞紗導輥3與繞紗盤2之間的夾角大小可調(diào)，在繞紗時，繞紗張力可調(diào)，對緯紗的破壞程度小，所以，有利于提高繞紗速度，也就能夠提高儲緯的工作效率。

在本實施例的可選方案中，繞紗盤2上設置有固定部；固定部用于連接繞紗導輥3與繞紗盤2。

在本實施例的可選方案中，繞紗導輥3包括導輥基座、導輥軸31及導輥套32；導輥基座與導輥軸31的底端連接；導輥套32活動套設在導輥軸31上，能夠相對于導輥軸31轉(zhuǎn)動；導輥基座活動設置在繞紗盤2上。

在本實施例中，導輥軸31與導輥套32內(nèi)外套接，導輥套32能夠在導輥軸31上轉(zhuǎn)動，導輥軸31通過導輥基座活動設置在繞紗盤2上；導輥基座與固定部構成萬向節(jié)結構，實現(xiàn)繞紗導輥3與繞紗盤2之間的夾角可調(diào)。

在本實施例的可選方案中，導輥套32與導輥軸31之間設置有導輥軸承33。

在本實施例的可選方案中，導輥軸31與導輥基座通過螺紋結構連接。

在本實施例的可選方案中，電磁控制裝置4包括外殼41、電磁線圈組42及電磁針43；外殼41的底部設置有針孔；電磁線圈組42設置在外殼41內(nèi)部；電磁針43設置在電磁線圈組42中部；電磁線圈組42用于控制電磁針43伸出或縮回針孔。

在本實施例中，電磁線圈組42通電，利用電磁力控制電磁針43動作，由針孔伸出或縮回外殼41，由此來控制停止放緯。

在本實施例的可選方案中，電磁線圈組42包括第一電磁線圈421及第二電磁線圈422；第一電磁線圈421與第二電磁線圈422同軸設置。

在本實施例中，第一電磁線圈421和第二電磁線圈422上下對應設置，第一電磁線圈421位于第二電磁線圈422上方；使用時，第一電磁線圈421正向脈沖接通，電磁針43往上吸，放緯；第二電磁線圈422正向脈沖接通，電磁針43往下吸，停止放緯。

實施例三：

在本實施例的可選方案中，本實施例提供的一種織布系統(tǒng)，包括如實施例一或?qū)嵤├龅膬曆b置。

在本實施例中，本儲緯裝置能夠高效地進行供緯、儲緯、定長放緯，且繞紗張力可調(diào)，對緯紗的破壞程度越大，配合織布裝置使用，織出來的布平整，染色出來的布著色均勻。

最后應說明的是：以上各實施例僅用以說明本發(fā)明的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術方案的范圍。