專利名稱：一種青釉墨彩瓷的生產(chǎn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種青釉墨彩瓷(又名朦朧瓷)的生產(chǎn)方法，屬耀州青瓷的一種。
目前，市場(chǎng)上還未發(fā)現(xiàn)有同類產(chǎn)品。青釉墨彩瓷如同青花瓷或釉里紅，它們同屬高溫釉下彩，而青釉墨彩瓷是先將坯品設(shè)計(jì)剔花再用雙層釉面在高溫下燒制而成。
本發(fā)明目的是提供一種使用設(shè)計(jì)剔花技術(shù)，在坯品上施多彩底釉、面釉耀州青瓷的制做方法。
本發(fā)明是通過如下方法完成的首先是制坯品，等坯品干后施底釉，底釉的重量配方比是天然黃土80-82之間、基礎(chǔ)白釉8-10之間、化學(xué)混合材料7-9，這些材料經(jīng)分別制漿同比重混合拌制成底釉，施底釉厚度為0.3-1m/m，化學(xué)混合材料為MNO、Fe2O3、ZHO其重量比為6∶3∶0.5，化學(xué)混合材料與高塑粘土兩者之重量比為1∶1。在施過底釉的坯品上設(shè)計(jì)剔花，然后入窯素?zé)?、素?zé)臏囟葹?50-950度。素?zé)^的坯品再施面釉，面釉的配方是天然黃土泥漿與基礎(chǔ)白釉釉漿配合為6-5.5∶4-4.5，最后將施過面釉坯品入窯在1310-1320度溫度下燒成，經(jīng)施過底面釉的坯品入窯燒成窯內(nèi)氣氛常溫為1040度，氧化氣氛燒成游離氧含量為2-8％，1040-1320度為還原燒成氣氛，燒成一氧化碳含量為2-4％之間。本發(fā)明的工藝流程圖如下坯品-施底釉-設(shè)施剔花-素?zé)?施面釉-裝窯燒成。
本發(fā)明生產(chǎn)出的產(chǎn)品具有紋式清楚、面釉光亮、色彩豐富、畫面懸浮在胎釉之間，觀賞性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。
實(shí)施例1、線條紋式畫面(圖一)，選質(zhì)地較白的胎胚、施底釉厚為0.5m/m-7m/m剔出線條清晰之畫面，在900度下素?zé)┟嬗院穸葹?.3-0.5m/m之面釉在1310溫度下裝窯燒成，就制成了面釉光亮透底、白胎線條懸浮之畫面。
2、國(guó)畫寫意型(圖二)設(shè)計(jì)夸張之畫面，如牧牛圖施0.5m/m-1.2m/m之底釉，素?zé)蠹邮?.7m/m左右之面釉。燒成的瓷器產(chǎn)生底釉流動(dòng)拉動(dòng)面釉，產(chǎn)生象宣紙圖畫之效果，畫面豐富多彩。
3、窯變型(圖三)，選白刻黑底畫面，根據(jù)畫面改變施釉厚度會(huì)產(chǎn)生面釉出現(xiàn)的不同花紋，以飛雪迎春圖為例，繪圖-施底釉黑色度強(qiáng)烈厚度1.2m繪畫-素?zé)?施面釉厚度為1.5毫米，然后入窯燒成。
要產(chǎn)生不同的窯變和畫面的結(jié)合，必須掌握底釉面釉的高溫性，爭(zhēng)取多種手法取得多種效果。
權(quán)利要求
1.一種青釉墨彩瓷的生產(chǎn)方法，它通過制坯-施底釉-設(shè)計(jì)剔花-素?zé)?施面釉-裝窯燒成等工藝而完成，其特征在于底釉的重量配方比是天然黃土80-82，基礎(chǔ)白釉8-10、化學(xué)混和材料7-9，面釉的重量配方比是天然黃土∶基礎(chǔ)白釉6-5.5∶4-4.5，施過底釉的坯品素?zé)郎囟葹?50-950度，施過底、面釉燒溫度在1310-1320℃的溫度下燒成，經(jīng)施過底面釉的坯品入窯燒成窯內(nèi)氣氛常溫為1040度，氧化氣氛燒成游離氧含量2-8％，1040度-1320度為還原氣氛，燒成一氧化碳含量為2-4％之間。
2.如權(quán)利要求出1所述的一種青釉墨彩瓷的生產(chǎn)方法，其特征在于化學(xué)混合材料為MNO、Fe2O3、ZHO。
3.如權(quán)利要求書1、2所述的一種青釉彩瓷的生產(chǎn)方法，其特征在于坯品經(jīng)施底釉后要進(jìn)行設(shè)計(jì)剔花。
4.如權(quán)利要求書1、2所述的一種青釉墨彩瓷的生產(chǎn)方法，其特征在于底釉厚度為0.3-1m/m，面釉施釉厚度為0.3-1m/m。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種青釉墨彩瓷的生產(chǎn)方法,它是通過制坯、施底釉、設(shè)計(jì)剔花、素?zé)?、施面釉入窯而燒成。其產(chǎn)品具有紋式清楚,面釉光亮,色彩豐富,觀賞性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C04B33/34GK1350995SQ00113960
公開日2002年5月29日 申請(qǐng)日期2000年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2000年10月31日
發(fā)明者王曉朝 申請(qǐng)人:王曉朝