專利名稱：釉料組合物和防污陶瓷制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種優(yōu)選用于形成具有極好防污性能和良好外觀的釉料層的釉料組合物和具有該釉料層的防污瓷器。
然而，當(dāng)使用傳統(tǒng)的釉料時(shí)，尚待溶解的物質(zhì)容易殘留在釉料層中，或硅酸鋯乳化劑結(jié)晶而出現(xiàn)在釉料層的最外層表面上。因此，不能得到帶光澤的表面美觀光滑的釉料層。
此外，尚有進(jìn)一步改進(jìn)釉料層防污性能的余地。例如，為了改進(jìn)防污性能，有人建議形成由非晶質(zhì)材料組成的透明釉料層。在這種情況下，在一定程度上可以改進(jìn)防污性能。然而，因?yàn)橛粤蠈拥耐该餍裕噪y以給制品提供釉料層的美麗外觀。由于這些原因，在透明釉料層和瓷器之間必需形成具有要求顏色的另一層釉料層。此雙層結(jié)構(gòu)導(dǎo)致生產(chǎn)時(shí)間延長(zhǎng)和成本增加。
此外，在傳統(tǒng)的瓷器釉料中使用氧化錫或骨灰作為乳化劑的情況下，焙燒之后在釉料層中產(chǎn)生的氣孔數(shù)量增加，而且通過(guò)焙燒也不能得到美麗的半透明釉料層。例如，有人建議使用具有下列組成的釉料80重量％的SiO2；6.5重量％的Al2O3；0.2重量％的Fe2O3；0.8重量％的MgO；8重量％的CaO；3重量％的ZnO；1重量％的K2O；0.5重量％的Na2O；5重量％的SnO2(中值粒徑5微米)。然而，即使當(dāng)在1200℃的溫度下焙燒時(shí)，此釉料也不會(huì)熔融。此外，還有改進(jìn)釉料層防污性能和光澤度的余地。
考慮到上述事實(shí)，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種能形成耐污染性好、容易除去污垢且具有美麗外觀的釉料層的釉料組合物，并提供具有該釉料層的防污瓷器。
即，本發(fā)明的釉料組合物的特征在于含有釉料成形材料，具有確定的組分，以使焙燒該釉料組合物得到的焙燒產(chǎn)品含有相對(duì)于焙燒產(chǎn)品總重量的55.0～67.0重量％的SiO2、8.0～11.0重量％的Al2O3、2.0～8.0重量％的SnO2、15.0～21.0重量％的二價(jià)金屬氧化物和4.0～6.0重量％的單價(jià)金屬氧化物。
該釉料組合物最好包含通過(guò)焙燒能形成釉料層的具有如下組分的釉料成形材料相對(duì)于釉料成形材料總重量的(a)55.0～67.0重量％按SiO2換算的硅分量；(b)8.0～11.0重量％按Al2O3換算的鋁分量；(c)2.0～8.0重量％按SnO2換算的錫分量；(d)15.0～21.0重量％按氧化物換算的二價(jià)金屬分量；和(e)4.0～6.0重量％按氧化物換算的單價(jià)金屬分量。
特別是，該釉料組合物最好包含具有如下組分的釉料成形材料相對(duì)于釉料成形材料總重量的(a)63.0～67.0重量％按SiO2換算的硅分量；(b)8.0～10.0重量％按Al2O3換算的鋁分量；(c)2.0～4.0重量％按SnO2換算的錫分量；(d)16.0～20.0重量％按氧化物換算的二價(jià)金屬分量；和(e)4.0～6.0重量％按氧化物換算的單價(jià)金屬分量。
此外，該分量(d)最好包括相對(duì)于釉料成形材料總重量的(d1)10.0～12.0重量％按CaO換算的鈣分量；和(d2)5.0～8.0重量％按ZnO換算的鋅分量。
該分量(d)也優(yōu)選包括(d3)相對(duì)于釉料成形材料總重量的1.0重量％或1.0重量％以下按MgO換算的鎂分量。
進(jìn)一步優(yōu)選的是單價(jià)金屬分量(e)包括相對(duì)于釉料成形材料總重量的(e1)1.0重量％或以上按Na2O換算的鈉分量；和(e2)1.0重量％或以上按K2O換算的鉀分量。
在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，該釉料成形材料包括玻璃原料，該玻璃原料是通過(guò)使含有分量(a)～(e)中的至少一種分量玻璃化，然后研磨該玻璃化了的材料而得到的。
含有釉料成形材料的分量(a)的材料最好是粒度為30μm或以下的粉末。
含有釉料成形材料的分量(c)的材料最好是中值粒徑為0.2～4.0μm的粉末。
研磨和混合釉料成形材料之后的中值粒徑最好為4～5μm。
此外，包含在釉料組合物中的釉料成形材料最好通過(guò)下列方法制備研磨含有分量(a)和(c)中至少一種的材料，得到粉末或料漿；然后將含有其余分量的材料與粉末或料漿混合；研磨所得到的混合物，得到具有要求粒度的釉料成形材料粉末或其料漿。
該釉料成形材料最好通過(guò)下列方法制備研磨含有分量(a)的材料，得到中值粒徑為5μm或以下的粉末或其料漿；然后將含有其余分量(b)～(e)的材料與粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，得到具有要求粒度的釉料成形材料粉末或其料漿。
該釉料成形材料最好通過(guò)下列方法制備研磨含有分量(c)的材料，得到中值粒徑為1.5～2μm的粉末或其料漿；然后將含有其余分量(a)、(b)、(d)和(e)的材料與粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，得到具有要求粒度的釉料成形材料粉末或其料漿。
該釉料成形材料最好通過(guò)下列方法制備研磨含有分量(a)和(c)的材料，得到中值粒徑為5μm或以下的混合粉末或其料漿；然后將含有其余分量(b)、(d)和(e)的材料與混合粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，得到具有所要求粒度的釉料成形材料粉末或其料漿。
該釉料成形材料也最好通過(guò)下列方法制備研磨含有分量(a)的材料，得到中值粒徑為5μm或以下的粉末或其料漿；然后將含有其余分量(b)～(e)的材料與粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，得到中值粒徑為4～5μm的釉料成形材料粉末或其料漿。
該釉料成形材料最好通過(guò)下列方法制備研磨含有分量(c)的材料，得到中值粒徑為1.5～2μm的粉末或其料漿；然后將含有其余分量(a)、(b)、(d)和(e)的材料與粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，得到中值粒徑為4～5μm的釉料成形材料粉末或其料漿。
該釉料成形材料最好通過(guò)下列方法制備研磨含有分量(a)和(c)的材料，得到中值粒徑為5μm或以下的混合粉末或其料漿；然后將含有其余分量(b)、(d)和(e)的材料與混合粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，得到中值粒徑為4～5μm的釉料成形材料粉末或其料漿。
而且，最好借助于使用氧化鋁球的球磨機(jī)研磨含有釉料成形材料組分的材料。特別是，最好借助于使用帶氧化鋁襯里的罐和氧化鋁球的球磨機(jī)研磨含有釉料成形材料組分的材料。
該釉料組合物最好包括顏料。
本發(fā)明本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種由下列方法制備的防污瓷器在干燥的瓷器坯的基底表面上形成一層本發(fā)明釉料組合物；然后在1150～1250℃溫度下對(duì)該釉料層焙燒8小時(shí)或8小時(shí)以上，在瓷器的焙燒基底表面上形成釉料層。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，防污瓷器釉料層的X射線衍射輪廓線上只有由SnO2晶體產(chǎn)生的衍射峰。另一方面，釉料層的X射線衍射輪廓線上最好只有由CaSnSiO5晶體產(chǎn)生的衍射峰。而且，釉料層的X射線衍射輪廓線上最好只有由SnO2和CaSnSiO5晶體產(chǎn)生的衍射峰。
此外，釉料層的厚度最好是在0.2～1.2毫米的范圍內(nèi)。
從參照附圖對(duì)本發(fā)明的下列詳細(xì)說(shuō)明和實(shí)施例，將會(huì)明白這些目的和其它的目的以及優(yōu)點(diǎn)。
圖3B是圖3A的X射線衍射輪廓線和模擬得到的硅酸鋯晶體的X射線衍射輪廓線之間的關(guān)系圖。
發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的釉料組合物含有釉料成形材料。為了使釉料組合物容易涂在制品例如用于瓷器的基體材料制品上，該釉料組合物可以優(yōu)選含有水和/或各種的粘結(jié)劑。
本發(fā)明的釉料成形材料包括硅分量、鋁分量、錫分量、二價(jià)金屬分量和單價(jià)金屬分量。釉料成形材料的組分是確定的，以致于通過(guò)焙燒釉料組合物而得到的焙燒產(chǎn)品包括相對(duì)于焙燒產(chǎn)品總重量的55.0～67.0重量％的SiO2、8.0～11.0重量％的Al2O3、2.0～8.0重量％的SnO2、15.0～21.0重量％的二價(jià)金屬氧化物和4.0～6.0重量％的單價(jià)金屬氧化物。換句話說(shuō)，確定這些分量的含量，以使其包括相對(duì)于釉料成形材料總重量的(a)55.0～67.0重量％按SiO2換算的硅(Si)分量；(b)8.0～11.0重量％按Al2O3換算的鋁(Al)分量；(c)2.0～8.0重量％按SnO2換算的錫(Sn)分量；(d)15.0～21.0重量％按氧化物換算的二價(jià)金屬分量和(e)4.0～6.0重量％按氧化物換算的單價(jià)金屬分量。
當(dāng)Si分量的含量小于55.0重量％時(shí)，不能充分地獲得釉料層的防污性能。此外，因?yàn)橛粤蠈拥臍饪桩a(chǎn)生量增加和顏色(半透明)退化，所以釉料層的外觀變差。另一方面，當(dāng)Si分量的含量超過(guò)67.0重量％時(shí)，釉料層的防污性能降低。此外，氣孔產(chǎn)生量增加，而且出現(xiàn)釉料層顏色(半透明)的退化。
當(dāng)Al分量的含量小于8.0重量％時(shí)，不能充分地獲得釉料層的防污性能，而且釉料層的氣孔產(chǎn)生量增加。相反，當(dāng)Al分量的含量超過(guò)11.0重量％時(shí)，妨礙了釉料層顏色(半透明)的改進(jìn)效果，這是由于釉料成形材料中存在Sn分量而引起的。
當(dāng)Sn分量的含量小于2.0重量％時(shí)，不能充分地改進(jìn)釉料層的顏色(半透明)。當(dāng)Sn分量超過(guò)8.0重量％時(shí)，釉料層的防污性能降低。
當(dāng)二價(jià)金屬分量的含量小于15.0重量％或單價(jià)金屬分量的含量小于4.0重量％時(shí)，在后面敘述的焙燒步驟中會(huì)妨礙釉料成形材料的玻璃化。這會(huì)導(dǎo)致防污性能不夠。此外，釉料層的光澤變差。相反，當(dāng)二價(jià)金屬分量的含量超過(guò)21.0重量％，或單價(jià)金屬分量的含量超過(guò)4.0重量％時(shí)，防污性能會(huì)降低，而且釉料層的氣孔產(chǎn)生量增加。
例如，可以使用鈣(Ca)分量、鋅(Zn)分量和/或鎂(Mg)分量作為二價(jià)金屬分量。特別是，釉料成形材料優(yōu)選包括作為二價(jià)金屬分量且相對(duì)于釉料成形材料總重量的(d1)10.0～12.0重量％按CaO換算的鈣分量；和(d2)5.0～8.0重量％按ZnO換算的鋅分量。在這種情況下，可以穩(wěn)定地獲得防污性能和光澤更好的釉料層。
此外，當(dāng)Ca和Zn分量的含量在上述范圍之內(nèi)時(shí)，釉料成形材料中可以含有少量的Mg分量。即，Mg分量的含量最好小于相對(duì)于釉料成形材料總重量的1.0重量％按MgO換算的鎂分量。Mg分量的含量下限沒有限制。例如，它可以是0.1重量％。
例如，可以使用鈉(Na)分量和/或鉀(K)分量作為單價(jià)金屬分量。特別是，釉料成形材料優(yōu)選包括作為單價(jià)金屬分量且相對(duì)于釉料成形材料總重量的(e1)1.0重量％或以上按Na2O換算的鈉分量；和(e2)1.0重量％或以上按K2O換算的鉀分量。在這種情況下，可以獲得光澤好的釉料層，而且還能提高防污性能。當(dāng)Na分量的含量基本上等于K分量的含量時(shí)，可以獲得較好的結(jié)果?？紤]到單價(jià)金屬分量的含量，其含量在4.0～8.0重量％的范圍內(nèi)，Na和K每種分量的含量上限可以是4重量％，而優(yōu)選3重量％。
特別優(yōu)選的是確定這些分量的含量，使其包括相對(duì)于釉料成形材料總重量的(a)63.0～67.0重量％按SiO2換算的硅分量；(b)8.0～10.0重量％按Al2O3換算的鋁分量；(c)2.0～4.0重量％按SnO2換算的錫分量；(d)16.0～20.0重量％按氧化物換算的二價(jià)金屬分量和(e)4.0～6.0重量％按氧化物換算的單價(jià)金屬分量。換句話說(shuō)，確定釉料成形材料的組成，以致于通過(guò)焙燒釉料組合物而獲得的焙燒產(chǎn)品包括相對(duì)于焙燒產(chǎn)品總重量的63.0～67.0重量％的SiO2、8.0～10.0重量％的Al2O3、2.0～4.0重量％的SnO2、16.0～20.0重量％的二價(jià)金屬氧化物和4.0～6.0重量％的單價(jià)金屬氧化物。
含有Sn分量的原料通常比含有其他分量的原料昂貴。因此，隨著含有Sn分量的原料消耗量降低，可以提高釉料組合物的總價(jià)格性能。即使當(dāng)Sn分量的含量在2.0～4.0重量％的范圍內(nèi)，因?yàn)橛粤铣尚尾牧虾兄辽?3.0重量％的Si分量，所以仍然可以獲得漂亮的半透明釉料層。因此，減少Sn分量的含量，可以提供具有極好價(jià)格性能的釉料組合物。
另一方面，當(dāng)二價(jià)金屬分量的含量在16.0～20.0重量％的范圍內(nèi)，以及單價(jià)金屬分量的含量在4.0～6.0重量％的范圍內(nèi)時(shí)，可以進(jìn)一步改進(jìn)釉料層的防污性能和光澤。
可以以其中的氧化物形式提供釉料成形材料的每種分量。另外，可以使用含有除氧化物之外形式分量的原料制備釉料組合物。即，可以使用滿足下列條件的原料當(dāng)原料中的分量由于焙燒被氧化時(shí)，釉料層中可以形成該分量的氧化物。具體地說(shuō)，可以使用長(zhǎng)石、二氧化硅、石灰石、白云石、氧化鋅、“蛙目(Gairome)”粘土和氧化錫粉末。因此，可以將需要量的這些材料研磨并混合來(lái)制備釉料成形材料。
此外，釉料成形材料優(yōu)選含有玻璃原料。例如，可以將含有上述需要分量的化合物的混合物熔融，使混合物玻璃化，然后研磨玻璃化(非晶質(zhì))的材料來(lái)制備這種玻璃原料。當(dāng)然，使用這些分量制備的玻璃原料可以與其余分量混合。必要的話，可以將釉料成形材料與需要量的水和粘結(jié)劑混合而獲得釉料組合物。
優(yōu)選預(yù)先控制含有Si或Sn分量的原料粒度來(lái)制備釉料成形材料。例如，可以對(duì)含有Si分量的原料例如長(zhǎng)石或或二氧化硅進(jìn)行初磨，再分選所得到的產(chǎn)品，就可以獲得不含30μm以上顆粒的粉末或其料漿。此外，可以對(duì)含有Sn分量的原料例如氧化錫粉末進(jìn)行初磨，再分選所得到的產(chǎn)品，就可以獲得中值粒徑為0.2～4.0μm的粉末或其料漿。這種情況可有效穩(wěn)定地達(dá)到改進(jìn)釉料層防污性能和視覺美感的效果。中值粒徑定義為粒度分布中與累積曲線的50％相對(duì)應(yīng)的粒徑，也稱為50％平均粒度(D50)。在本說(shuō)明書中，根據(jù)基于重量的粒度分布確定中值粒徑。在這種情況下，直徑大于中值粒徑的顆粒總重量等于直徑小于中值粒徑的顆?？傊亓?。
此外，釉料成形材料的中值粒徑最好是在4～5μm的范圍內(nèi)。當(dāng)滿足該中值粒徑范圍時(shí)，可以進(jìn)一步提高釉料層的防污性能和光澤度。
在制備本發(fā)明釉料組合物時(shí)，優(yōu)選初磨含有Si和Sn中至少一種分量的原料，獲得粉末或料漿，將含有其余分量的原料與該粉末或該料漿混合，然后研磨所得到的混合物，得到具有要求粒度的釉料成形材料粉末或其料漿。當(dāng)制備釉料成形材料的料漿時(shí)，可以在有水的情況下進(jìn)行此研磨步驟。
在只初磨含Si分量的原料的情況下，優(yōu)選進(jìn)行研磨步驟，以得到中值粒徑為5μm或5μm以下的粉末或其料漿。然后，將含有其余分量的原料與該粉末或料漿混合。再次研磨所得到的混合物，得到具有要求粒度的釉料成形材料粉末或其料漿。在這種情況下，可以進(jìn)一步減少氣孔產(chǎn)生量，而且獲得視感更美的釉料層。如上所述，隨著含有Si分量的原料的中值粒徑變小，可以獲得更好的結(jié)果。然而，從縮短生產(chǎn)時(shí)間的觀點(diǎn)來(lái)看，中值粒徑為大約1μm可能是適宜的。
在只初磨含Sn分量的原料情況下，優(yōu)選進(jìn)行研磨步驟，得到中值粒徑為1.5～2μm的粉末或其料漿。然后，將含有其余分量的原料與粉末或料漿混合。再次研磨所得到的混合物，得到具有要求粒度的釉料成形材料粉末或其料漿。在這種情況下，可以進(jìn)一步提高防污性能，并形成光澤好的漂亮的半透明釉料層。因此，此初磨步驟對(duì)改進(jìn)釉料層的外觀特別有效。
在初磨含Si和Sn分量的原料的情況下，優(yōu)選進(jìn)行研磨步驟，得到中值粒徑為5μm或5μm以下的混合粉末或其料漿。然后，將含有其余分量的原料與混合粉末或料漿混合。再次研磨所得到的混合物，得到具有要求粒度的釉料成形材料粉末或其料漿。在這種情況下，可以進(jìn)一步減少氣孔產(chǎn)生量，并獲得視感更美的半透明釉料層。如上所述，隨著含有Si和Sn分量的原料的中值粒徑變小，可以獲得更好的結(jié)果。然而，從縮短生產(chǎn)時(shí)間的觀點(diǎn)來(lái)看，中值粒徑為大約1μm也許是適宜的。
在進(jìn)行上述初磨步驟之后，優(yōu)選研磨所得到的混合物，以致于釉料成形材料粉末的中值粒徑為4～5μm或獲得其料漿。在這種情況下，可以進(jìn)一步有效改進(jìn)防污性能，并形成光澤好的漂亮的半透明釉料層。
例如，可以用球磨機(jī)進(jìn)行該研磨步驟。在這種情況下，球蘑機(jī)優(yōu)選使用氧化鋁球或二氧化硅球和/或使用具有由氧化鋁或二氧化硅制成襯里的球磨罐，這些都有益于防止釉料成形材料的污染。特別是，因?yàn)檠趸X耐磨性極好，所以在球磨步驟的過(guò)程中可以把球碎片與釉料成形材料的混合減到最低程度。因此，它使釉料層具有極好的防污性能。由于這些原因，所以建議使用氧化鋁球和氧化鋁襯里。
為了改進(jìn)涂覆釉料組合物的容易性，釉料組合物最好含有水。例如，在釉料組合物中可以使用(相對(duì)于100重量份固體物質(zhì)的)大約40重量份的水。為了增強(qiáng)釉料組合物的成膜能力，釉料組合物可以含有一種在焙燒過(guò)程中可以蒸發(fā)掉的粘結(jié)劑?？梢匀我獾剡x擇這種類型的粘結(jié)劑。
在形成具有不同于半透明的要求顏色的釉料層的情況下，該釉料組合物可以含有一種使釉料層形成要求顏色的顏料?？梢匀我獾剡x擇這種類型的顏料。然而，優(yōu)選使用形成釉料層時(shí)不結(jié)晶的顏料。
本發(fā)明另一個(gè)重要目的是提供一種具有釉料層的防污瓷器，該釉料層是使用本發(fā)明釉料組合物形成的。即，可以按照下列步驟生產(chǎn)防污瓷器。首先，將上述釉料組合物涂在由瓷器基底材料制成的干燥制品的預(yù)定表面上。例如，可以將釉料組合物噴涂在制品上。然后，在1150～1250℃溫度下對(duì)該涂層焙燒8小時(shí)或8小時(shí)以上，在焙燒制品的表面上形成釉料層。當(dāng)溫度低于1150℃時(shí)，釉料層的防污性能會(huì)降低，而且釉料層的光澤度也會(huì)減退。另一方面，當(dāng)溫度超過(guò)1250℃時(shí)，涂層的釉料組合物的流動(dòng)性增加，而且釉料層的厚度變化大。當(dāng)焙燒溫度在上述的范圍內(nèi)時(shí)，可以穩(wěn)定地獲得光澤好和防污性能極好的釉料層。如果焙燒時(shí)間超過(guò)8小時(shí)，釉料層中的氣孔減少量下降。然而，從降低生產(chǎn)成本的觀點(diǎn)來(lái)看，選擇焙燒時(shí)間優(yōu)選小于24小時(shí)。
為了焙燒釉料組合物，例如可以使用輥道窯或隧道窯。在輥道窯中，安裝多個(gè)托輥運(yùn)送焙燒制品。另一方面，在隧道窯中，運(yùn)載焙燒制品的車輛是可移動(dòng)的。在這些情況下，因?yàn)榭梢赃B續(xù)地焙燒大量的制品，所以可以獲得高生產(chǎn)效率。當(dāng)使用輥道窯時(shí)，優(yōu)選焙燒制品8小時(shí)或8小時(shí)以上。當(dāng)使用隧道窯時(shí)，優(yōu)選焙燒制品10小時(shí)或10小時(shí)以上。
在上述生產(chǎn)方法中，最好將釉料組合物涂在制品的要求的表面上，以使焙燒之后的釉料層厚度在0.2～1.2毫米的范圍內(nèi)。在這種范圍內(nèi)，制品表面可以掩蓋在釉料層的后面。當(dāng)厚度小于0.2毫米時(shí)，會(huì)透過(guò)釉料層露出制品表面。另一方面，當(dāng)厚度超過(guò)1.2毫米時(shí)，當(dāng)在焙燒步驟之前干燥釉料組合物涂層時(shí)，容易形成細(xì)龜裂。在這種情況下，焙燒步驟之后，釉料層有可能出現(xiàn)叫做“裂縫”的缺陷，而且制品表面會(huì)部分暴露在外面。
焙燒步驟之后用X射線衍射分析方法分析本發(fā)明釉料層，可以發(fā)現(xiàn)由SnO2和/或CaSnSiO5(錫榍石)晶體引起的衍射峰。即，沒有發(fā)現(xiàn)除了SnO2和CaSnSiO5晶體之外的晶體引起的衍射峰。其含義是釉料組合物的大部分分量都變成非晶質(zhì)結(jié)構(gòu)。由于SnO2和CaSnSiO5晶體的存在而形成釉料層的顏色(半透明)。因?yàn)楸景l(fā)明釉料組合物不含鋯分量，所以可以形成光滑表面，具有釉料層的光澤和極好的防污性能，而沒有由于形成硅酸鋯(ZrSiO4)晶體所引起的釉料層表面不均勻的現(xiàn)象。
實(shí)施例接著，詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
(例1)作為本發(fā)明釉料成形材料的原料，可以使用“Kamato”長(zhǎng)石、石英粉、石灰石、白云石、氧化鋅、“蛙目”粘土和氧化錫粉末。每種石英粉和“蛙目”粘土中30μm或30μm以上的顆粒含量大約為2％。石英粉和“蛙目”粘土是含Si分量的原料。氧化錫粉末的中值粒徑為4.1μm。
將需要量的原料放進(jìn)具有二氧化硅襯里的球磨罐中，然后將相對(duì)于100重量份原料固體物質(zhì)的40重量份的水加入到該罐中。使用球磨罐和二氧化硅球?qū)λ玫降幕旌衔锴蚰?小時(shí)。結(jié)果，獲得例1的釉料組合物。將獲得的釉料組合物的按氧化物換算的釉料成形材料組分“A”示于表1中，使用X射線傳輸型粒徑測(cè)量?jī)x器測(cè)量釉料組合物中釉料成形材料的中值粒徑。在例1中，中值粒徑為5.1μm。
接著，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在隧道窯中于1200℃最高溫度下對(duì)帶有噴涂層的瓷器焙燒16小時(shí)，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為例1的陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例2～9，對(duì)比例1～13)在例2～9和對(duì)比例1～13的每一例中，除了使用不同添加數(shù)量的原料之外，按照與例1基本上相同的方法制備釉料組合物，然后在不同的條件下進(jìn)行球磨步驟，以使釉料成形材料的中值粒徑為5.1μm。在例2～9和對(duì)比例1～13中獲得的釉料組合物的按氧化物換算的釉料成形材料組分“B”～“V”示于表1和表2中。
接著，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例10、11)在例10和11的每一例中，將30重量份的玻璃原料粉末(Japan FritCompany生產(chǎn)的；產(chǎn)品序號(hào)PN-54321；SiO270重量％；Al2O314重量％；Na2O16重量％)加入到70重量份的其它原料中。使用與例1相同的球磨罐和球?qū)λ玫降幕旌衔镞M(jìn)行球磨，獲得中值粒徑為5.1μm的釉料成形材料。例10和11的按氧化物換算的釉料成形材料組分“A”和“B”示于表1中。
接著，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例12、13)在這些例子中，將“Kamato”長(zhǎng)石和石英粉原料進(jìn)行初磨并分選，從其中除去30μm或30μm以上的大顆粒。除上述步驟以外，分別按照與例1或2基本上相同的方法制備例12和13的釉料組合物。獲得的釉料組合物含有中值粒徑為5.1μm的釉料成形材料。例12和13的按氧化物換算的釉料成形材料組合物“A”和“B”示于表1中。
然后，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例14～17)在例14和15的每一例中，除了分別使用中值粒徑為3.2μm(例14)和0.1μm(例15)的氧化錫粉末作為含Sn分量的原料之外，按照與例3基本上相同的方法制備釉料組合物，如表3中所示。獲得的釉料組合物含有中值粒徑為5.1μm的釉料成形材料。例14和15的按氧化物換算的釉料成形材料組分“C”示于表1中。
在例16和17的每一例中，如表3中所示，除了分別使用中值粒徑為3.2μm(例16)和0.1μm(例17)的氧化錫粉末作為含Sn分量的原料之外，按照與例4基本上相同的方法制備釉料組合物。獲得的釉料組合物含有中值粒徑為5.1μm的釉料成形材料。例16和17的按氧化物換算的釉料成形材料組分“D”示于表1中。
然后，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例18、19)在實(shí)施例18和19的每一例中，如表4所示，除了通過(guò)控制球磨時(shí)間將釉料成形材料的中值粒徑分別調(diào)整為4.3μm(例18)和3.8μm(例19)之外，按照與例2基本上相同的方法制備釉料組合物。例18和19的按氧化物換算的釉料成形材料組分“B”示于表1中。
然后，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例20～22)將含有Si和Sn分量的一種(例20，21)或兩種(例22)原料與20重量份的水混合，獲得初始混合物，然后使用與例1相同的球磨罐和球?qū)Τ跏蓟旌衔锍跄?小時(shí)，以使這些原料的中值粒徑變成表4所示數(shù)值的大小。將其余原料和水加入到裝有初始混合物的罐中，然后球磨所得到的混合物而獲得釉料組合物。水的含量是40重量份(相對(duì)于100重量份原料的固體物質(zhì))。獲得的釉料組合物含有中值粒徑為5.1μm的釉料成形材料。例20～22的按氧化物換算的釉料成形材料組分“B”示于表1中。
然后，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例23)將含Si分量的原料與20重量份的水混合得到初始混合物，然后使用與例1相同的球磨罐和球?qū)Τ跏蓟旌衔锍跄?小時(shí)，以使原料的中值粒徑變?yōu)?.0μm。將其余原料和水加入到裝有初始混合物的罐中，然后，對(duì)所得到的混合物球磨7小時(shí)而獲得釉料組合物。水的含量是40重量份(相對(duì)于100重量份原料的固體物質(zhì))。得到的釉料組合物中含有中值粒徑為4.4μm的釉料成形材料。例23的按氧化物換算的釉料成形材料組分“B”示于表1中。
然后，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例24和25)在例24和25之每一例中，將含Sn分量的原料與20重量份的水混合，得到初始混合物，然后使用與例1相同的球磨罐和球?qū)Τ跏蓟旌衔锍跄?小時(shí)(例24)或6小時(shí)(例25)，以使原料的中值粒徑變?yōu)?.8μm(例24)或1.3μm(例25)。將其余原料和水加入到裝有初始混合物的罐中，然后，對(duì)所得到的混合物球磨7小時(shí)而獲得釉料組合物。水的含量是40重量份(相對(duì)于100重量份原料的固體物質(zhì))。得到的釉料組合物中含有中值粒徑為4.9μm的釉料成形材料。例24和25的按氧化物換算的釉料成形材料組分“B”示于表1中。
然后，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例26)將含有Si和Sn組分的兩種原料與20重量份的水混合，獲得初始混合物，然后使用與例1相同的球磨罐和球?qū)Τ跏蓟旌衔锍跄?小時(shí)，以使這些原料的中值粒徑變?yōu)?.0μm。將其余原料和水加入到裝有初始混合物的罐中，然后，對(duì)所得到的混合物球磨7小時(shí)而獲得釉料組合物。水的含量是40重量份(相對(duì)于100重量份原料的固體物質(zhì))。得到的釉料組合物中含有中值粒徑為4.1μm的釉料成形材料。例26的按氧化物換算的釉料成形材料組分“B”示于表1中。
然后，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例27、28)在這兩例的每一例中，除下列特征以外，按照與例2相同的方法制備釉料組合物。即，在例27中，在球磨步驟中使用具有二氧化硅襯里的球磨罐和氧化鋁球。另一方面，在例28中，在球磨步驟中使用具有氧化鋁襯里的球磨罐和氧化鋁球。得到的釉料組合物中含有中值粒徑為5.1μm的釉料成形材料。例27和28的按氧化物換算的釉料成形材料組分“B”示于表1中。
然后，將此釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
(例29，對(duì)比例14)在例29中，將3重量份的顏料(Kawamura Chemical Co.Ltd.生產(chǎn)的，“GLAY 6501”)加入到例2的釉料組合物中。另一方面，在對(duì)比例14中，將3重量份的上述顏料加入到對(duì)比例1的釉料組合物中。得到的釉料組合物中含有中值粒徑為5.1μm的釉料成形材料。
然后，將每種釉料組合物噴涂在陶瓷衛(wèi)生潔具基底材料的制品表面上，在其上形成一層釉料組合物。在與例1相同焙燒條件下焙燒帶有噴涂層的瓷器，獲得釉料層厚度為0.6毫米的焙燒制品作為陶瓷衛(wèi)生潔具。
對(duì)例1～29和對(duì)比例1～14的每一例進(jìn)行下列評(píng)定。結(jié)果示于表3～5中。
(1)釉料層的防污性能將帶有釉料層的陶瓷制品在60℃的溫度下于5％堿性水溶液中保持45小時(shí)之后，它被水基涂料污染。然后，試著從帶有污垢的陶瓷制品上除去沾染物。在表3～5中，符號(hào)“◎”表示完全除掉沾染物。符號(hào)“○”表示幾乎除掉了沾染物，但是有少量的沾染物殘留在陶瓷制品上。符號(hào)“×”表示在視覺上仍然發(fā)現(xiàn)殘留的沾染物。
(2)釉料層的光澤度從視覺上將釉料層的光澤度與對(duì)比例1的釉料層進(jìn)行比較。在表3～5中，符號(hào)“◎”表示光澤超過(guò)對(duì)比例1的光澤。符號(hào)“○”表示光澤基本上與對(duì)比例1的光澤相同。符號(hào)“×”表示光澤不如對(duì)比例1的光澤。
(3)釉料層中氣孔產(chǎn)生量從視覺上將釉料層中的氣孔產(chǎn)生量與對(duì)比例1的氣孔產(chǎn)生量進(jìn)行比較。在表3～5中，符號(hào)“◎”表示氣孔產(chǎn)生量少于對(duì)比例1的氣孔產(chǎn)生量。符號(hào)“○”表示氣孔產(chǎn)生量基本上與對(duì)比例1的氣孔產(chǎn)生量相同。符號(hào)“×”表示氣孔產(chǎn)生量多于對(duì)比例1的氣孔產(chǎn)生量。
(4)釉料層的半透明度從視覺上將釉料層的半透明度與對(duì)比例1的半透明度進(jìn)行比較。在表3～5中，符號(hào)“◎”表示釉料層的半透明度超過(guò)對(duì)比例1的半透明度。符號(hào)“○”表示釉料層的半透明度基本上與對(duì)比例1的半透明度相同。符號(hào)“×”表示釉料層的半透明度劣于對(duì)比例1的半透明度。
與對(duì)比例1的釉料層比較，例1～9的結(jié)果表示本發(fā)明可以提供具有改進(jìn)防污性能的釉料層，不會(huì)降低釉料層的光澤度和半透明度，也不會(huì)增加氣孔產(chǎn)生量。因?yàn)閷?duì)比例1的釉料層含有ZrSiO4，所以證明它的防污性能差。
在對(duì)比例2和11中，因?yàn)橛粤蠈雍羞^(guò)量的硅分量，所以防污性能降低，且氣孔產(chǎn)生量增加。另一方面，在對(duì)比例3中，因?yàn)橛粤蠈又蠸n分量的含量不足，所以半透明釉料層的視覺上美感效果降低。此外，防污性能降低，且氣孔產(chǎn)生量增加。
在對(duì)比例11和13中，因?yàn)橛粤蠈又泻羞^(guò)量的Al分量，所以釉料層的半透明度降低。另一方面，在對(duì)比例2和10中，因?yàn)橛粤蠈又蠥l分量的含量不足，所以防污性能，且氣孔產(chǎn)生量增加。在對(duì)比例3中，因?yàn)橛粤蠈又泻羞^(guò)量的Sn分量，所以防污性能降低。另一方面，在對(duì)比例12中，因?yàn)橛粤蠈又蠸n分量的含量不足，所以釉料層的半透明度降低。
在對(duì)比例7中，因?yàn)橛粤蠈又泻羞^(guò)量的二價(jià)金屬分量，所以防污性能降低，且氣孔產(chǎn)生量增加。另一方面，在對(duì)比例6和11中，因?yàn)橛粤蠈又卸r(jià)金屬分量的含量不足，所以釉料層的光澤度減退，且防污性能降低。
在對(duì)比例4和8中，因?yàn)橛粤蠈又泻羞^(guò)量的單價(jià)金屬分量，所以防污性能降低，且氣孔產(chǎn)生量增加。
此外，觀察到出現(xiàn)在釉料層中的裂縫。另一方面，在對(duì)比例5和9中，因?yàn)橛粤蠈又袉蝺r(jià)金屬分量的含量不足，所以釉料層的光澤度減退，且防污性能降低。
當(dāng)釉料層中按氧化物換算的二價(jià)金屬分量的總量為16重量％或16重量％以上時(shí)，將有助于改進(jìn)防污性能。另一方面，當(dāng)二價(jià)金屬分量的總量為20重量％或20重量％以下時(shí)，顯著地減少氣孔產(chǎn)生量。
在使用玻璃原料的例10和11中，得到與例1和2情況相同的評(píng)定結(jié)果。另外，在例12和13中，預(yù)先從含Si分量的原料中除去30μm或30μm以上的顆粒，所以與例1和2的情況(與例12和13具有相同的組分)相比，有助于改進(jìn)防污性能。
在例14和16中，因?yàn)槠浜琒n分量原料的中值粒徑在0.2～4.0μm范圍內(nèi)，所以與例3和2的情況(與例14和16具有相同的組分)相比，進(jìn)一步改進(jìn)了防污性能。另一方面，在中值粒徑為0.2μm或0.2μm以下的例15和17中，防污性能基本上等于例3和4的情況(與例15和17具有相同的組分)。例3和4中釉料層的半透明度超過(guò)例15和17中釉料層的半透明度。
在例18中，因?yàn)橛粤铣尚尾牧系闹兄盗皆?.2～5.0μm范圍內(nèi)，所以與例2的情況(與例18具有相同的組分)相比，進(jìn)一步改進(jìn)了防污性能。另一方面，在中值粒徑為4.0μm或4.0μm以下的實(shí)施例19中，防污性能基本上等于例2的防污性能。
在例20～26中，含Si和Sn分量的原料中的至少一種原料預(yù)先經(jīng)過(guò)研磨，所以與例2的情況(與這些例具有相同的組分)相比，進(jìn)一步提高了防污性能。特別是，就例23～26而言，因?yàn)橛粤铣尚尾牧系闹兄盗皆诟鼉?yōu)選的范圍內(nèi)，所以顯著地提高釉料層的光澤度。此外，在例24和26中，含Sn分量的原料預(yù)先經(jīng)過(guò)研磨，所以進(jìn)一步提高了釉料層的半透明度。
在使用氧化鋁球的例27以及使用帶有氧化鋁襯里的球磨罐和氧化鋁球的例28中，與例2的情況(與例27和28具有相同的組分)相比較，得到了更好的防污性能。此外，例28中釉料層的防污性能超過(guò)例27中釉料層的防污性能。
在例29中，使用了含顏料的釉料組合物，所以獲得了不同于半透明的彩釉層。證明了此例的釉料層基本上與例2具有相同的評(píng)定結(jié)果，而例2中除了不加入顏料之外，與例29具有相同的組分。此外，該防污性能比含顏料的對(duì)比例14的防污性能更好。
就例1和2以及對(duì)比例1的釉料組合物而言，使用CuKα射線作為X射線源進(jìn)行X射線衍射分析。結(jié)果示于

圖1A、1B、2A、2B、3A和3B中。圖1A、2A和3A分別是例1和2以及對(duì)比例1中測(cè)量的X射線衍射輪廓線。橫坐標(biāo)表示X射線衍射角(2θ)，而縱坐標(biāo)表示衍射強(qiáng)度。在圖1B、2B和3B中，術(shù)語(yǔ)“峰值數(shù)據(jù)”表示衍射角和衍射強(qiáng)度之間的關(guān)系，根據(jù)圖1A、2A和3A的每幅圖的測(cè)量的輪廓線來(lái)確定?！翱ㄆ逯怠北硎狙苌浣呛脱苌鋸?qiáng)度之間的關(guān)系，由相對(duì)于SnO2晶體(圖1B)、SnO2和SnSiO6晶體(圖2B)以及硅酸鋯(圖3B)的模擬結(jié)果確定。
從這些圖可知，例1的釉料層只有由SnO2晶體產(chǎn)生的衍射峰，其余分量是非晶質(zhì)形態(tài)。因此，只有當(dāng)SnO2以晶體形式存在于釉料層中時(shí)，可以獲得具有光澤、光滑表面和良好防污性能的漂亮的半透明釉料層。
另一方面，例2的釉料層只有由CaSnSiO5和SnO2晶體產(chǎn)生的衍射峰。其余分量是非晶質(zhì)形態(tài)。因此，只有當(dāng)CaSnSiO5和SnO2以晶體形式存在于釉料層中時(shí)，可以獲得具有光澤、光滑表面和良好防污性能的漂亮的半透明釉料層。
相反，在對(duì)比例1的釉料層中形成硅酸鋯晶體。在這種情況下，可以獲得漂亮的半透明釉料層。然而，從上述評(píng)定中可知出現(xiàn)了相當(dāng)大的表面不均勻的釉料層，而且防污性能差。
如上所述，使用本發(fā)明的釉料組合物，可以獲得具有光澤好的和防污性能極好的漂亮的半透明釉料層。即使污垢沉積在釉料層上，也可以容易地從釉料層上除去污垢。此外，使用本發(fā)明的釉料組合物可穩(wěn)定地提供光滑表面的釉料層，而且釉料層中的氣孔產(chǎn)生量減少。而且，當(dāng)需要具有不同于半透明的預(yù)定顏色的釉料層時(shí)，使用含要求量的顏料的本發(fā)明釉料組合物可以迅速地提供具有預(yù)定顏色和防污性能極好的漂亮的釉料層。
此外，在瓷器基底材料的制品表面上形成一層本發(fā)明的釉料組合物，然后在1150～1250℃的溫度下對(duì)該釉料層焙燒8小時(shí)或8小時(shí)以上，在焙燒制品的表面上獲得一層釉料層，這樣可以生產(chǎn)具有光澤好的和防污性能極好的半透明釉料層的防污陶瓷制品。
因此，由于本發(fā)明的釉料組合物可以給瓷器帶來(lái)優(yōu)良的防污性能和漂亮的外觀，所以它優(yōu)選用于家用、工業(yè)和建筑以及美術(shù)陶瓷的廣泛的陶瓷應(yīng)用領(lǐng)域，特別適用于陶瓷衛(wèi)生潔具的應(yīng)用領(lǐng)域。
表1

表2

表3

表4

表5

權(quán)利要求
1.一種含釉料成形材料的釉料組合物，所述釉料成形材料具有確定的組分，以使焙燒所述釉料組合物得到的焙燒產(chǎn)品中包括相對(duì)于焙燒產(chǎn)品總重量的55.0～67.0重量％的SiO2、8.0～11.0重量％的Al2O3、2.0～8.0重量％的SnO2、15.0～21.0重量％的二價(jià)金屬氧化物和4.0～6.0重量％的單價(jià)金屬氧化物。
2.如權(quán)利要求1所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料包括相對(duì)于釉料形成材料總重量的(a)55.0～67.0重量％按SiO2換算的硅分量；(b)8.0～11.0重量％按Al2O3換算的鋁分量；(c)2.0～8.0重量％按SnO2換算的錫分量；(d)15.0～21.0重量％按氧化物換算的二價(jià)金屬分量；和(e)4.0～6.0重量％按氧化物換算的單價(jià)金屬分量。
3.如權(quán)利要求1或2所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料包括相對(duì)于釉料形成材料總重量的(a)63.0～67.0重量％按SiO2換算的硅分量；(b)8.0～10.0重量％按Al2O3換算的鋁分量；(c)2.0～4.0重量％按SnO2換算的錫分量；(d)16.0～20.0重量％按氧化物換算的二價(jià)金屬分量；和(e)4.0～6.0重量％按氧化物換算的單價(jià)金屬分量。
4.如權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于該分量(d)包括相對(duì)于釉料形成材料總重量的(d1)10.0～12.0重量％按CaO換算的鈣分量；和(d2)5.0～8.0重量％按ZnO換算的鋅分量。
5.如權(quán)利要求4所述的釉料組合物，其特征在于所述分量(d)包括(d3)相對(duì)于釉料成形材料總重量的1.0重量％或1.0重量％以下按MgO換算的鎂分量。
6.如權(quán)利要求1～5任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于所述單價(jià)金屬分量(e)包括相對(duì)于釉料形成材料總重量的(e1)1.0重量％或以上按Na2O換算的鈉分量；和(e2)1.0重量％或以上按K2O換算的鉀分量。
7.如權(quán)利要求1～6任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料含有下列方法獲得的玻璃原料使至少含分量(a)～(e)之一的材料玻璃化，然后研磨該玻璃化材料。
8.如權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于含有釉料成形材料的分量(a)的材料是粒徑為30μm或30μm以下的粉末。
9.權(quán)利要求1～8任何一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于含有釉料成形材料的分量(c)的材料是中值粒徑為0.2～4.0μm的粉末。
10.如權(quán)利要求1～9任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于研磨和混合所述釉料成形材料之后的中值粒徑在4～5μm的范圍內(nèi)。
11.如權(quán)利要求1～10任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料是通過(guò)下列方法制備的研磨至少含有分量(a)和(c)之一的材料，獲得粉末或料漿，然后將含有其余分量的材料與所述粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，獲得具有要求粒徑的釉料成形材料粉末或其料漿。
12.如權(quán)利要求11所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料是通過(guò)下列方法制備的研磨含有分量(a)的材料，獲得中值粒徑為5μm或5μm以下的粉末或其料漿，然后將含有其余分量(b)～(e)的材料與所述粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，獲得具有要求粒徑的釉料成形材料粉末或其料漿。
13.如權(quán)利要求11所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料是通過(guò)下列方法制備的研磨含有分量(c)的材料，獲得中值粒徑為1.5～2μm的粉末或其料漿，然后將含有其余分量(a)、(b)、(d)和(e)的材料與所述粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，獲得具有要求粒徑的釉料成形材料粉末或其料漿。
14.如權(quán)利要求11所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料是通過(guò)下列方法制備的研磨含有分量(a)和(c)的材料，獲得中值粒徑為5μm或5μm以下的混合粉末或其料漿，然后將含有其余分量(b)、(d)和(e)的材料與所述混合粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，獲得具有要求粒徑的釉料成形材料粉末或其料漿。
15.如權(quán)利要求11所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料是通過(guò)下列方法制備的研磨含有分量(a)的材料，獲得中值粒徑為5μm或5μm以下的粉末或其料漿，然后將含有其余分量(b)～(e)的材料與所述粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，獲得中值粒徑為4～5μm的釉料成形材料粉末或其料漿。
16.如權(quán)利要求11所述的釉料組合物，其特征在于所述釉料成形材料是通過(guò)下列方法制備的研磨含有分量(c)的材料，獲得中值粒徑為1.5～2μm的粉末或其料漿，然后將含有其余分量(a)、(b)、(d)和(e)的材料與所述粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，獲得中值粒徑為4～5μm的釉料成形材料粉末或其料漿。
17.權(quán)利要求11所述的釉料組合物，其中所說(shuō)的釉料成形材料是通過(guò)下列方法制備的研磨含有組分(a)和(c)的材料，獲得中值粒徑為5μm或5μm以下的混合粉末或其料漿，然后將含有其余分量(b)、(d)和(e)的材料與所述混合粉末或料漿混合，并研磨所得到的混合物，獲得中值粒徑為4～5μm的釉料成形材料粉末或其料漿。
18.如權(quán)利要求1～17任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于含有所述釉料成形材料組分的材料是采用使用氧化鋁球的球磨機(jī)研磨的。
19.如權(quán)利要求1～17任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于含有所述釉料成形材料組分的材料是使用帶有氧化鋁襯里的罐和氧化鋁球的球磨機(jī)研磨的。
20.如根據(jù)陳述1～19任一項(xiàng)所述的釉料組合物，其特征在于包含一種顏料。
21.一種防污瓷器，通過(guò)下列方法生產(chǎn)在瓷器坯的干燥的基底表面上形成一層權(quán)利要求1～20任一項(xiàng)所述的釉料組合物，然后在1150～1250℃的溫度下對(duì)該釉料層焙燒8小時(shí)或8小時(shí)以上，在瓷器的焙燒底面上獲得一層釉料層。
22.如權(quán)利要求21所述的防污瓷器，其特征在于所述釉料層的X射線衍射輪廓線只有由SnO2晶體產(chǎn)生的衍射峰。
23.如權(quán)利要求21所述的防污瓷器，其特征在于所述釉料層的X射線衍射輪廓線只有由CaSnSiO5晶體產(chǎn)生的衍射峰。
24.如權(quán)利要求21所述的防污瓷器，其特征在于所述釉料層的X射線衍射輪廓線只有由SnO2和CaSnSiO5晶體產(chǎn)生的衍射峰。
25.如權(quán)利要求21～24任一項(xiàng)所述的防污瓷器，其特征在于所述釉料層的厚度在0.2～1.2μm的范圍內(nèi)。
全文摘要
一種釉料組合物可用于形成具有優(yōu)良防污性能和視覺美感的釉料層。該釉料組合物包含具有確定組分的釉料成形材料，以使焙燒該釉料組合物得到的焙燒產(chǎn)品中包括相對(duì)于焙燒產(chǎn)品總重量的55.0～67.0重量％的SiO
文檔編號(hào)C03C8/02GK1464867SQ02802352
公開日2003年12月31日 申請(qǐng)日期2002年7月1日 優(yōu)先權(quán)日2001年7月5日
發(fā)明者石木茂, 石原政行, 松浦一弘, 甘乍那塔諾姆·阿通 申請(qǐng)人:松下電工株式會(huì)社, 美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)國(guó)際公司