一種耐磨人造革的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及皮革的技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，它涉及一種耐磨人造革。
【背景技術(shù)】
[0002]人造革是一種仿造天然皮革的塑料制品。通常以織布為基材，將聚氨酯或聚氯乙烯發(fā)泡層設(shè)于基材上，在發(fā)泡層上設(shè)有聚氨酯或聚氯乙烯表層，經(jīng)壓輪壓平或壓花，即得產(chǎn)品。隨著人造革技術(shù)的發(fā)展，憑借其具有接近天然皮革的各種性能材質(zhì)等特點，已經(jīng)在生活中的大部分領(lǐng)域用于取代天然皮革。
[0003]目前的人造革在使用過程中，其的上表面及下表面經(jīng)常跟外力接觸，容易磨損，大大降低了人造革的使用壽命。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)合理簡單、實用性強(qiáng)、耐磨耐壓的耐磨人造革。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了如下技術(shù)方案:
[0006]—種耐磨人造革，其特征是:包括依次疊合的第一層、第一基布層、第二 PU層及第二基布層，第二基布層由若干根經(jīng)線及若干根瑋線交織構(gòu)成，經(jīng)線的直徑大于瑋線的直徑，經(jīng)線包括細(xì)絲線及螺旋纏繞包裹細(xì)絲線外的棉線，瑋線通過滌綸線制成，第二基布層的經(jīng)瑋密度為156乂80，第一卩1]層表面上設(shè)有若干紋路組，且第一層開設(shè)有若干納米孔。
[0007]通過采用上述技術(shù)方案，第二基布層通過機(jī)織的方式將棉線跟滌綸線交織，大大提高了第二基布層的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，其中，為了提高第二基布層的耐磨性能，故將第二基布層的經(jīng)瑋密度設(shè)置為156X80。經(jīng)瑋密度為:1平方英寸的一塊布里面的的經(jīng)紗總根數(shù)叫經(jīng)密，瑋紗總根數(shù)叫瑋密，即1平方英寸的一塊布里面的經(jīng)線總根數(shù)為156根及瑋線總根數(shù)為80根，大大提高了第二基布層的緊湊性及結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，進(jìn)而提高了第二基布層的耐磨性能，進(jìn)而提高了本產(chǎn)品的使用壽命。
[0008]經(jīng)線通過兩種不同材料的線構(gòu)成，使得經(jīng)線變粗，提高了經(jīng)線自身的抗壓及抗拉的能力，棉線又是通過螺旋纏繞包裹在細(xì)絲線外，在經(jīng)線受力摩擦?xí)r，細(xì)絲線起到了第二次耐磨的效果，大大提高了第二基布層的耐磨能力。
[0009]通過在第一 PU層上設(shè)置紋路組大大提高了第一層的耐磨能力，進(jìn)而提高了本產(chǎn)品的使用壽命。
[0010]本實用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述紋路組包括波浪紋路及折疊紋路，折疊紋路位于兩個相鄰波浪紋路之間，且分別與兩側(cè)的波浪紋路抵觸，折疊紋路與兩側(cè)波浪紋路之間構(gòu)成有若干耐磨塊。
[0011]通過采用上述技術(shù)方案，波浪紋路及折疊紋路的設(shè)置提高了第一層表面的皺褶度，在第一 PU層受到摩擦?xí)r，耐磨塊會產(chǎn)生抵消摩擦的內(nèi)力，進(jìn)而提高了第一 PU層的耐磨能力。
[0012]本實用新型進(jìn)一步設(shè)置為:所述第二 HJ層上開設(shè)有若干納米孔，第一基布層通過棉線及滌綸線機(jī)織而成。
[0013]通過采用上述技術(shù)方案，納米孔的設(shè)置大大提高本產(chǎn)品的透氣性，通過機(jī)織的方式將棉線跟滌綸線交織，大大提高了第一基布層的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度及結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖2為為實用新型第二基布層的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖3為本實用新型經(jīng)線的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖4為本實用新型第一 PU層表面的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0018]參照圖1至圖4對本實用新型的實施例做進(jìn)一步說明。
[0019]一種耐磨人造革，包括依次疊合的第一 PU層1、第一基布層2、第二 PU層3及第二基布層4，第二基布層4由若干根經(jīng)線41及若干根瑋線42交織構(gòu)成，經(jīng)線41的直徑大于瑋線42的直徑，經(jīng)線41包括細(xì)絲線411及螺旋纏繞包裹細(xì)絲線411外的棉線412，瑋線42通過滌綸線制成，第二基布層4的經(jīng)瑋密度為156 X 80，第一 PU層1表面上設(shè)有若干紋路組，且第一 PU層1開設(shè)有若干納米孔。
[0020]第二基布層4通過機(jī)織的方式將棉線412跟滌綸線交織，大大提高了第二基布層4的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，其中，為了提高第二基布層4的耐磨性能，故將第二基布層4的經(jīng)瑋密度設(shè)置為156X80。經(jīng)瑋密度為:1平方英寸的一塊布里面的的經(jīng)紗總根數(shù)叫經(jīng)密，瑋紗總根數(shù)叫瑋密，即1平方英寸的一塊布里面的經(jīng)線41總根數(shù)為156根及瑋線42總根數(shù)為80根，大大提高了第二基布層4的緊湊性及結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，進(jìn)而提高了第二基布層4的耐磨性能，進(jìn)而提高了本產(chǎn)品的使用壽命。
[0021]經(jīng)線41通過兩種不同材料的線構(gòu)成，使得經(jīng)線41變粗，提高了經(jīng)線41自身的抗壓及抗拉的能力，棉線412又是通過螺旋纏繞包裹在細(xì)絲線411外，在經(jīng)線41受力摩擦?xí)r，細(xì)絲線411起到了第二次耐磨的效果，大大提高了第二基布層4的耐磨能力。
[0022]通過在第一 PU層1上設(shè)置紋路組大大提高了第一層1的耐磨能力，進(jìn)而提高了本產(chǎn)品的使用壽命。
[0023]紋路組包括波浪紋路11及折疊紋路12，折疊紋路12位于兩個相鄰波浪紋路11之間，且分別與兩側(cè)的波浪紋路11抵觸，折疊紋路12與兩側(cè)波浪紋路11之間構(gòu)成有若干耐磨塊10。
[0024]通過采用上述技術(shù)方案，波浪紋路11及折疊紋路12的設(shè)置提高了第一層1表面的皺褶度，在第一 PU層1受到摩擦?xí)r，耐磨塊10會產(chǎn)生抵消摩擦的內(nèi)力，進(jìn)而提高了第一 PU層1的耐磨能力。
[0025]第二層3上開設(shè)有若干納米孔，第一基布層2通過棉線412及滌綸線機(jī)織而成。
[0026]納米孔的設(shè)置大大提高本產(chǎn)品的透氣性，通過機(jī)織的方式將棉線412跟滌綸線交織，大大提高了第一基布層2的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度及結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。
[0027]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)進(jìn)行通常的變化和替換都應(yīng)包含在本實用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種耐磨人造革，其特征是:包括依次疊合的第一 PU層、第一基布層、第二 層及第二基布層，第二基布層由若干根經(jīng)線及若干根瑋線交織構(gòu)成，經(jīng)線的直徑大于瑋線的直徑，經(jīng)線包括細(xì)絲線及螺旋纏繞包裹細(xì)絲線外的棉線，瑋線通過滌綸線制成，第二基布層的經(jīng)瑋密度為156X80，即1平方英寸的一塊布里面的經(jīng)線總根數(shù)為156根及瑋線總根數(shù)為80根，第一 PU層表面上設(shè)有若干紋路組，且第一 層開設(shè)有若干納米孔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐磨人造革，其特征是:所述紋路組包括波浪紋路及折疊紋路，折疊紋路位于兩個相鄰波浪紋路之間，且分別與兩側(cè)的波浪紋路抵觸，折疊紋路與兩側(cè)波浪紋路之間構(gòu)成有若干耐磨塊。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐磨人造革，其特征是:所述第二PU層上開設(shè)有若干納米孔，第一基布層通過棉線及滌綸線機(jī)織而成。
【專利摘要】本實用新型涉及皮革的技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說，它涉及一種耐磨人造革，包括依次疊合的第一PU層、第一基布層、第二PU層及第二基布層，第二基布層由若干根經(jīng)線及若干根緯線交織構(gòu)成，經(jīng)線的直徑大于緯線的直徑，經(jīng)線包括細(xì)絲線及螺旋纏繞包裹細(xì)絲線外的棉線，緯線通過滌綸線制成，第二基布層的經(jīng)緯密度為156×80，第一PU層表面上設(shè)有若干紋路組，且第一PU層開設(shè)有若干納米孔，本實用新型結(jié)構(gòu)合理簡單、實用性強(qiáng)、耐磨耐壓。
【IPC分類】D06N3/00, D03D13/00, D06N3/14, D03D15/00
【公開號】CN205077306
【申請?zhí)枴緾N201520751664
【發(fā)明人】劉璐, 冷雪峰, 董盼盼
【申請人】浙江中革實業(yè)有限公司
【公開日】2016年3月9日
【申請日】2015年9月25日