專利名稱：非放射性環(huán)保蓄能發(fā)光瓷磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種非放射性環(huán)保蓄能發(fā)光瓷磚，所述瓷磚上帶有非放射性的發(fā)光體。
本實(shí)用新型的目的是由下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種非放射性環(huán)保蓄能發(fā)光瓷磚，有一個瓷磚體，其要點(diǎn)在于在所述瓷磚體的表面上設(shè)有多個發(fā)光體，所述發(fā)光體上燒結(jié)有發(fā)光釉料層，所述發(fā)光體在所述瓷磚體的表面上形成凸埂式的紋理。本實(shí)用新型的所用釉料層由發(fā)光粉和透明熔塊制備而成，所述發(fā)光粉由碳酸鍶、三氧化二鋁、硼酸、三氧化二銪燒結(jié)而成。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)1、由于本實(shí)用新型采用稀土發(fā)光原料，不含對人體有害的放射性物質(zhì)，因此，使用安全。
2、由于本實(shí)用新型在瓷磚體上利用發(fā)光體形成特定的紋理，可以起到醒目提示作用。
3、本實(shí)用新型的瓷磚表面設(shè)有連續(xù)的紋理，可以提高瓷磚的堅(jiān)固性。


圖1、本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖圖2、本實(shí)用新型的實(shí)施例之二示意圖具體實(shí)施方式
參見
圖1，本實(shí)用新型的環(huán)保蓄能發(fā)光瓷磚，有一個瓷磚體1，在所述瓷磚體的表面上設(shè)有多個發(fā)光體2，所述發(fā)光體上燒結(jié)有發(fā)光釉料層3，所述發(fā)光體在所述瓷磚體的表面上形成凸埂式的紋理。本實(shí)施例的發(fā)光體是縱橫交錯的凸埂式的紋理。
在本實(shí)施例中，所述發(fā)光釉料層由發(fā)光粉和透明熔塊制成，所述發(fā)光粉由碳酸鍶、三氧化二鋁、硼酸、三氧化二銪燒結(jié)而成。其中所述透明熔塊由氧化鉀、氧化鈉、氧化鍶、氧化鈣及氧化鋅按常規(guī)配比制備而成；也可以采用由長石、石英、蘇州土、氧化鋅、鉛丹、硼砂、碳酸鈣、氧化鎂、碳酸鈉按常規(guī)配比制備而成。
在本實(shí)施例中，瓷磚坯體的原料由常用的材料構(gòu)成，即長石1000份、石英600-1500份、粘土1600-2500份、稀釋劑8-32份。
本實(shí)施例的瓷磚制作工序是制作磚坯，磚坯烘干、釉料層涂敷、燒制；燒制溫度800-1200℃。
參見圖2，本實(shí)用新型的第二個實(shí)施例，本實(shí)施例有一個瓷磚體1，在所述瓷磚體的表面上設(shè)有多個凹槽式發(fā)光體4，所述發(fā)光體上燒結(jié)有發(fā)光釉料層5，所述發(fā)光體在所述瓷磚體的表面上形成凹槽式紋理。本實(shí)施例的原料配方與制作工藝與實(shí)施例一相同，在此不一一敘述。
本實(shí)用新型除了上述實(shí)施例以外，還可以將所述發(fā)光體設(shè)計(jì)成指示標(biāo)志(例如箭頭)，在所述瓷磚體的表面上形成凸起式發(fā)光指示標(biāo)志。
權(quán)利要求1.一種非放射性環(huán)保蓄能發(fā)光瓷磚，有一個瓷磚體，其特征在于在所述瓷磚體的表面上設(shè)有多個發(fā)光體，所述發(fā)光體上燒結(jié)有發(fā)光釉料層，所述發(fā)光體在所述瓷磚體的表面上形成凸埂式的紋理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)保蓄能發(fā)光瓷磚，其特征在于所述發(fā)光體在所述瓷磚體的表面上形成凹槽式紋理。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)保蓄能發(fā)光瓷磚，其特征在于所述發(fā)光釉料層由發(fā)光粉和透明熔塊制備而成，所述發(fā)光粉由碳酸鍶、三氧化二鋁、硼酸、三氧化二銪燒結(jié)而成。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種非放射性環(huán)保蓄能發(fā)光瓷磚，有一個瓷磚體，在所述瓷磚體的表面上設(shè)有多個發(fā)光體，所述發(fā)光體上燒結(jié)有發(fā)光釉料層，所述發(fā)光體在所述瓷磚體的表面上形成凸埂式的紋理。本實(shí)用新型具有對人體無害，使用安全，發(fā)光提示醒目，發(fā)光釉面層堅(jiān)固的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號E04F15/08GK2605340SQ03242118
公開日2004年3月3日 申請日期2003年3月18日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月18日
發(fā)明者張貴洲 申請人:張貴洲