專利名稱：著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液、附有著色透明導(dǎo)電膜的基體及其制造方法及顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及著色透明導(dǎo)電膜及附有著色透明導(dǎo)電膜的基體及其制造方法。此外，還涉及形成該著色透明導(dǎo)電膜的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液及以該基體為前面板的顯示裝置。
背景技術(shù)：
陰極射線管、熒光顯示管、等離子體顯示板等顯示裝置中，以高對比化·電磁波屏蔽等為目的，在透明的前面板(例如，如果是陰極射線管，就是面板)的外表面形成著色透明導(dǎo)電膜，且在著色透明導(dǎo)電膜上還形成了低折射率的透明膜，以此賦予防反射功能。
以防帶電為目的而形成的以往的導(dǎo)電膜只要具有1×105Ω/□左右的表面電阻值就足夠了，但以電磁波屏蔽為目的形成的導(dǎo)電膜的表面電阻值必須在1×104Ω/□以下，更好的是在1×102Ω/□以下。
近年，與利用透明基體本身進(jìn)行透過圖像的色調(diào)控制相比，利用透明基體的表面處理進(jìn)行透過圖像的色調(diào)控制從成本等方面考慮較有利，由于對透明導(dǎo)電膜著色，所以大多數(shù)情況下能夠使其具有色調(diào)控制的功能。
具有上述功能的著色透明導(dǎo)電膜通過涂布分散有金、鉑、銀、鈀等貴金屬微粒的溶液而形成。但是，金、鉑和鈀的價格較高，銀對鹽酸和食鹽水等的耐腐蝕性較低，所以提出了使用釕的著色透明導(dǎo)電膜。
但是，僅使用釕的情況下，由于可視光的短波長側(cè)的透光率較低，所以存在透過圖像的色調(diào)不能成為中性色調(diào)的問題。因此，必須大量使用補色材料來校正色調(diào)。但是，使用補色材料后，表面電阻值上升，導(dǎo)致電磁波的屏蔽性能下降，成本提高，出現(xiàn)耐擦傷性和耐腐蝕性下降等問題。
本發(fā)明的目的是提供能夠形成具有電磁波屏蔽效果、透明度和耐腐蝕性及耐擦傷性良好、透過色調(diào)為中性的著色透明導(dǎo)電膜的使用了釕微粒的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液。此外，還提供了附有該著色透明導(dǎo)電膜的基體及其制造方法，以及以該基體為前面板的顯示裝置。
發(fā)明的揭示本發(fā)明提供了以含有釕以外的貴金屬微粒載持于釕而形成的載有貴金屬的釕微粒(以下稱為貴金屬-Ru)為特征的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液(以下稱為本涂布液)。
此外，本發(fā)明提供了在含有釕微粒的分散介質(zhì)中添加還原劑后，通過添加釕以外的貴金屬的化合物而形成著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液的制造方法；將本涂布液涂布于基體上而形成著色透明導(dǎo)電膜的附有著色透明導(dǎo)電膜的基體的制造方法；將本涂布液涂布于基體上，然后涂布含有硅醇鹽的涂布液而形成著色透明導(dǎo)電膜的附有著色透明導(dǎo)電膜的基體的制造方法。
此外，本發(fā)明提供了以前述制造方法獲得的附有著色透明導(dǎo)電膜的基體。提供了用前述制造方法獲得的附有著色透明導(dǎo)電膜的基體，該基體在400～700nm的波長范圍內(nèi)的透過率的最大值TMAX和最小值TMIN之比TMIN/TMAX在0.85以上，且具備良好的耐擦傷性。還提供了以前述附有著色透明導(dǎo)電膜的基體為面板、在前述面板的外側(cè)表面形成了前述著色透明導(dǎo)電膜的陰極射線管。
對附圖的簡單說明

圖1為例1的低反射著色透明導(dǎo)電膜的透過光譜。
圖2為例2的低反射著色透明導(dǎo)電膜的透過光譜。
圖3為例3的低反射著色透明導(dǎo)電膜的透過光譜。
圖4為例4的低反射著色透明導(dǎo)電膜的透過光譜。
圖5為例5的低反射著色透明導(dǎo)電膜的透過光譜。
圖6為例6的低反射著色透明導(dǎo)電膜的透過光譜。
實施發(fā)明的最佳方式使釕化合物(較好為釕鹽)溶于溶劑(較好為水或有機溶劑)，根據(jù)需要用氨等調(diào)整pH后添加還原劑而獲得本涂布液中所含的釕微粒。然后，通過攪拌等操作進(jìn)行溶膠化。此時，為了提高釕微粒的分散性，可通過紅外線的照射、紫外線的照射、氧化物的添加和加熱處理等使釕微粒的表面部分氧化。
前述釕鹽可使用亞硝基硝酸釕等硝酸鹽，氯化釘、氯化釕銨、氯化釕鉀、氯化釕鈉等氯化物，乙酸釕等乙酸鹽等。
前述還原劑可使用硼氫化鈉、硼氫化鉀、氫化鈉、氫化鉀等氫化物，甲酸、次膦酸等有機酸，次膦酸鈉和羅謝爾鹽等無機酸鹽。
前述釕微粒中的釕還包含釕氧化物及/或釕氫氧化物。前述釕也可不載持其他金屬。前述其他金屬為選自金、銀、鉑、鈀、銠、銅、鈷、錫、銦及鉭的1種以上的金屬及/或該金屬的氧化物。此外，前述其他金屬的添加量對應(yīng)于釕以金屬換算(氧化物時也換算為金屬)較好為0.1～100質(zhì)量％。
前述釕微粒中的釕也可使釕和前述其他金屬合金化后形成釕合金。這種情況下的其他金屬從耐腐蝕性方面考慮，特別好的是室溫下容易與釕形成固溶體的金屬，其例子包括選自鈷、鐵及鈀的1種以上的金屬，前述釕合金可以被氧化。
使釕微粒載持釕以外的貴金屬(以下簡稱為貴金屬)的微粒的方法，可例舉在含有釕微粒的分散介質(zhì)中添加還原劑后再添加貴金屬的化合物(較好為貴金屬鹽)的方法。此外，其他載持方法包括在含有釕微粒的分散介質(zhì)中添加貴金屬化合物(較好為貴金屬鹽)后再添加還原劑的方法。
本發(fā)明所用的貴金屬的平衡電位比釕的平衡電位最好大0.42～2.0V。在貴金屬的平衡電位比釕的平衡電位小的情況下，載持的貴金屬微粒和釕微粒間形成了局部電池，載持的貴金屬微粒再溶解，很難載持貴金屬微粒。易載持的貴金屬微粒為選自金、鉑、鈀、銠及鋨的1種以上的金屬。
釕微粒載持貴金屬微粒的情況下，為使所得著色透明導(dǎo)電膜的透明色調(diào)更偏向中性色調(diào)(即，透過率對波長的依賴性較小)，最好在釕中添加貴金屬化合物使貴金屬達(dá)到0.1～300摩爾％。從使微粒和微粒的接合部分的接觸電阻下降，所得著色透明導(dǎo)電膜的表面電阻值下降的角度考慮，特別好的是對應(yīng)于釕，貴金屬達(dá)到5～60摩爾％。
貴金屬-Ru最好是單分散的粒子，其平均粒徑較好為10～100nm。平均粒徑如果超過100nm，則難以分散，同時光吸收較大，著色透明導(dǎo)電膜的透光率下降，同時濁度變大，所以不好。如果平均粒徑不足10nm，則貴金屬-Ru的表面電阻值急劇增大，所得著色透明導(dǎo)電膜的表面電阻值也急劇增大，所以不好。平均粒徑最好為30～60nm。
貴金屬-Ru在分散介質(zhì)中必須均勻分散，最好進(jìn)行攪拌。例如，采用膠體研磨機、球磨機、砂磨機、高速混合機等粉碎機。此外，在使微粒分散時，為了提高分散效率，最好在20～200℃的范圍內(nèi)加熱。在分散介質(zhì)的沸點以上攪拌時，在加壓能夠保持在液相的狀態(tài)下進(jìn)行。這樣獲得貴金屬-Ru以膠體粒子分散的水性溶膠或有機溶膠。
前述水性溶膠或有機溶膠可作為涂布液直接使用。此外，為了提高對基體的潤濕性，也可濃縮水性溶膠或有機溶膠，形成所得貴金屬-Ru分散于有機溶劑的涂布液，也可用有機溶劑置換水性溶膠中的水分而形成涂布液。有機溶劑可使用選自醇類(甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇等各種丁醇等)、醚類(乙二醇一乙醚、乙二醇一甲醚、乙二醇一丁醚、丙二醇一甲醚等)、酮類(2，4-戊二酮、雙丙酮醇等)、酯類(乳酸乙酯、乳酸甲酯等)的1種以上的溶劑。
此外，為了調(diào)節(jié)涂布液的粘度、表面張力及潤濕擴散性，本涂布液中還可添加起粘合劑作用的基質(zhì)成分。具體來講，可添加M(OR)X·R′4-X(M為硅、鈦或鋯，R及R′分別獨立地表示烷基，X為1、2、3或4)表示的金屬醇鹽及/或它們的部分水解物。
為了提高對基體的潤濕性，本涂布液中還可添加表面活性劑。表面活性劑包括烷基苯磺酸鈉和烷基醚硫酸酯等。
從本涂布液的流動性、本涂布液中的貴金屬-Ru的分散性的角度考慮，本涂布液中的貴金屬-Ru的濃度較好為0.1～3質(zhì)量％，特別好為0.3～0.8質(zhì)量％。
在基體上涂布本涂布液的方法包括旋轉(zhuǎn)涂布法、浸涂法和噴涂法等。采用噴涂法在表面形成凹凸可賦予防目眩的功能。另外，可在著色透明導(dǎo)電膜上設(shè)置硅被膜等硬涂層和不目眩的涂層。
為了防止本涂布液中的溶劑在著色透明導(dǎo)電膜中的殘留，最好對著色透明導(dǎo)電膜進(jìn)行加熱處理。加熱溫度可在低于基體軟化點的溫度范圍內(nèi)任意選擇，例如，為陰極射線管用面板的情況下，較好的加熱溫度為100～500℃。
所得著色透明導(dǎo)電膜的膜厚可根據(jù)涂布時的基體溫度、涂布液的濃度等作任意的調(diào)整，較好為20～100nm。膜厚如果小于20nm，則微粒在基體上難以均勻分散，不易得到希望的導(dǎo)電性，膜厚如果超過100nm，則膜對光的吸收過強，可視光透過率容易下降，所以都不理想。膜厚最好為20～60nm。
為使附有著色透明導(dǎo)電膜的基體的透過色調(diào)為中性色調(diào)，400～700nm的波長范圍內(nèi)的附有著色透明導(dǎo)電膜的基體的透過率的最大值TMAX和最小值TMIN之比TMIN/TMAX較好是在0.85以上。如果低于0.85，則通過目視可確認(rèn)黑色以外的著色，很難形成所希望的透過色調(diào)。TMIN/TMAX值最好是在0.90以上。
為使通過涂布本涂布液而形成的著色透明導(dǎo)電膜的透過色調(diào)為中性色調(diào)，必須使本涂布液中的釕微粒載持釕以外的貴金屬微粒。載持是指使某種金屬析出或吸附于支承體上。涂布含有未載持貴金屬微粒的釕微粒的涂布液而形成的膜的透過色調(diào)不是中性的，且耐擦傷性下降。使透過色調(diào)為中性色調(diào)的理由可能是載持貴金屬微粒后導(dǎo)致貴金屬微粒的性質(zhì)很難顯現(xiàn)。
此外，在著色透明導(dǎo)電膜上形成比前述著色透明導(dǎo)電膜的折射率低的膜，從而形成低反射著色透明導(dǎo)電膜。
例如，基體為玻璃(折射率n＝1.52)時，在著色透明導(dǎo)電膜上形成(導(dǎo)電膜的折射率)/(低折射率膜的折射率)之比約為1.23的低折射率膜，可最大限度地使可視光反射率下降。
以含有MgF2溶膠的溶劑及/或含有硅醇鹽的溶劑為涂布液形成低折射率膜。例如，基體為玻璃時，使用含有MgF2溶膠的溶劑形成的低折射率膜從減低反射率方面看是有利的，用含硅醇鹽的溶劑形成的低折射率膜具備良好的膜硬度和耐擦傷性。
含有硅醇鹽的溶劑包括含有Si(OQ)y·Q′4-y(Q及Q′分別獨立地表示烷基，y為3或4)表示的硅醇鹽及/或它們的部分水解物的溶劑。硅醇鹽較好可使用四乙醇硅、四甲醇硅、四異丙醇硅和四異丁醇硅等。
硅醇鹽也可溶于醇、酯和醚等溶劑中后再使用。此外，也可以在前述溶液中添加鹽酸、硝酸、硫酸、乙酸、甲酸、馬來酸、氫氟酸、氨水溶液等使硅醇鹽水解后再使用。從涂布液的保存穩(wěn)定性考慮，硅醇鹽的濃度對應(yīng)于溶劑以SiO2換算較好為0.1～30質(zhì)量％。
為了提高低折射率膜的強度，可在涂布液中添加粘合劑。粘合劑最好使用選自鋯、鈦、錫及鋁的1種以上的金屬的醇鹽及它們的部分水解物。
形成于著色透明導(dǎo)電膜上的低折射率膜的膜厚可任意調(diào)整。較好的膜厚為30～100nm。如果在前述膜厚范圍之外，則因雙重干涉效果使低反射性不能夠充分實現(xiàn)，更好的是在30～80nm的范圍內(nèi)。
本發(fā)明中，可在著色透明導(dǎo)電膜的上層或上層和下層形成低折射率膜，從而構(gòu)成多層導(dǎo)電膜。典型的例子是以防反射的光(例如，作為可視光的波長500～550nm的光)的波長為λ，則從基體側(cè)開始形成高折射率層-低折射率層的光學(xué)厚度為λ/2-λ/4或λ/4-λ/4的2層低反射膜，由基體側(cè)開始形成中折射率層-高折射率層-低折射率層的光學(xué)厚度為λ/4-λ/2-λ/4的3層低反射膜，或由基體側(cè)開始形成低折射率層-中折射率層-高折射率層-低折射率層的光學(xué)厚度為λ/2-λ/2-λ/2-λ/4的4層低反射膜等。
本發(fā)明的著色透明導(dǎo)電膜可作為前述中折射率層或前述高折射率層使用。
本發(fā)明的基體最好為透明的基體，例如，較好為玻璃和塑料等材料。此外，基體的形狀可包括平板、曲板、立體物和薄膜等。本發(fā)明的顯示裝置包括陰極射線管、熒光顯示管和等離子體顯示板等。這些顯示裝置的前面板(即，顯示圖像的部分，例如，顯示裝置為陰極射線管時，前面板即為面板)的外側(cè)表面形成前述著色透明導(dǎo)電膜，也可在外側(cè)表面和內(nèi)側(cè)表面形成前述著色透明導(dǎo)電膜。
實施例以下，例舉本發(fā)明的實施例進(jìn)行進(jìn)一步的說明，但本發(fā)明并不僅限于此。例1～3為實施例，例4～6為比較例，所得膜(或附有膜的基體)的評價方法如下所述。
1)表面電阻值利用ロ一レスタ電阻測定器(三菱化學(xué)公司制)測定陰極射線管用面板的外側(cè)表面上形成的膜的表面電阻值(單位Ω/□)。
2)TMIN/TMAX在400～700nm的波長范圍內(nèi)，用分光光度計(島津制作所制UV-2100)測定形成了膜的陰極射線管用面板切出的附有膜的玻璃片的透過率，再由該附有膜的玻璃片的透過率減去作為空白值測定的陰極射線管用面板的玻璃片(無膜)的透過率，由該波長范圍內(nèi)的透過率的最大值TMAX和最小值TMIN算出TMIN/TMAX。
3)耐擦傷性在9.8N負(fù)荷下，用橡皮擦(獅王株式會社制50-50)來回擦拭陰極射線管用面板表面形成的膜表面50次后，目視判斷該表面的擦傷程度。評價基準(zhǔn)是○完全無擦傷，△略有擦傷，×出現(xiàn)部分膜剝離。評價為“○”的利于實際使用。
4)鉛筆硬度測定陰極射線管用面板表面上形成的膜的“鉛筆畫痕值”(JISK5400)。在8H以上利于實際使用。
5)可視光反射率利用GAMMA分光反射率光譜測定器對陰極射線管用面板表面上形成的膜的可視光反射率進(jìn)行測定。為了抑制從面板背面的反射，將陰極射線管用面板背面涂黑以供測定。在0.5％以下利于實際使用。
6)膜透過率利用分光光度計(島津制作所制UV-2100)對形成了膜的陰極射線管用面板切出的附有膜的玻璃片的透過率進(jìn)行測定。再由該附有膜的玻璃片的透過率減去作為空白值測定的陰極射線管用面板的玻璃片(無膜)的透過率，算出555nm的膜透過率。在55～65％的范圍內(nèi)利于實際使用。
7)耐腐蝕性測定在0.5摩爾/升的鹽酸水溶液中浸泡5天前后的555nm的膜透過率之差的絕對值Δ(％)。值越大表示耐腐蝕性越差，在2.0％以下利于實際使用。
8)透過光譜在400～700nm的波長范圍內(nèi)，利用分光光度計(島津制作所制UV-2100)對形成了膜的陰極射線管用面板切出的附有膜的玻璃片的透過率進(jìn)行測定。再由該附有膜的玻璃片的透過率減去作為空白值測定的陰極射線管用面板的玻璃片(無膜)的透過率。
此外，用粒徑分布測定裝置(日機裝社制マイクロトラックUPA)，在涂布液中的微粒未凝集的條件下測定粒徑，由粒度分布算出粒徑的中位值作為平均粒徑。
實施例及比較例中的陰極射線管用面板為17型(即，對角線長約442mm，長短比為4∶3，外表面的曲率為40000mm)的平面板(色調(diào)為透明)和漏斗狀部件用玻料在升溫過程中真空熔融，再冷卻到室溫后形成的面板。
稀釋液、釕水溶膠、二氧化硅溶液及金水溶膠按照以下步驟調(diào)制。
將水/乙醇/甲醇/丙二醇一甲醚按照50/42/5/3的質(zhì)量比混合而形成的溶液作為稀釋液使用。
在三氯化釕水溶液(釕組分為0.1質(zhì)量％)中加入對應(yīng)于釕為4倍摩爾的硼氫化鈉使釕還原析出，攪拌后，獲得含有平均粒徑為20nm的釕微粒的水溶膠。然后進(jìn)行濃縮，獲得釕微粒濃度為0.5質(zhì)量％的釕水溶膠。未確認(rèn)該水溶膠中有未反應(yīng)的硼氫化鈉。
在四乙醇硅的乙醇溶液中加入適量的稀鹽酸，使乙醇鹽全部水解，再加入適量的乙醇，調(diào)制出含有5質(zhì)量％的二氧化硅組分的乙醇溶液。然后，用前述稀釋液稀釋，獲得二氧化硅組分為0.8質(zhì)量％的二氧化硅溶液。
在氯金酸水溶液(金組分為0.1質(zhì)量％)中加入對應(yīng)于金為2倍摩爾的甲醛使金還原析出，攪拌后，獲得含有平均粒徑為18nm的金微粒的水溶膠。然后進(jìn)行濃縮，獲得金微粒濃度為0.5質(zhì)量％的金水溶膠。未確認(rèn)該水溶膠中有未反應(yīng)的甲醛。
準(zhǔn)備含有對應(yīng)于添加的釕水溶膠中的釕相當(dāng)于11摩爾％的金組分的氯金酸水溶液及添加了作為還原劑的對應(yīng)于釕相當(dāng)于11摩爾％(即，與金等摩爾)的硼氫化鈉的0.5質(zhì)量％的釕水溶膠。
在氯金酸水溶液中添加上述含還原劑的釕水溶膠制得載持金的釕水溶膠。溶膠中的粒子的平均粒徑為30nm。濃縮該水溶膠使金屬組分濃度為3.0質(zhì)量％后，用前述稀釋液稀釋，制得金屬組分濃度為0.5質(zhì)量％的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液。
利用旋轉(zhuǎn)涂布法在陰極射線管用面板的外表面以150次/分鐘的速度涂布該涂布液，歷時100秒。室溫干燥后，利用旋轉(zhuǎn)涂布法以150次/分鐘的速度在著色透明導(dǎo)電膜上涂布0.8質(zhì)量％的二氧化硅溶液，歷時100秒。室溫干燥后，于180℃加熱30分鐘，在著色透明導(dǎo)電膜上形成層疊了SiO2低折射率膜的低反射著色透明導(dǎo)電膜。所得低反射著色透明導(dǎo)電膜的評價結(jié)果和透過光譜如表1及圖1所示(以下的例2～6的評價結(jié)果和透過光譜同樣示于表1及圖2～6)。
準(zhǔn)備含有對應(yīng)于添加的釕水溶膠中的釕相當(dāng)于12摩爾％的鉑組分的氯化鉑酸水溶液及添加了作為還原劑的對應(yīng)于釕相當(dāng)于24摩爾％(即，鉑的2倍摩爾)的甲醛的0.5質(zhì)量％的釕水溶膠。
在氯化鉑酸水溶液中添加上述含還原劑的釕水溶膠制得載持鉑的釕水溶膠。溶膠中的粒子的平均粒徑為52nm。濃縮該水溶膠使金屬組分濃度為2.0質(zhì)量％后，用前述稀釋液稀釋，制得金屬組分濃度為0.5質(zhì)量％的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液。與例1同樣，用該涂布液和0.8質(zhì)量％的二氧化硅溶液對陰極射線管用面板的外表面進(jìn)行處理，形成低反射著色透明導(dǎo)電膜。
準(zhǔn)備含有對應(yīng)于添加的釕水溶膠中的釕相當(dāng)于19摩爾％的鈀組分的乙酸鈀水溶液及添加了作為還原劑的對應(yīng)于釕相當(dāng)于47.5摩爾％(即，鈀的2.5倍摩爾)的甲醛的0.5質(zhì)量％的釕水溶膠。
在乙酸鈀水溶液中添加上述含還原劑的釕水溶膠制得載持鈀的釕水溶膠。溶膠中的粒子的平均粒徑為34nm。濃縮該水溶膠使金屬組分濃度為4.5質(zhì)量％后，用前述稀釋液稀釋，制得金屬組分濃度為0.5質(zhì)量％的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液。與例1同樣，用該涂布液和0.8質(zhì)量％的二氧化硅溶液對陰極射線管用面板的外表面進(jìn)行處理，形成低反射著色透明導(dǎo)電膜。
濃縮未添加還原劑的0.5質(zhì)量％的釕水溶膠(水介質(zhì))，使金屬組分濃度為2.2質(zhì)量％后，用前述稀釋液稀釋，獲得金屬組分濃度為0.5質(zhì)量％的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液。與例1同樣，用該涂布液和0.8質(zhì)量％的二氧化硅溶液對陰極射線管用面板的外表面進(jìn)行處理，形成低反射著色透明導(dǎo)電膜。
混合0.5質(zhì)量％的釕水溶膠和含有對應(yīng)于該釕水溶膠中的釕相當(dāng)于18摩爾％的金組分的0.5質(zhì)量％的金水溶膠，獲得釕·金混合水溶膠。該溶膠中的粒子的平均粒徑為18nm?；谏鲜龌旌衔从^察到因粒子混合而出現(xiàn)的凝集。濃縮該釕·金混合水溶膠，使金屬組分濃度為2.0質(zhì)量％后，用稀釋液稀釋，獲得金屬組分濃度為0.4質(zhì)量％的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液。與例1同樣，用該涂布液和0.8質(zhì)量％的二氧化硅溶液對陰極射線管用面板的外表面進(jìn)行處理，形成低反射著色透明導(dǎo)電膜。
用砂磨機對作為藍(lán)色顏料的酞菁藍(lán)粉碎1小時使其分散，以水為溶劑調(diào)制出1.0質(zhì)量％的酞菁藍(lán)分散液。3/7(質(zhì)量比)的比例混合1.0質(zhì)量％的酞菁藍(lán)分散液/0.5質(zhì)量％的釕水溶膠。該溶液中的粒子的平均粒徑為300nm。用前述稀釋液稀釋，使單獨的釕微粒濃度為0.3質(zhì)量％，制得著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液。與例1同樣，用該涂布液和0.8質(zhì)量％的二氧化硅溶液對陰極射線管用面板的外表面進(jìn)行處理，形成低反射著色透明導(dǎo)電膜。
表1

產(chǎn)業(yè)上利用的可能性在基體上涂布本涂布液，能夠形成具有電磁波遮蔽效果、透明度和耐腐蝕性及耐擦傷性良好、透過色調(diào)為中性的著色透明導(dǎo)電膜。由于本發(fā)明使用了釕微粒，所以能夠以較低的成本進(jìn)行制造，特別適用于陰極射線管用面板等大面積的基體，也易于大批量的生產(chǎn)，工業(yè)價值很高。
權(quán)利要求
1.著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液，其特征在于，含有釕以外的貴金屬微粒載持于釕而形成的載有貴金屬的釕微粒。
2.如權(quán)利要求1所述的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液，其特征還在于，前述貴金屬為選自金、鉑、鈀、銠及鋨的1種以上的金屬。
3.著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液的制造方法，其特征在于，在含有釕微粒的分散介質(zhì)中添加還原劑后，通過添加釕以外的貴金屬的化合物，形成著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液。
4.附有著色透明導(dǎo)電膜的基體的制造方法，其特征在于，在基體上涂布權(quán)利要求1、2或3所述的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液而形成著色透明導(dǎo)電膜。
5.附有著色透明導(dǎo)電膜的基體的制造方法，其特征在于，在基體上涂布權(quán)利要求1、2或3所述的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液，然后涂布含硅醇鹽的涂布液而形成著色透明導(dǎo)電膜。
6.附有著色透明導(dǎo)電膜的基體，其特征在于，用權(quán)利要求4或5所述的制造方法制得。
7.附有著色透明導(dǎo)電膜的基體，所述基體用權(quán)利要求5所述的制造方法制得，其特征在于，在400～700nm的波長范圍內(nèi)的透過率的最大值TMAX和最小值TMIN之比TMIN/TMAX在0.85以上，且具備良好的耐擦傷性。
8.陰極射線管，其特征在于，以權(quán)利要求6或7所述的附有著色透明導(dǎo)電膜的基體為面板、在前述面板的外側(cè)表面形成了前述著色透明導(dǎo)電膜。
全文摘要
能夠形成具有電磁波遮蔽效果、透明度和耐腐蝕性及耐擦傷性良好、透過色調(diào)為中性的著色透明導(dǎo)電膜。提供了使用了釕微粒的著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液，附有該著色透明導(dǎo)電膜的基體及其制造方法，以及以該基體為前面板的顯示裝置。著色透明導(dǎo)電膜形成用涂布液的特征是，含有釕以外的貴金屬微粒載持于釕而形成的載有貴金屬的釕微粒。作為使前述貴金屬微粒載持的方法，例舉了在含有釕微粒的分散介質(zhì)中添加還原劑后，添加含有貴金屬化合物的溶液的方法。
文檔編號C03C17/36GK1513187SQ0281111
公開日2004年7月14日 申請日期2002年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2001年6月4日
發(fā)明者柏原智, 本谷敏 申請人:旭硝子株式會社